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公开(公告)号：CN118591722A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202380000011.7
申请日：2023-01-03
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
Abstract: 一种MEMS压力传感器及其制作方法、压力检测装置，MEMS压力传感器包括：转接板；设置于转接板一侧的集成电路芯片；设置于转接板背离集成电路芯片一侧的传感器芯片；传感器芯片包括第一电极和第二电极，第一电极设置在转接板和第二电极之间；其中，第二电极包括：与第一电极相对的感压部和环绕感压部的边缘部，边缘部通过键合层固定在转接板上，第一电极、第二电极、键合层和转接板限定出空腔；传感器芯片的第一电极和第二电极均通过转接板与集成电路芯片电连接。
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公开(公告)号：CN115942667A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211481706.5
申请日：2022-11-24
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H05K5/02 , H05K5/03 , G02F1/1334 , G02F1/13
Abstract: 本申请实施例提供了一种后盖、电子装置和后盖的制作方法，后盖具有出光区和非出光区，后盖具有出光侧，后盖包括导光板、发光单元和液晶功能层；导光板用于在发光单元点亮时，将发光单元发射的光线传导至液晶功能层；液晶功能层包括第一基板和嵌入第一基板的图案化结构，图案化结构包括聚合物分散液晶，聚合物分散液晶包括多个第一液晶；第一基板为透光材质；液晶功能层在发光单元未点亮时处于透明状态，在发光单元点亮时将导光板传导过来的光线散射至外部形成发光图案。
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公开(公告)号：CN114755894A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210289127.4
申请日：2022-03-22
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G03F7/20 , G02B5/30 , G02F1/1337
Abstract: 本申请提供了一种投影曝光系统及其控制方法，投影曝光系统包括：沿第一方向依次设置的光源、液晶开关面板、液晶相位延迟器和相位延迟波片；液晶开关面板包括多个阵列排布的液晶微区开关，用于将光束转换为第一线偏振光，并控制第一线偏振光是否通过进行控制；液晶相位延迟器用于将第一线偏振光的垂直分量和平行分量产生各自的相位延迟，使得垂直分量和平行分量具有设计相位差；相位延迟波片用于将液晶相位延迟器输出的光产生相位延迟，得到并输出第二线偏振光，第二线偏振光的方位角与设计相位差存在对应关系。采用本申请，无需昂贵的掩膜费用，可大面积、高效率、高精度实现液晶取向微区控制，具有低成本、可实时控制调谐等优势。
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公开(公告)号：CN119063898A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202310640404.6
申请日：2023-05-31
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
Abstract: 本申请提供了一种压力传感器和检测装置，涉及压力传感器技术领域。压力传感器包括第一基板、第二基板、电容以及电感，检测电感和电容串联形成感容谐振电路。第二基板包括与第一基板相对且间隔设置的感压膜，感压膜和第一基板之间设有密闭的压力参考腔，感压膜被配置为朝向或背离第一基板发生形变；电容包括相对设置的第一极板和第二极板，第二极板设置在感压膜；检测电感包括依次连接的多个线圈结构，线圈结构包括第一走线、第二走线以及导电柱，第一走线设置在第一基板朝向第二基板一侧，第二走线设置在第一基板远离第二基板的一侧，第一走线与第二走线在第一基板上的正投影相互交叉，第一走线和第二走线在交叉位置处通过导电柱电连接。
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公开(公告)号：CN118251739A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280003639.8
申请日：2022-10-20
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
Abstract: 本公开提供一种电感及其制备方法、滤波器、电子设备，属于无源器件技术领域。本公开的电感，其包括介质基板，设置在所述介质基板上N匝线圈结构；所述N匝线圈结构依次嵌套且电连接；N≥2，且N为整数；其中，对于任一所述线圈结构，其包括依次设置在所述介质基板上的多层子线圈，且在相邻设置的所述子线圈之间设置有至少一层间绝缘层；相邻层的子线圈通过贯穿二者之间的所述层间绝缘侧的第一连接过孔电连接。
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公开(公告)号：CN118226636A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202211634460.0
申请日：2022-12-19
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明实施例提供了一种滤波器及其制备方法，滤波器包括基板、盖板、MEMS执行器、第一微镜和第二微镜。MEMS执行器包括第一弹性框架和第二弹性框架，第一微镜设置在第二弹性框架上；第二微镜设置在基板上或第二微镜设置在盖板上，第一微镜和第二微镜之间形成FP腔体；第一弹性框架配置为在第一电容被施加第一电压时，第一弹性框架沿垂直方向发生形变，带动第二弹性框架及第一微镜靠近或远离第二微镜；第二弹性框架配置为在第二电容被施加第二电压时，第二弹性框架沿相同方向发生形变，带动第一微镜靠近或远离第二微镜。本申请的滤波器通过将第一弹性框架和第二弹性框架组合，形成级联式调节框架，扩大了滤波器的自由光谱范围。
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公开(公告)号：CN117957765A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202280002932.2
申请日：2022-08-30
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
Abstract: 本公开提供一种体声波谐振器及其制备方法、滤波器，属于射频微机电系统技术领域。本公开的体声波谐振器，其包括介质基板、第一电极、压电层和第二电极；其中，所述介质基板具有沿其厚度方向贯穿的第一腔体；所述第一腔体的第一开口贯穿所述第一表面，第二开口贯穿所述第二表面；所述第一开口包括多条沿顺时针方向依次设置的第一边，以及连接相邻设置的所述第一边的第一连接边；所述第二开口包括多条沿顺时针方向依次设置第二边，以及连接相邻设置的所述第二边的第二连接边；所述第一边和所述第二边一一对应设置，所述第一连接边与第二连接边一一对应设置。
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公开(公告)号：CN117355937A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202280000677.8
申请日：2022-03-31
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
IPC: H01L23/48
Abstract: 一种基板制备方法，包括提供包括至少一个盲孔(K2)的基底(10)，基底(10)包括相对设置的第一表面(11)和第二表面(12)，盲孔(K2)由第一表面(11)的一侧延伸至基底(10)内部，盲孔(K2)的孔径沿第一表面(11)至第二表面(12)的方向逐渐减小。在盲孔(K2)内形成连接电极(30)。沿第二表面(12)至第一表面(11)的方向对基底(10)进行减薄，减薄后盲孔(K2)形成贯穿基底(10)的过孔。还提供了包括该基板的集成无源器件及电子装置。
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公开(公告)号：CN116793545A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202210304418.6
申请日：2022-03-16
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请属于压力传感器技术领域，尤其涉及一种压力传感器及其制备方法，该压力传感器具体包括：基底；感压芯片，与所述基底相连接；密封罩，内部形成有腔体，并且与所述感压芯片相连接；引线通孔，贯穿于所述密封罩内，并且其内壁面设置有导电层，所述引线通孔位于所述密封罩开口侧的端部与所述感压芯片相连接；以及引线，一端与所述导电层相连接，另一端延伸至所述密封罩外；综上所述，本申请一方面通过密封罩的设计对感压芯片进行保护，从而有效避免外界环境对感压芯片的影响，提升压力传感器的环境适用性，另一方面采用本申请的设计可以对压力传感器实现晶圆级封装，从而提升加工自动化，提升加工效率。
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公开(公告)号：CN115942667B
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202211481706.5
申请日：2022-11-24
Applicant: 北京京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H05K5/02 , H05K5/03 , G02F1/1334 , G02F1/13
Abstract: 本申请实施例提供了一种后盖、电子装置和后盖的制作方法，后盖具有出光区和非出光区，后盖具有出光侧，后盖包括导光板、发光单元和液晶功能层；导光板用于在发光单元点亮时，将发光单元发射的光线传导至液晶功能层；液晶功能层包括第一基板和嵌入第一基板的图案化结构，图案化结构包括聚合物分散液晶，聚合物分散液晶包括多个第一液晶；第一基板为透光材质；液晶功能层在发光单元未点亮时处于透明状态，在发光单元点亮时将导光板传导过来的光线散射至外部形成发光图案。
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