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公开(公告)号：CN116411235B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202310356129.5
申请日：2023-04-06
Abstract: 本发明公开了一种等离子喷涂制备原位自生纳米析出相增强高熵合金涂层的方法，属于高熵合金涂层技术领域。通过等离子喷涂的方式将高熵合金粉末Fe28.0Co29.5Ni27.5Al8.5Ti6.5喷涂在基体上，对得到的涂层进行真空热处理和固溶处理，即得到原位自生纳米析出相增强高熵合金涂层；所述等离子喷涂过程中的参数设定为：等离子喷枪与基体的距离设为140mm，喷涂电压为72.5V，喷涂电流为620A，送粉速率为35g/min，氩气流量30Slpm，氢气流量为8Slpm。该方法成本较低，并且进一步扩大了高熵合金的应用范围，该涂层层间结合良好，组织致密，耐磨性能极佳。
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公开(公告)号：CN117230336A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311205710.3
申请日：2023-09-19
Abstract: 本发明公开了一种制备高熵合金的方法，属于高熵合金制备技术领域。本发明以高熵合金粉末为原料，采用直接激光沉积的工艺制备成高熵合金，所述高熵合金的化学组成为(FeCoNi)86Al7Ti7。通过激光熔化(FeCoNi)86Al7Ti7高熵合金粉末并采取正交试验的方式确定了打印参数，成功地制备了具有高致密度的(FeCoNi)86Al7Ti7高熵合金块体。该块体成型件具有尺寸精度更高、结构设计更灵活、致密度高和可实现一次成型等特点。
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公开(公告)号：CN117230336B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202311205710.3
申请日：2023-09-19
Abstract: 本发明公开了一种制备高熵合金的方法，属于高熵合金制备技术领域。本发明以高熵合金粉末为原料，采用直接激光沉积的工艺制备成高熵合金，所述高熵合金的化学组成为(FeCoNi)86Al7Ti7。通过激光熔化(FeCoNi)86Al7Ti7高熵合金粉末并采取正交试验的方式确定了打印参数，成功地制备了具有高致密度的(FeCoNi)86Al7Ti7高熵合金块体。该块体成型件具有尺寸精度更高、结构设计更灵活、致密度高和可实现一次成型等特点。
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公开(公告)号：CN117564293A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311494103.3
申请日：2023-11-10
Abstract: 本发明公开了一种优异耐摩擦磨损增材制造高熵合金及其制备方法和应用，涉及金属增材制造技术领域。所述制备方法如下：1)将金属粉末采用气雾化法制备高熵合金粉末；2)在计算机上建立零件三维模型，得到切片处理数据，并导入到电子束打印设备中；3)对高熵合金粉末进行电子束打印得到高熵合金。本发明高熵合金的制备方法实验重复性和可行性高，流程简单，易操作，重复性强，制备得到的高熵合金摩擦性能优异，促进了增材制造制备高熵合金在摩擦学领域的发展研究。
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公开(公告)号：CN116411235A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310356129.5
申请日：2023-04-06
Abstract: 本发明公开了一种等离子喷涂制备原位自生纳米析出相增强高熵合金涂层的方法，属于高熵合金涂层技术领域。通过等离子喷涂的方式将高熵合金粉末Fe28.0Co29.5Ni27.5Al8.5Ti6.5喷涂在基体上，对得到的涂层进行真空热处理和固溶处理，即得到原位自生纳米析出相增强高熵合金涂层；所述等离子喷涂过程中的参数设定为：等离子喷枪与基体的距离设为140mm，喷涂电压为72.5V，喷涂电流为620A，送粉速率为35g/min，氩气流量30Slpm，氢气流量为8Slpm。该方法成本较低，并且进一步扩大了高熵合金的应用范围，该涂层层间结合良好，组织致密，耐磨性能极佳。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118086833B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202410110825.2
申请日：2024-01-26
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜及其制备方法，属于合金材料及其制备技术领域。以含氧的CrCoNiO预合金化靶材为原料进行溅射，通过溅射参数的控制，得到氧原子掺杂量为12.5at.％的氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜。该CrCoNiO12.5薄膜能够在保持纳米晶高强度的同时获得超过50％压缩塑性而不在形变过程中产生任何剪切带。
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公开(公告)号：CN118086833A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202410110825.2
申请日：2024-01-26
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜及其制备方法，属于合金材料及其制备技术领域。以含氧的CrCoNiO预合金化靶材为原料进行溅射，通过溅射参数的控制，得到氧原子掺杂量为12.5at.％的氧掺杂CrCoNiO12.5中熵合金薄膜。该CrCoNiO12.5薄膜能够在保持纳米晶高强度的同时获得超过50％压缩塑性而不在形变过程中产生任何剪切带。
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公开(公告)号：CN116288567A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310397819.5
申请日：2023-04-14
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种高强韧性低电阻率层状金属及其制备方法，该金属由一层大晶粒层和一层小晶粒层交替构成，层界面之间属于金属键结合，并且大晶粒层和小晶粒层中均表现为双峰晶粒的异构分布，晶粒内部位错密度极低，小于1.1×107/dm‑2，d是晶粒尺寸。利用交替变化的电流密度，实现层状金属材料制备，电镀过程中阴极高速旋转，沉积产物和电解液之间存在切应力的作用，制备出具有孪晶结构的层状的金属材料。对孪晶层状金属材料经过较低的升温速率再结晶退火。与现有技术相比，本发明可制得具有高强韧性和低电阻率的金属材料。
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公开(公告)号：CN113013033B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202011516548.3
申请日：2020-12-21
Applicant: 上海大学
IPC: H01L21/3213
Abstract: 本发明公开了一种金属厚膜离子束刻蚀方法，是将厚膜样品结合光刻工艺和离子束刻蚀的方法，将金属厚膜部分刻蚀并使其变脆，然后机械剥离金属厚膜的刻蚀区与未刻蚀区得到具体想要花样的金属厚膜，并且不改变或者损坏膜内部结构和性能，为金属厚膜在芯片、集成电路和促动器上的应用打下技术基础。其中可供刻蚀的膜成分包括所有的纯金属和合金，厚膜的厚度1‑50μm，光刻胶包括所有型号的光刻胶。被刻蚀的地方可与未被刻蚀附着光刻胶的地方机械剥离从而得到具有各种花样的金属膜样品，此技术可以减少刻蚀时间，不用完全刻透厚膜，即可实现厚膜的刻蚀，增加了刻蚀的效率。
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公开(公告)号：CN115046842A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210387274.5
申请日：2022-04-13
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开一种磁场环境下的动态力学分析测试方法，包括以下步骤：校准仪器：对动态力学分析仪及其附带的夹具进行校准；组装：先组装辅助所述动态力学分析仪的模具，将待测样品贯穿所述模具固定安装到与所述动态力学分析仪所附带的夹具上；测试：通过所述动态力学分析仪对所述待测样品提供测试环境，并开始测试。本发明能够实现对磁性材料在不同温度、应变等条件下的动态力学性能参数的测试。
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