临时粘接用粘合剂、粘合剂层、晶片加工体及使用其的半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN110734736B

    公开(公告)日:2022-04-19

    申请号:CN201911051970.3

    申请日:2015-08-05

    Abstract: 本申请涉及临时粘接用粘合剂、粘合剂层、晶片加工体及使用其的半导体器件的制造方法。本发明提供临时粘接用粘合剂、和使用其的半导体器件的制造方法,所述临时粘接用粘合剂的耐热性优异,能够利用1种粘合剂层将半导体电路形成基板与支承基板粘接,即使经过半导体器件等的制造工序、粘合力也不发生变化,并且之后能于室温以温和的条件进行剥离。本发明为临时粘接用粘合剂,其特征在于,其为下述聚酰亚胺共聚物,所述聚酰亚胺共聚物至少具有酸二酐残基和二胺残基,在二胺残基中包含(A1)以通式(1)表示且n为1以上15以下的自然数的聚硅氧烷系二胺的残基、及(B1)以通式(1)表示且n为16以上100以下的自然数的聚硅氧烷系二胺的残基这两者。

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