公开(公告)号：CN110462794B

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN201880020478.7

申请日：2018-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  岩谷产业株式会社

Inventor： 土桥和也 ,  折居武彦 ,  斋藤幸正 ,  小池国彦 ,  妹尾武彦 ,  泉浩一 ,  吉野裕 ,  荘所正 ,  兼平圭太

IPC: H01L21/304

Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。

公开(公告)号：CN110462794A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880020478.7

申请日：2018-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  岩谷产业株式会社

Inventor： 土桥和也 ,  折居武彦 ,  斋藤幸正 ,  小池国彦 ,  妹尾武彦 ,  泉浩一 ,  吉野裕 ,  荘所正 ,  兼平圭太

IPC: H01L21/304

Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。