公开(公告)号：CN116324036A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180070131.5

申请日：2021-10-11

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 吉浦一基 ,  冈田卓也 ,  渡边谦太 ,  公文创一 ,  中村阳介 ,  谷口敬寿

IPC: C23F1/10

Abstract: 本公开中提出的湿式蚀刻方法，其为利用表面改质液对基板上的含金属膜进行预处理，接着使用蚀刻液进行蚀刻的湿式蚀刻方法，前述蚀刻液为包含键合有三氟甲基及羰基的β‑二酮和有机溶剂的溶液，前述含金属膜包含能够与前述β‑二酮形成络合物的金属元素，前述表面改质液包含对前述金属元素的氧化性物质，前述湿式蚀刻方法包括：第一工序，使前述表面改质液与前述含金属膜接触而在前述含金属膜的表面形成前述金属元素的氧化膜；和第二工序，使前述蚀刻液与具有前述氧化膜的前述含金属膜接触。

公开(公告)号：CN116685715A

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN202280009700.X

申请日：2022-01-28

Applicant: 中央硝子株式会社

Inventor： 冈田卓也 ,  山本纯基 ,  谷口敬寿 ,  吉浦一基 ,  近藤克哉 ,  公文创一 ,  宫崎达夫

IPC: C23C26/00

Abstract: 本发明涉及一种选择性膜沉积方法，其特征在于，将具有露出了含有金属元素的第一表面区域与含有非金属无机材料的第二表面区域这两者的结构的基板暴露于含有下述通式(1)所表示的有机物与溶剂的溶液中，使所述有机物的膜较之所述第二表面区域选择性地沉积于所述第一表面区域，R1(X)m (1)在通式(1)中，R1为碳原子数为4～100的任选具有杂原子或卤素原子的烃基，所述烃基的m个氢原子被X取代。X为‑PO3(R2)2、‑O‑PO3(R2)2、‑CO2R2、‑SR2或‑SSR1。R2各自为氢原子或碳原子数为1～6的烷基。m为正整数，当将该烃基的碳原子数设为r时，m/r为0.01～0.25。