公开(公告)号：CN108242392B

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN201711435797.8

申请日：2017-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 香川興司 ,  米泽周平 ,  土桥和也 ,  高岛敏英 ,  天井胜

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种能够将硼单膜从基板适当地去除的基板及其处理方法、装置、系统及控制装置、制造方法。在实施方式所涉及的基板处理方法中，通过使将硝酸、比硝酸强的强酸以及水混合所得到的去除液与在包含硅系膜的膜上形成有硼单膜的基板接触，来将硼单膜从基板去除。

公开(公告)号：CN102629563B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201210025741.6

申请日：2012-01-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 香川興司 ,  溝田昌吾 ,  东岛治郎

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 本发明提供液处理装置及液处理方法。其能够防止由附着在杯状件上的污垢导致处理室内的基板污损。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)及配置在基板保持部(21)周围的杯状件(42)；喷嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)上的基板(W)供给处理液；杯状件清洗部(49、49a)，其通过向杯状件(42)的上部供给清洗液来对该杯状件(42)进行清洗。在杯状件(42)的上部形成有凹部(42a)，杯状件清洗部(49、49a)向杯状件(42)的上部的凹部(42a)中供给清洗液。

公开(公告)号：CN108242392A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201711435797.8

申请日：2017-12-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 香川興司 ,  米泽周平 ,  土桥和也 ,  高岛敏英 ,  天井胜

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/3085 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02087 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32134 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/0331 ,  H01L21/6708

Abstract: 提供一种能够将硼单膜从基板适当地去除的基板及其处理方法、装置、系统及控制装置、制造方法。在实施方式所涉及的基板处理方法中，通过使将硝酸、比硝酸强的强酸以及水混合所得到的去除液与在包含硅系膜的膜上形成有硼单膜的基板接触，来将硼单膜从基板去除。