电子设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110010756A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201811468366.6

    申请日:2018-12-03

    Abstract: 一种电子设备可以包括半导体存储器,该半导体存储器可以包括:第一磁性层;第二磁性层;以及间隔层,其介于第一磁性层与第二磁性层之间,其中,间隔层包括第一层、第二层以及介于第一层与第二层之间的中间层,其中,第一层和第二层中的每个层包括氧化物或氮化物,或者氧化物与氮化物的组合,中间层包括包含[Ru/x]n或[x/Ru]n的多层结构,其中x包括金属、氧化物或氮化物,或者金属、氧化物和氮化物的组合,且其中n表示1或更大的整数。

    磁存储装置
    8.
    发明公开
    磁存储装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115117232A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202111083939.5

    申请日:2021-09-14

    Abstract: 根据一实施例,磁存储装置具备层叠构造,该层叠构造包括:第1磁性层,具有固定的磁化方向;第2磁性层,具有可变的磁化方向;非磁性层,设置于所述第1磁性层与所述第2磁性层之间;钼层即Mo层,相对于所述第2磁性层设置于所述非磁性层的相反侧;及氧化物层,设置于所述第2磁性层与所述钼层即Mo层之间,含有从稀土类元素、硅即Si及铝即Al中选择出的预定元素。

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