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公开(公告)号：CN104950521A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510089297.8
申请日：2015-02-27
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133788
Abstract: 在将载置于工作台的基板输送到偏振光的照射面并对基板照射偏振光的偏振光照射装置中，能够检测偏摇的产生，能够有助于成品率的改善。光照射器(1)经由偏振元件(12)对照射面(I)照射偏振光，通过由第一移动机构(22)使工作台(21)移动来使载置于工作台(21)的基板(S)通过照射面(I)并进行输送。由激光干涉计(4)构成的偏摇检测构件在一直直线移动到照射面(I)的位置时检测工作台(21)的偏摇。偏摇是围绕与照射面(I)垂直的轴的旋转。
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公开(公告)号：CN104950521B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201510089297.8
申请日：2015-02-27
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 在将载置于工作台的基板输送到偏振光的照射面并对基板照射偏振光的偏振光照射装置中，能够检测偏摇的产生，能够有助于成品率的改善。光照射器(1)经由偏振元件(12)对照射面(I)照射偏振光，通过由第一移动机构(22)使工作台(21)移动来使载置于工作台(21)的基板(S)通过照射面(I)并进行输送。由激光干涉计(4)构成的偏摇检测构件在一直直线移动到照射面(I)的位置时检测工作台(21)的偏摇。偏摇是围绕与照射面(I)垂直的轴的旋转。
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公开(公告)号：CN102218414A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201110029588.X
申请日：2011-01-24
Applicant: 优志旺电机株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70875
Abstract: 提供一种光处理装置及光处理方法，能够抑制被处理物的温度上升的同时进行紫外线照射处理。本发明的光处理装置，具备具有紫外线透过窗的框体以及配置于该框体内的准分子灯，其特征为：在上述紫外线透过窗的周围，具有与冷却用气体供给机构或冷却用气体吸气机构连接的气体流通口。并且，上述准分子灯具有：整体为扁平板状的放电容器；配置于该放电容器的一面的高电压侧电极；以及配置于该放电容器的另一面的接地侧电极，并且优选以上述放电容器的配置有上述高电压侧电极的一面与上述紫外线透过窗相对的方式配置。
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公开(公告)号：CN110947020A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201811124879.5
申请日：2018-09-26
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: A61L9/20 , A61L2/10 , A61L101/10
Abstract: 一种光处理装置及光处理方法，实现比过去在杀菌除臭能力上更优的光处理装置，具备：机壳；进气口，将含氧的被处理气体导入所述机壳内；准分子灯，配置于机壳内包括封入了含Xe的放电用气体的石英玻璃制成的管体，并射出主发光波长为172nm的第一光和在波长250nm以上560nm以下的波长范围的至少一部分显示强度的第二光；排气口，将通过对向机壳内导入的被处理气体照射从准分子灯射出的第一光而生成的含臭氧的处理后气体放出；及光催化剂，配置于从准分子灯射出的第二光能够入射的位置，含有能够由第二光激发的材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102218414B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201110029588.X
申请日：2011-01-24
Applicant: 优志旺电机株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70875
Abstract: 提供一种光处理装置及光处理方法，能够抑制被处理物的温度上升的同时进行紫外线照射处理。本发明的光处理装置，具备具有紫外线透过窗的框体以及配置于该框体内的准分子灯，其特征为：在上述紫外线透过窗的周围，具有与冷却用气体供给机构或冷却用气体吸气机构连接的气体流通口。并且，上述准分子灯具有：整体为扁平板状的放电容器；配置于该放电容器的一面的高电压侧电极；以及配置于该放电容器的另一面的接地侧电极，并且优选以上述放电容器的配置有上述高电压侧电极的一面与上述紫外线透过窗相对的方式配置。
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公开(公告)号：CN102126700B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201010517187.4
申请日：2010-10-19
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B81C3/00
Abstract: 提供一种工件贴合装置，能够向工件表面放射粒子而进行改性，将两片工件层叠，加压(或加热)而贴合。将第1工件(W1)载放并吸附保持到反转台单元(30)的反转台(31)上，并且将第2工件(W2)载放到加压台单元(20)的工件台(21)上，例如从光照射单元(10)照射UV光，将工件(W1、W2)的表面改性。接着，使反转台单元(30)、加压台单元(20)从光照射单元(10)退避，使反转台(31)旋转180°，在工件台(21)上使工件(W1、W2)重合，并将工件(W1、W2)加压(或加热)而贴合。接着，使反转台(31)反转到原状态，将贴合后的工件(W1、W2)(微芯片)取出。
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公开(公告)号：CN102126700A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN201010517187.4
申请日：2010-10-19
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: B81C3/00
Abstract: 提供一种工件贴合装置，能够向工件表面放射粒子而进行改性，将两片工件层叠，加压(或加热)而贴合。将第1工件(W1)载放并吸附保持到反转台单元(30)的反转台(31)上，并且将第2工件(W2)载放到加压台单元(20)的工件台(21)上，例如从光照射单元(10)照射UV光，将工件(W1、W2)的表面改性。接着，使反转台单元(30)、加压台单元(20)从光照射单元(10)退避，使反转台(31)旋转180°，在工件台(21)上使工件(W1、W2)重合，并将工件(W1、W2)加压(或加热)而贴合。接着，使反转台(31)反转到原状态，将贴合后的工件(W1、W2)(微芯片)取出。
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公开(公告)号：CN1750230B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200510099983.X
申请日：2005-09-13
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01J65/00
Abstract: 提供一种即使对超过1000mm的长尺寸灯，也可简单且安全地进行更换，而可避免灯室内或输送室内被污染，可靠度较高的受激准分子灯装置。一种在灯室内收容受激准分子灯，而将来自灯的紫外线照射往外部的受激准分子灯装置，其特征在于，具备在灯室(10)内部平行排列的多个板状框架(110)、成形为大致矩形箱型且底部形成有灯收容部(125)的单元(120)、和被收容于灯收容部的受激准分子灯(121)，所述单元(120)被插入相对配置的框架(110、110)之间，同时可取出地被该框架(110、110)支撑。
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公开(公告)号：CN1750230A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200510099983.X
申请日：2005-09-13
Applicant: 优志旺电机株式会社
IPC: H01J65/00
Abstract: 提供一种即使对超过1000mm的长尺寸灯，也可简单且安全地进行更换，而可避免灯室内或输送室内被污染，可靠度较高的受激准分子灯装置。一种在灯室内收容受激准分子灯，而将来自灯的紫外线照射往外部的受激准分子灯装置，其特征在于，具备在灯室(10)内部平行排列的多个板状框架(110)、成形为大致矩形箱型且底部形成有灯收容部(125)的单元(120)和被收容于灯收容部的受激准分子灯(121)，所述单元(120)被插入相对配置的框架(110、110)之间，同时可取出地被该框架(110、110)支撑。
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