-
公开(公告)号:CN113463028A
公开(公告)日:2021-10-01
申请号:CN202110337807.4
申请日:2021-03-30
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明公开了一种显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法。本发明包括:传感器部,包括测量从沉积源喷射的沉积物质的沉积厚度的多个传感器;第一加热器部,布置于第一区域而加热所述多个传感器中的布置于所述第一区域的第一传感器;以及第二加热器部,布置于与所述第一区域不同的第二区域而加热所述多个传感器中的布置于所述第二区域的第二传感器。
-
公开(公告)号:CN108690955A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201810315462.0
申请日:2018-04-10
Applicant: 三星显示有限公司
CPC classification number: B05B15/68 , B05B13/00 , B05D1/02 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/505 , C23C14/541 , C23C14/542 , C23C16/4401 , C23C16/4485 , C23C16/4486 , C23C16/45512 , C23C16/45517 , C23C16/45521 , C23C16/45565 , C23C16/4557 , C23C16/45574 , C23C16/45591 , C23C16/4584 , C23C16/46 , H01L51/001 , C23C14/24 , G09F9/00
Abstract: 公开了用于制造显示设备的设备和方法。该设备包括腔室、沉积源、喷头、衬底固定件和防沉积件。沉积源位于腔室外部并使沉积材料蒸发或升华。喷头位于腔室中、与至少一个沉积源连接并且将沉积材料同时喷射到显示衬底的整个表面上。衬底固定件与腔室连接并且线性地移动,其中,显示设备安装在衬底固定件上。防沉积件在腔室中围绕喷头的边缘部分和衬底固定件的边缘部分。防沉积件在沉积过程期间被加热。
-
公开(公告)号:CN118222982A
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202311749437.0
申请日:2023-12-19
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 实施例提供一种沉积设备,所述沉积设备包括:室;以及沉积源,设置在所述室中并且包括沿第一方向布置的多个喷嘴。所述多个喷嘴包括至少一个第一喷嘴,所述至少一个第一喷嘴包括喷射第一沉积材料的第一喷嘴孔和喷射第二沉积材料的第二喷嘴孔,并且所述沉积源进一步包括至少一个角度控制结构,所述至少一个角度控制结构围绕所述至少一个第一喷嘴。
-
公开(公告)号:CN110117770A
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201811357355.0
申请日:2018-11-15
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明公开一种有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法。本发明的有机物沉积装置设置于真空腔室内,并包括:沉积物质供应部;容器部,存储从沉积物质供应部供应的沉积物质;气化部,在内部设置有使沉积物质气化的第一加热器;移送部,结合于容器部,借助直线往复运动而将容器部移送至所述气化部的内部;以及喷嘴部,与气化部分离布置,且借助连接管而与气化部连通,并具有向基板喷射沉积物质的通道。
-
公开(公告)号:CN119592916A
公开(公告)日:2025-03-11
申请号:CN202411190591.3
申请日:2024-08-28
Applicant: 三星显示有限公司
IPC: C23C14/24
Abstract: 一种蒸发装置包括:第一沉积源;第二沉积源,与第一沉积源一起在第一方向上;主体部件,在与第一方向交叉的第二方向上与第一沉积源和第二沉积源间隔开,并且包括在第二方向上的第一部分和第二部分;喷嘴主体部件,在主体部件上;第一管,连接到第一沉积源的面对主体部件和喷嘴主体部件的侧表面以及第一部分的下端;第二管,连接到第二沉积源的面对主体部件和喷嘴主体部件的侧表面以及第二部分的下端;第一喷嘴,从喷嘴主体部件向上突出;以及第二喷嘴,从喷嘴主体部件向上突出。
-
公开(公告)号:CN116695065A
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202310099515.0
申请日:2023-02-10
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 本发明一实施例公开了一种沉积源,所述沉积源包括:壳体,沉积物质容纳在所述壳体的内部;多个第一喷嘴,朝向在第一方向上进行相对移动的掩模组件喷射所述沉积物质;第二喷嘴,布置在所述多个第一喷嘴中的至少一部分第一喷嘴的外侧,并且在所述第一方向和与所述第一方向垂直的第二方向上与所述第一喷嘴间隔开并围绕所述第一喷嘴。
-
-
公开(公告)号:CN113755811A
公开(公告)日:2021-12-07
申请号:CN202110612779.2
申请日:2021-06-02
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 根据本发明的一实施例,沉积装置包括:壳体;喷嘴,设置在所述壳体上,并且限定有第一喷嘴孔和与所述第一喷嘴孔相邻的第二喷嘴孔;坩埚,设置在所述壳体的内部,并且具备收容第一沉积物质的第一坩埚及收容第二沉积物质的第二坩埚;以及连接部,具备设置在所述第一喷嘴孔与所述第一坩埚之间的第一管及设置在所述第二喷嘴孔与所述第二坩埚之间的第二管。
-
公开(公告)号:CN222499335U
公开(公告)日:2025-02-18
申请号:CN202420903486.9
申请日:2024-04-28
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 一种沉积源包括:第一框架,包括第一坩埚的下部空间、第二坩埚的下部空间以及设置在所述第一坩埚的所述下部空间和所述第二坩锅的所述下部空间之间的第一分隔壁;以及第二框架,包括所述第一坩埚的上部空间、所述第二坩埚的上部空间、连接到所述第一坩埚的第一喷嘴、连接到所述第二坩埚的第二喷嘴以及设置在所述第一坩埚的所述上部空间和所述第二坩埚的所述上部空间之间的第二分隔壁,其中排放通道设置在所述第一框架的所述第一分隔壁和所述第二框架的所述第二分隔壁之间,并且所述第一分隔壁接触所述第二分隔壁。
-
公开(公告)号:CN221626359U
公开(公告)日:2024-08-30
申请号:CN202323463651.8
申请日:2023-12-19
Applicant: 三星显示有限公司
Abstract: 实施例提供一种沉积设备,所述沉积设备包括:室;以及沉积源,设置在所述室中并且包括沿第一方向布置的多个喷嘴。所述多个喷嘴包括至少一个第一喷嘴,所述至少一个第一喷嘴包括喷射第一沉积材料的第一喷嘴孔和喷射第二沉积材料的第二喷嘴孔,并且所述沉积源进一步包括至少一个角度控制结构,所述至少一个角度控制结构围绕所述至少一个第一喷嘴。
-
-
-
-
-
-
-
-
-