公开(公告)号：CN113272471B

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202080008453.2

申请日：2020-01-07

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 新免益隆 ,  冈田卓也 ,  山本纯基 ,  滩野亮 ,  宫崎达夫

IPC: C23C16/04 ,  C23C28/00 ,  H01L21/285 ,  H01L21/312

Abstract: 本公开的实施方式的选择性膜沉积方法的特征在于，对于具有包含金属及金属氧化物中的至少1种的第一表面区域和包含非金属无机材料的第二表面区域这两者均露出的结构的基板，使通式(1)所示的有机物的膜选择性地沉积于第一表面区域而非第二表面区域。(通式(1)中，N为氮原子。R1为碳数1～30的任选具有杂原子、卤原子的烃基，R2、R3、R4及R5各自独立地为氢原子或碳数1～10的任选具有杂原子、卤原子的烃基。其中，该烃基的碳数为3以上时，也包括支链或环状结构的烃基。)

公开(公告)号：CN113272471A

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN202080008453.2

申请日：2020-01-07

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 新免益隆 ,  冈田卓也 ,  山本纯基 ,  滩野亮 ,  宫崎达夫

IPC: C23C16/04 ,  C23C28/00 ,  H01L21/285 ,  H01L21/312

Abstract: 本公开的实施方式的选择性膜沉积方法的特征在于，对于具有包含金属及金属氧化物中的至少1种的第一表面区域和包含非金属无机材料的第二表面区域这两者均露出的结构的基板，使通式(1)所示的有机物的膜选择性地沉积于第一表面区域而非第二表面区域。(通式(1)中，N为氮原子。R1为碳数1～30的任选具有杂原子、卤原子的烃基，R2、R3、R4及R5各自独立地为氢原子或碳数1～10的任选具有杂原子、卤原子的烃基。其中，该烃基的碳数为3以上时，也包括支链或环状结构的烃基。)

公开(公告)号：CN116685715A

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN202280009700.X

申请日：2022-01-28

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 冈田卓也 ,  山本纯基 ,  谷口敬寿 ,  吉浦一基 ,  近藤克哉 ,  公文创一 ,  宫崎达夫

IPC: C23C26/00

Abstract: 本发明涉及一种选择性膜沉积方法，其特征在于，将具有露出了含有金属元素的第一表面区域与含有非金属无机材料的第二表面区域这两者的结构的基板暴露于含有下述通式(1)所表示的有机物与溶剂的溶液中，使所述有机物的膜较之所述第二表面区域选择性地沉积于所述第一表面区域，R1(X)m (1)在通式(1)中，R1为碳原子数为4～100的任选具有杂原子或卤素原子的烃基，所述烃基的m个氢原子被X取代。X为‑PO3(R2)2、‑O‑PO3(R2)2、‑CO2R2、‑SR2或‑SSR1。R2各自为氢原子或碳原子数为1～6的烷基。m为正整数，当将该烃基的碳原子数设为r时，m/r为0.01～0.25。