沉积设备
    3.
    发明公开
    沉积设备 审中-公开

    公开(公告)号:CN118222982A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202311749437.0

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 实施例提供一种沉积设备,所述沉积设备包括:室;以及沉积源,设置在所述室中并且包括沿第一方向布置的多个喷嘴。所述多个喷嘴包括至少一个第一喷嘴,所述至少一个第一喷嘴包括喷射第一沉积材料的第一喷嘴孔和喷射第二沉积材料的第二喷嘴孔,并且所述沉积源进一步包括至少一个角度控制结构,所述至少一个角度控制结构围绕所述至少一个第一喷嘴。

    有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法

    公开(公告)号:CN110117770A

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201811357355.0

    申请日:2018-11-15

    Abstract: 本发明公开一种有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法。本发明的有机物沉积装置设置于真空腔室内,并包括:沉积物质供应部;容器部,存储从沉积物质供应部供应的沉积物质;气化部,在内部设置有使沉积物质气化的第一加热器;移送部,结合于容器部,借助直线往复运动而将容器部移送至所述气化部的内部;以及喷嘴部,与气化部分离布置,且借助连接管而与气化部连通,并具有向基板喷射沉积物质的通道。

    蒸发装置
    5.
    发明公开
    蒸发装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119592916A

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202411190591.3

    申请日:2024-08-28

    Abstract: 一种蒸发装置包括:第一沉积源;第二沉积源,与第一沉积源一起在第一方向上;主体部件,在与第一方向交叉的第二方向上与第一沉积源和第二沉积源间隔开,并且包括在第二方向上的第一部分和第二部分;喷嘴主体部件,在主体部件上;第一管,连接到第一沉积源的面对主体部件和喷嘴主体部件的侧表面以及第一部分的下端;第二管,连接到第二沉积源的面对主体部件和喷嘴主体部件的侧表面以及第二部分的下端;第一喷嘴,从喷嘴主体部件向上突出;以及第二喷嘴,从喷嘴主体部件向上突出。

    沉积设备
    7.
    发明公开
    沉积设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN116463612A

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202310062326.6

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 本公开涉及一种沉积设备和清洁所述沉积设备的方法。所述沉积设备包括:工艺腔室;残余气体分析仪,连接到所述工艺腔室;清洁气体供应器,连接到所述工艺腔室;以及驱动器,连接到所述残余气体分析仪与所述清洁气体供应器,并控制所述残余气体分析仪与所述清洁气体供应器。

    沉积装置
    8.
    发明公开
    沉积装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN113755811A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202110612779.2

    申请日:2021-06-02

    Abstract: 根据本发明的一实施例,沉积装置包括:壳体;喷嘴,设置在所述壳体上,并且限定有第一喷嘴孔和与所述第一喷嘴孔相邻的第二喷嘴孔;坩埚,设置在所述壳体的内部,并且具备收容第一沉积物质的第一坩埚及收容第二沉积物质的第二坩埚;以及连接部,具备设置在所述第一喷嘴孔与所述第一坩埚之间的第一管及设置在所述第二喷嘴孔与所述第二坩埚之间的第二管。

    沉积源
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN222499335U

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202420903486.9

    申请日:2024-04-28

    Abstract: 一种沉积源包括:第一框架,包括第一坩埚的下部空间、第二坩埚的下部空间以及设置在所述第一坩埚的所述下部空间和所述第二坩锅的所述下部空间之间的第一分隔壁;以及第二框架,包括所述第一坩埚的上部空间、所述第二坩埚的上部空间、连接到所述第一坩埚的第一喷嘴、连接到所述第二坩埚的第二喷嘴以及设置在所述第一坩埚的所述上部空间和所述第二坩埚的所述上部空间之间的第二分隔壁,其中排放通道设置在所述第一框架的所述第一分隔壁和所述第二框架的所述第二分隔壁之间,并且所述第一分隔壁接触所述第二分隔壁。

    沉积设备
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221626359U

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202323463651.8

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 实施例提供一种沉积设备,所述沉积设备包括:室;以及沉积源,设置在所述室中并且包括沿第一方向布置的多个喷嘴。所述多个喷嘴包括至少一个第一喷嘴,所述至少一个第一喷嘴包括喷射第一沉积材料的第一喷嘴孔和喷射第二沉积材料的第二喷嘴孔,并且所述沉积源进一步包括至少一个角度控制结构,所述至少一个角度控制结构围绕所述至少一个第一喷嘴。

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