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公开(公告)号:CN103904134B
公开(公告)日:2017-01-11
申请号:CN201410112734.9
申请日:2014-03-25
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L29/872 , H01L21/329
Abstract: 一种基于GaN基异质结构的二极管,包括:一衬底;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一异质结构势垒层,其制作在缓冲层上;与缓冲层形成二维电子气的异质结构外延层;一P型盖帽层,其制作在异质结构势垒层上,其两侧形成台面;一欧姆接触阳极,其制作在异质结构势垒层上,位置在紧挨着台面的一侧;一欧姆接触阴极,其制作在异质结构势垒层上,且远离P型盖帽层的另一侧的台面上;一肖特基阳极,其制作在P型盖帽层和欧姆接触阳极上;一第一电极,其制作在肖特基接触上;一第二电极,其制作在欧姆接触阴极上。本发明可以降低器件的开启电压,同时实现器件低反向漏电和高阻断特性工作。
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公开(公告)号:CN103904134A
公开(公告)日:2014-07-02
申请号:CN201410112734.9
申请日:2014-03-25
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: H01L29/872 , H01L21/329
CPC classification number: H01L29/872 , H01L29/0684 , H01L29/452 , H01L29/475 , H01L29/66143
Abstract: 一种基于GaN基异质结构的二极管,包括:一衬底;一缓冲层,该缓冲层制作在衬底上;一异质结构势垒层,其制作在缓冲层上;与缓冲层形成二维电子气的异质结构外延层;一P型盖帽层,其制作在异质结构势垒层上,其两侧形成台面;一欧姆接触阳极,其制作在异质结构势垒层上,位置在紧挨着台面的一侧;一欧姆接触阴极,其制作在异质结构势垒层上,且远离P型盖帽层的另一侧的台面上;一肖特基阳极,其制作在P型盖帽层和欧姆接触阳极上;一第一电极,其制作在肖特基接触上;一第二电极,其制作在欧姆接触阴极上。本发明可以降低器件的开启电压,同时实现器件低反向漏电和高阻断特性工作。
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