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公开(公告)号：CN110462794B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880020478.7
申请日：2018-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 岩谷产业株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。
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公开(公告)号：CN110462794A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201880020478.7
申请日：2018-02-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 岩谷产业株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 向基板(S)照射气体团簇来对基板(S)进行规定的处理的气体团簇处理装置(100)具备：处理容器(1)；气体供给部(13)，其供给用于生成气体团簇的气体；质量流量控制器(14)，其控制从气体供给部(13)供给的气体的流量；团簇喷嘴(11)，其以规定的供给压力供给用于生成气体团簇的气体，将该气体喷出至被保持真空的处理容器内来通过绝热膨胀使该气体团簇化；以及压力控制部(15)，其设置于质量流量控制器(14)与团簇喷嘴(11)的之间的配管(12)，并且具有对用于生成气体团簇的气体的供给压力进行控制的背压控制器(17)。
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公开(公告)号：CN109071223A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780025299.8
申请日：2017-03-03
Applicant: 岩谷产业株式会社
IPC: C01B13/10 , B01D53/053
Abstract: 提供一种臭氧气体的浓缩方法以及实现该浓缩方法的臭氧气体的浓缩装置(1)，臭氧气体的浓缩方法包括如下工序：向保持有吸附臭氧气体的吸附剂的吸附容器(20)内导入包含臭氧气体的原料混合气体，使吸附剂吸附臭氧气体；将与吸附容器(20)连接为能够切换连通的状态与不连通的状态的浓缩容器(30)的内部在与吸附容器不连通的状态下减压；以及切换为连通内部被减压的浓缩容器(30)与保持吸附有臭氧气体的吸附剂的吸附容器(20)的状态而通过浓缩容器(30)内与吸附容器(20)内的压力差而使吸附于吸附剂的臭氧气体脱附并输送至浓缩容器(30)内，由此向浓缩容器(30)内导入臭氧气体的浓度比原料混合气体高的浓缩混合气体。
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公开(公告)号：CN110998797A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880048615.8
申请日：2018-07-18
IPC: H01L21/301 , B23K26/53 , H01L21/3065
Abstract: 切割加工方法包括以下工序：在加工对象物(1)形成改性区域；以及在加工对象物(1)形成了改性区域之后，沿着切割预定线对加工对象物(1)进行切割。在对加工对象物(1)进行切割的工序中，通过在加工对象物(1)借助自重和吸附中的至少任一者固定于支承件的状态下，从加工对象物(1)的表面(3)朝向背面(4)实施干蚀刻处理，从而从加工对象物(1)的表面(3)直到背面(4)地形成槽。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109071224A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780025392.9
申请日：2017-03-03
Applicant: 岩谷产业株式会社
IPC: C01B13/10 , B01D53/053
Abstract: 提供一种臭氧气体的浓缩方法以及实现该浓缩方法的臭氧气体的浓缩装置(1)。臭氧气体的浓缩方法包括如下工序：使第一吸附容器(20A)内的吸附剂吸附臭氧气体；将浓缩容器(30)的内部在不与第一吸附容器(20A)连通的状态下进行减压；排出第一吸附容器(20A)内的一部分气体；通过使第一吸附容器(20A)内的臭氧气体脱附并输送到浓缩容器(30)内，从而向浓缩容器(30)内导入第一浓缩混合气体；使第二吸附容器(20B)内的吸附剂吸附臭氧气体；切换为连通导入有第一浓缩混合气体的浓缩容器(30)与保持吸附有臭氧气体的吸附剂的第二吸附容器(20B)的状态，向浓缩容器(30)内导入第二浓缩混合气体。
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公开(公告)号：CN102946982B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：CN201080067363.7
申请日：2010-11-25
IPC: B01F1/00 , B01F15/06 , C01B13/11 , H01L21/304
CPC classification number: C11D7/04 , C01B13/11 , C11D3/3947
Abstract: 一种生成高浓度的臭氧水的装置，在该装置中，高压浓缩臭氧气体供给系统与臭氧气体溶解部（4）相连通连接，高压浓缩臭氧气体供给系统具有：臭氧气体产生部（1），其用于生成臭氧气体；臭氧气体浓缩部（2），其用于浓缩所生成的臭氧气体；浓缩臭氧气体加压部（3），其用于使从臭氧气体浓缩部（2）导出的浓缩臭氧气体的压力升高；冷却机构（13），其用于冷却浓缩臭氧气体加压部（3）；通过使高压浓缩臭氧气体溶解于纯水来形成高浓度臭氧水。
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公开(公告)号：CN114981473B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202180010030.9
申请日：2021-05-28
Applicant: 岩谷产业株式会社
Abstract: 提供铂族金属回收方法、含铂族金属膜的制造方法及成膜装置。铂族金属的回收方法是一种在成膜腔室内导入含有铂族金属的原料气体，在收容于所述成膜腔室内的基板的表面形成含铂族金属膜之后，回收存在于成膜腔室内的铂族金属的方法，该回收方法具备：(i)向取出了所述基板的所述成膜腔室内导入含氟的清洁气体的步骤；以及(ii)向捕获容器内导入从所述成膜腔室排出的所述清洁气体的步骤，所述捕获容器保持有由选自由碱石灰、消石灰及CaO组成的组中的至少一种构成的捕获剂。
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公开(公告)号：CN111094617B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN201880058177.3
申请日：2018-07-27
Applicant: 岩谷产业株式会社
IPC: C23C8/14
Abstract: 本发明提供一种被处理对象物的内壁面的处理方法，将收容臭氧气体且内壁为金属制的收容容器、收容使用臭氧气体进行表面处理的物体且内壁为金属制的处理容器(30)及供给臭氧气体且内壁为金属制的配管中的至少任一个作为被处理对象物，对被处理对象物的内壁面进行处理。被处理对象物的内壁面的处理方法包括如下步骤：确认被处理对象物的内壁面中有无异常部位；以及在确认有无异常部位的步骤之后，以与被处理对象物的内壁面接触的方式使浓度为10体积％以上30体积％以下且温度为60℃以下的臭氧气体流通。
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公开(公告)号：CN111094617A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880058177.3
申请日：2018-07-27
Applicant: 岩谷产业株式会社
IPC: C23C8/14
Abstract: 本发明提供一种被处理对象物的内壁面的处理方法，将收容臭氧气体且内壁为金属制的收容容器、收容使用臭氧气体进行表面处理的物体且内壁为金属制的处理容器(30)及供给臭氧气体且内壁为金属制的配管中的至少任一个作为被处理对象物，对被处理对象物的内壁面进行处理。被处理对象物的内壁面的处理方法包括如下步骤：确认被处理对象物的内壁面中有无异常部位；以及在确认有无异常部位的步骤之后，以与被处理对象物的内壁面接触的方式使浓度为10体积％以上30体积％以下且温度为60℃以下的臭氧气体流通。
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