公开(公告)号：CN112289735A

公开(公告)日：2021-01-29

申请号：CN202010728435.3

申请日：2020-07-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 苏真镐 ,  金建佑 ,  金周喜 ,  金珉成 ,  金乙泰 ,  尹宝拉

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/68 ,  H01L21/67

Abstract: 一种衬底处理设备和抬升销对齐设备，所述衬底处理设备包括：腔室；衬底板，衬底可放置在衬底板上；多个可移动抬升销，其位于衬底板中，以支承衬底；调平传感器，其被配置为可装载于腔室中，位于抬升销上；控制器，其被配置为接收抬升销的平面的横摇φ和纵摇θ的测量值，以根据横摇φ和纵摇θ的测量值计算所述平面的旋转矩阵T，并且使用旋转矩阵T计算抬升销的用于将所述平面调平为与水平参考平面平行的行进距离，并且输出用于对齐抬升销的抬升销控制信号；以及抬升销驱动器，其根据抬升销控制信号移动抬升销。

公开(公告)号：CN101419408A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200810125995.9

申请日：2008-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金乙泰 ,  李成进 ,  朴相玄 ,  裴祥佑

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275

Abstract: 一种曝光系统及其控制方法，该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法，可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外，可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤：确定曝光模式是否改变；如果曝光模式被改变，则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。

公开(公告)号：CN110579941A

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201910119201.6

申请日：2019-02-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘灏 ,  金炳相 ,  金乙泰 ,  黄恩秀

IPC: G03F7/00

Abstract: 提供了一种压印压辊装置。所述压印压辊装置包括：辊构件，在关于轴旋转的同时向下施加压力；轴承座，结合到辊构件的两个端部以允许辊构件的旋转；以及框架，结合到轴承座以支撑辊构件和轴承座，其中，轴承座包括：结合部，连接到轴；芯部，在竖直方向上从结合部延伸；第一线圈，完全围绕芯部的侧面；以及第二线圈，完全围绕芯部的侧面并且设置在第一线圈上以与第一线圈分隔开。

公开(公告)号：CN101419408B

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN200810125995.9

申请日：2008-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金乙泰 ,  李成进 ,  朴相玄 ,  裴祥佑

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275

Abstract: 一种曝光系统及其控制方法，该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法，可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外，可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤：确定曝光模式是否改变；如果曝光模式被改变，则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。