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公开(公告)号：CN119592916A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202411190591.3
申请日：2024-08-28
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: C23C14/24
Abstract: 一种蒸发装置包括：第一沉积源；第二沉积源，与第一沉积源一起在第一方向上；主体部件，在与第一方向交叉的第二方向上与第一沉积源和第二沉积源间隔开，并且包括在第二方向上的第一部分和第二部分；喷嘴主体部件，在主体部件上；第一管，连接到第一沉积源的面对主体部件和喷嘴主体部件的侧表面以及第一部分的下端；第二管，连接到第二沉积源的面对主体部件和喷嘴主体部件的侧表面以及第二部分的下端；第一喷嘴，从喷嘴主体部件向上突出；以及第二喷嘴，从喷嘴主体部件向上突出。
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公开(公告)号：CN109664595B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN201811182056.8
申请日：2018-10-11
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 公开了一种保护膜剥离设备，所述保护膜剥离设备包括：剥离带；带支撑部，设置在剥离带的一侧下方；第一按压部，设置在剥离带的所述一侧上并且将剥离带的所述一侧固定到带支撑部；第二按压部，设置在剥离带的另一侧上并且将剥离带的所述另一侧按压并附着到面板上的保护膜的虚设部分的一侧；以及抓握部，设置在虚设部分上。带支撑部和第一按压部剥离虚设部分的所述一侧和虚设部分的预定部分，抓握部剥离虚设部分的剩余部分。
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公开(公告)号：CN114476279A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210151624.8
申请日：2018-10-11
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: B65B69/00
Abstract: 提供了一种剥离保护膜的方法，所述方法包括以下步骤：将在第一方向上延伸的剥离带的一侧设置在带支撑部上；将设置在剥离带的所述一侧上的第一按压部在向下方向上移动以将剥离带的所述一侧按压并固定到带支撑部；将设置在剥离带的另一侧上的第二按压部在向下方向上移动以将剥离带的所述另一侧按压并附着到母面板的保护膜的虚设部分的一侧；将第二按压部在向上方向上移动并且将带支撑部和第一按压部在向上方向上移动以使虚设部分的所述一侧和虚设部分的预定部分剥离；以及通过用抓握部抓握虚设部分的被剥离的预定部分使虚设部分的剩余部分剥离。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114476279B
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202210151624.8
申请日：2018-10-11
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: B65B69/00
Abstract: 提供了一种剥离保护膜的方法，所述方法包括以下步骤：将在第一方向上延伸的剥离带的一侧设置在带支撑部上；将设置在剥离带的所述一侧上的第一按压部在向下方向上移动以将剥离带的所述一侧按压并固定到带支撑部；将设置在剥离带的另一侧上的第二按压部在向下方向上移动以将剥离带的所述另一侧按压并附着到母面板的保护膜的虚设部分的一侧；将第二按压部在向上方向上移动并且将带支撑部和第一按压部在向上方向上移动以使虚设部分的所述一侧和虚设部分的预定部分剥离；以及通过用抓握部抓握虚设部分的被剥离的预定部分使虚设部分的剩余部分剥离。
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公开(公告)号：CN109664595A
公开(公告)日：2019-04-23
申请号：CN201811182056.8
申请日：2018-10-11
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: B29C63/0013 , B32B43/006 , B32B2457/20 , B65H29/54 , B65H41/00 , B65H2801/61 , G02F1/1303 , B32B38/10 , B32B43/00
Abstract: 公开了一种保护膜剥离设备，所述保护膜剥离设备包括：剥离带；带支撑部，设置在剥离带的一侧下方；第一按压部，设置在剥离带的所述一侧上并且将剥离带的所述一侧固定到带支撑部；第二按压部，设置在剥离带的另一侧上并且将剥离带的所述另一侧按压并附着到面板上的保护膜的虚设部分的一侧；以及抓握部，设置在虚设部分上。带支撑部和第一按压部剥离虚设部分的所述一侧和虚设部分的预定部分，抓握部剥离虚设部分的剩余部分。
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公开(公告)号：CN103132015A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210387327.X
申请日：2012-10-12
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: C23C16/4404 , B05C21/005 , C23C14/042 , C23C16/042 , G03F1/00 , H01F41/22 , H01L51/0011
Abstract: 沉积掩模包括沉积掩模主体和涂层。掩模主体包括穿透掩模主体的多个狭缝。涂层涂覆于所述掩模主体的整个表面上。涂层由与掩模主体的材料不同的材料制成，并且其磁力强于掩模主体的磁力。狭缝中的每一个均具有开口区，并且涂层的厚度控制开口区的宽度。光刻处理被用来形成多个狭缝。
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公开(公告)号：CN222499335U
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202420903486.9
申请日：2024-04-28
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 一种沉积源包括：第一框架，包括第一坩埚的下部空间、第二坩埚的下部空间以及设置在所述第一坩埚的所述下部空间和所述第二坩锅的所述下部空间之间的第一分隔壁；以及第二框架，包括所述第一坩埚的上部空间、所述第二坩埚的上部空间、连接到所述第一坩埚的第一喷嘴、连接到所述第二坩埚的第二喷嘴以及设置在所述第一坩埚的所述上部空间和所述第二坩埚的所述上部空间之间的第二分隔壁，其中排放通道设置在所述第一框架的所述第一分隔壁和所述第二框架的所述第二分隔壁之间，并且所述第一分隔壁接触所述第二分隔壁。
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公开(公告)号：CN221254683U
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202322841780.X
申请日：2023-10-23
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 蒸镀装置包括：气化部，使彼此不同的第一材料、第二材料、第三材料气化；以及第一喷嘴部，与所述气化部相邻连接，所述第一喷嘴部包括：第一喷嘴孔，排出所述第一材料；第二喷嘴孔，与所述第一喷嘴孔邻接并排出所述第二材料；以及第三喷嘴孔，与所述第一喷嘴孔以及所述第二喷嘴孔邻接并排出所述第三材料。
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