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公开(公告)号：CN100421281C
公开(公告)日：2008-09-24
申请号：CN200410095350.7
申请日：2004-11-24
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01L27/3244
Abstract: 本发明公开一种有源矩阵有机电致发光显示装置，其中两个相对像素形成在一个像素区中以获得高的孔径比，且有利于制造加工。所述有机电致发光显示装置包括栅极线，数据线和电源线，它们都形成在绝缘基底上，以及由栅极线，数据线和电源线所限定的像素区，其中每个像素区包括两个相对像素，并且所述像素区以矩阵形式设置。
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公开(公告)号：CN1275098C
公开(公告)日：2006-09-13
申请号：CN200410003872.X
申请日：2004-02-06
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , B32B3/266 , B32B7/04 , Y10T156/10 , Y10T428/24322
Abstract: 本发明公开了一种显示装置的沉积掩模及其制造方法。其易于保证定位精度和图形尺寸精度，并适用于高分辨率显示装置。本发明的沉积掩模具有至少一个图形掩模，其具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及边框掩模，其具有至少一个开口。图形掩模在对应于开口的边框掩模区域被分别固定到边框掩模。沉积掩模通过制备具有与将形成在衬底上的图形相同的图形的至少一个图形掩模和具有至少一个开口的边框掩模制作而成。该方法还包括将图形掩模与边框掩模的开口对准并将与开口对准的图形掩模固定到边框掩模上。
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公开(公告)号：CN1776525A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510123318.X
申请日：2005-11-17
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: G03F7/70783 , B05B12/20 , C23C14/042 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种掩模组件，其被构造成防止掩模热变形并保持多个分开的图案掩模之间的间隙。根据一个实施例，该掩模组件包括：开口掩模，其具有在行或列上排列的多个第一开口；图案掩模，其包括多个单位图案掩模。在一些实施例中，可相对于开口掩模固定单位图案掩模的端部，该单位图案掩模包括被构造成与开口掩模的多个第一开口对齐的多个掩模图案单元。在一些实施例中，拉力被施加到单位图案掩模。
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公开(公告)号：CN101210307A
公开(公告)日：2008-07-02
申请号：CN200710301381.7
申请日：2007-12-25
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种掩模装置，一种具有更高可靠性的掩模装置制造方法，一种通过形成平行于轧制方向的条形孔来制造大尺寸分掩模装置的方法，和一种制造有机发光显示装置(OLED)的方法。掩模装置包括：形成于掩模上的至少一个掩模对准标记；形成于掩模上并阻隔沉积材料的阻隔区域；和形成于掩模上的孔区域，沉积材料通过所述孔区域，其中至少一个掩模对准标记形成在孔区域之外，孔区域具有条形图样，而且，掩模基底的轧制方向平行于条形图样的纵向。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1779566A
公开(公告)日：2006-05-31
申请号：CN200510123341.9
申请日：2005-11-23
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/042
Abstract: 本发明公开了一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模以及制造该掩模的方法。掩模的实施例能够提高定位的精度，并且通过利用缓冲构件连接加固构件和布置在加固构件的开口上的掩模图案单元来防止由掩模的热膨胀引起的问题。掩模包括：加固构件，包括多个第一开口；掩模图案单元，与加固构件的第一开口对应布置，并由加固构件支撑；缓冲构件，包括与加固构件的第一开口对应的多个第二开口，并且连接加固构件和掩模图案单元，以支撑加固构件和掩模图案单元。
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公开(公告)号：CN1776524A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510123311.8
申请日：2005-11-17
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: B08B7/0042 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B3/12 , B08B2209/005 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供了一种快速并有效地去除附于掩模的材料的对掩模除垢的方法。该方法包括：将激光束直射到附于掩模的材料上；去除附于掩模的材料。
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公开(公告)号：CN1824825A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610000428.1
申请日：2006-01-05
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C23C14/04 , C23C16/04 , H01L21/203 , H01L21/205
CPC classification number: C23C14/042 , H01L51/0011 , Y10T29/49867
Abstract: 公开的是一种在罩板片上形成图案的方法，该罩板片包括要附着到罩板框的附着部分，以及在其中形成图案的图案区域。该方法包括：将罩板片置于比该罩板片厚的辅助片上；将辅助片固定到罩板框；将拉伸力施加到罩板片和辅助片；并在罩板片的图案区域上形成图案。这样，当均匀分布的外力被施加到罩板片上时，就会在罩板片上形成预定的图案，因此可以防止罩板片的弯曲或偏离平面，从而形成精确的罩板图案。
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公开(公告)号：CN1622712A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN200410095350.7
申请日：2004-11-24
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01L27/3244
Abstract: 本发明公开一种有源矩阵有机电致发光显示装置，其中两个相对像素形成在一个像素区中以获得高的孔径比，且有利于制造加工。所述有机电致发光显示装置包括栅极线，数据线和电源线，它们都形成在绝缘基底上，以及由栅极线，数据线和电源线所限定的像素区，其中每个像素区包括两个相对像素，并且所述像素区以矩阵形式设置。
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公开(公告)号：CN1534383A
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN200410003872.X
申请日：2004-02-06
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , B32B3/266 , B32B7/04 , Y10T156/10 , Y10T428/24322
Abstract: 本发明公开了一种显示装置的沉积掩模及其制造方法。其易于保证定位精度和图形尺寸精度，并适用于高分辨率显示装置。本发明的沉积掩模具有至少一个图形掩模，其具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及边框掩模，其具有至少一个开口。图形掩模在对应于开口的边框掩模区域被分别固定到边框掩模。沉积掩模通过制备具有与将形成在衬底上的图形相同的图形的至少一个图形掩模和具有至少一个开口的边框掩模制作而成。该方法还包括将图形掩模与边框掩模的开口对准并将与开口对准的图形掩模固定到边框掩模上。
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