半导体器件和半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN108321139A

    公开(公告)日:2018-07-24

    申请号:CN201711385296.3

    申请日:2017-12-20

    Inventor: 榊原明德

    Abstract: 本发明涉及半导体器件和半导体器件的制造方法。一种半导体器件的制造方法包括将包含金属粒子的导电膏涂覆到电极板中的指定区域,电极板在其表面中包括凹部,指定区域与凹部相邻。半导体器件的制造方法包括将半导体芯片放置在导电膏上,使得半导体芯片的外周边缘位于凹部上方。所述半导体器件的制造方法包括通过在朝向电极板的方向上向半导体芯片施加压力的同时加热导电膏,使该导电膏硬化。

    半导体装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110600457A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201910485829.8

    申请日:2019-06-05

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置。半导体装置具备:第一绝缘基板;第一半导体元件及第二半导体元件,配置在第一绝缘基板上;第二绝缘基板,隔着第一半导体元件而与第一绝缘基板相对;第三绝缘基板,隔着第二半导体元件而与第一绝缘基板相对,并与第二绝缘基板横向排列配置。

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