显示装置和制造显示装置的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119730590A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411250211.0

    申请日:2024-09-06

    Abstract: 本公开涉及显示装置和制造显示装置的方法。所述显示装置包括:基底,具有发光区域和非发光区域;第一阳极电极,在所述基底的所述发光区域上;像素限定层,在所述基底的所述非发光区域上并且限定第一开口;有机分离层,在所述像素限定层上并且限定第二开口;第一发光层,在所述第一阳极电极上;公共电子层,在所述第一发光层和所述有机分离层上;以及公共电极,在所述公共电子层上,其中,所述有机分离层在平面图中不与所述发光区域重叠,并且所述有机分离层在平面图中与所述非发光区域重叠以与所述像素限定层、所述第一发光层和所述公共电子层接触。

    显示设备及制造显示设备的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119421616A

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202410921887.1

    申请日:2024-07-10

    Abstract: 公开了显示设备及制造显示设备的方法,显示设备包括:彼此间隔开的第一子像素电极和第二子像素电极;子像素限定层,覆盖第一子像素电极的边缘和第二子像素电极的边缘;第一堆叠,包括第一发射层和第一相对电极,在子像素限定层上,并且与第一子像素电极重叠;第二堆叠,包括第二发射层和第二相对电极,在子像素限定层上,并且与第二子像素电极重叠;第一封装层,覆盖第一堆叠的边缘和第二堆叠的边缘中的每个,并且包括与第一堆叠和第二堆叠中的每个重叠的第一开口以及在第一堆叠和第二堆叠之间的第二开口;以及公共电极,在第一封装层上并且电连接至第一堆叠的第一相对电极和第二堆叠的第二相对电极。

    衬底研磨装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107538337B

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN201710473797.0

    申请日:2017-06-21

    Abstract: 公开了衬底研磨装置,根据本发明的衬底研磨装置包括本体部件、连接部件、研磨柱部件和研磨环部件,其中,所述本体部件包括支承部和从所述支承部的中央区域突出的突出部,所述连接部件包括与所述突出部结合的结合部和从所述结合部的一部分突出的结合轴,所述研磨柱部件限定有供所述结合轴插入的结合槽,其中所述研磨柱部件的至少一部分在与所述结合轴的长度方向平行的截面上包括曲线,并且所述研磨环部件与所述支承部的边缘区域结合。

    衬底研磨装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107538337A

    公开(公告)日:2018-01-05

    申请号:CN201710473797.0

    申请日:2017-06-21

    Abstract: 公开了衬底研磨装置,根据本发明的衬底研磨装置包括本体部件、连接部件、研磨柱部件和研磨环部件,其中,所述本体部件包括支承部和从所述支承部的中央区域突出的突出部,所述连接部件包括与所述突出部结合的结合部和从所述结合部的一部分突出的结合轴,所述研磨柱部件限定有供所述结合轴插入的结合槽,其中所述研磨柱部件的至少一部分在与所述结合轴的长度方向平行的截面上包括曲线,并且所述研磨环部件与所述支承部的边缘区域结合。

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