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公开(公告)号:CN107808681B
公开(公告)日:2021-01-15
申请号:CN201710080698.6
申请日:2017-02-15
Applicant: 东芝存储器株式会社
IPC: G11C11/16
Abstract: 根据实施方式,存储装置包括磁阻元件和写入电路,所述磁阻元件包括第1磁性层、第2磁性层以及设置在所述第1磁性层与所述第2磁性层之间的非磁性层,所述写入电路控制第1写入和第2写入,使电流脉冲在所述磁阻元件中流动,所述第1写入使所述第1磁性层的磁化和所述第2磁性层的磁化成为平行状态,所述第2写入使所述第1磁性层的磁化和所述第2磁性层的磁化成为反平行状态。所述第1写入所使用的第1脉冲模式与所述第2写入所使用的第2脉冲模式不同。
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公开(公告)号:CN107808681A
公开(公告)日:2018-03-16
申请号:CN201710080698.6
申请日:2017-02-15
Applicant: 东芝存储器株式会社
IPC: G11C11/16
Abstract: 根据实施方式,存储装置包括磁阻元件和写入电路,所述磁阻元件包括第1磁性层、第2磁性层以及设置在所述第1磁性层与所述第2磁性层之间的非磁性层,所述写入电路控制第1写入和第2写入,使电流脉冲在所述磁阻元件中流动,所述第1写入使所述第1磁性层的磁化和所述第2磁性层的磁化成为平行状态,所述第2写入使所述第1磁性层的磁化和所述第2磁性层的磁化成为反平行状态。所述第1写入所使用的第1脉冲模式与所述第2写入所使用的第2脉冲模式不同。
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