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公开(公告)号:CN110268092B
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN201880010776.8
申请日:2018-02-09
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供溅射靶的加工方法,其是对包含溅射面、前述溅射面的相反侧的相对面、和前述溅射面与前述相对面之间的外周面的溅射靶进行加工的方法,所述溅射靶的加工方法具备:将前述溅射靶的前述溅射面或前述相对面设置于固定台,从而将前述溅射靶固定于前述固定台的工序;和,一边使切削工具沿前述溅射靶的前述外周面的周向旋转,一边利用前述切削工具切削前述溅射靶的前述外周面的工序。
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公开(公告)号:CN113316658A
公开(公告)日:2021-08-27
申请号:CN202080008654.2
申请日:2020-01-30
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供靶材不易剥离的溅射靶。本发明的溅射靶具备:背板;和靶材,其借助接合材料而接合于所述背板的接合区域,其中,所述靶材与所述背板之间的接合部位的接合面积相对于所述接合区域的面积而言为97%以上,所述靶材与所述背板之间的不存在接合材料的部位的最大缺陷面积相对于所述接合区域的面积而言为0.6%以下。
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公开(公告)号:CN111074218A
公开(公告)日:2020-04-28
申请号:CN202010075993.4
申请日:2017-02-02
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明涉及圆筒型靶的制造方法及圆筒型靶。本发明的课题在于提供制造在长度方向上几乎没有变形的圆筒型靶的方法。本发明涉及的圆筒型靶的制造方法包括下述工序:将靶材料加工成圆筒形状的工序;在已被加工成圆筒形状的靶材料上设置用于安装至溅射装置的接合件的工序;和为了对具有接合件的靶材料的直线度是否在预先规定的范围内进行确认,而对具有接合件的靶材料的外观的长度方向上的直线度进行测定的工序。
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公开(公告)号:CN108778588A
公开(公告)日:2018-11-09
申请号:CN201880001274.9
申请日:2018-02-09
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor: 藤田昌宏
Abstract: 本发明提供一种对溅射靶进行加工的方法,所述方法中,使具有在沿轴的截面中包含圆弧状的凹曲面的刃部的切削工具围绕轴进行旋转,利用刃部的凹曲面,对溅射靶的溅射面与侧面形成的角部进行倒角,以使其接近圆弧状的目标R面,其中,以在沿轴的截面中使刃部的凹曲面的曲率半径Ra大于或等于目标R面的曲率半径Rb、并且使刃部的凹曲面的两端从溅射靶离开的方式,对溅射靶的角部进行倒角。
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公开(公告)号:CN116377401A
公开(公告)日:2023-07-04
申请号:CN202310394114.8
申请日:2020-01-30
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明涉及溅射靶、将靶材与背板接合的方法及溅射靶的制造方法。本发明的课题是提供靶材不易剥离的溅射靶。本发明的溅射靶具备:背板;和靶材,其借助接合材料而接合于所述背板的接合区域,其中,所述靶材与所述背板之间的接合部位的接合面积相对于所述接合区域的面积而言为97%以上,在整个所述接合区域中,所述靶材与所述背板之间的不存在接合材料的部位的最大缺陷面积相对于所述接合区域的整面的面积而言为0.6%以下。
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公开(公告)号:CN109689925A
公开(公告)日:2019-04-26
申请号:CN201880003499.8
申请日:2018-02-09
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor: 藤田昌宏
Abstract: 溅射靶用切削工具,其是用于将溅射靶的溅射面与侧面形成的角部倒角成R面的溅射靶用切削工具,其具备轴部、和被设置在所述轴部的前端的刃部,在沿着所述轴部的轴的截面中,所述刃部具有:沿着所述轴延伸的侧面、与所述轴交叉的前端面、位于所述侧面与所述前端面之间且从后端向前端延伸的主凹曲面、在所述主凹曲面的前端与所述前端面之间连接的第1缺口面、和在所述主凹曲面的后端与所述侧面之间连接的第2缺口面。
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公开(公告)号:CN108603282A
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201780009419.5
申请日:2017-02-02
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供制造在长度方向上几乎没有变形的圆筒型靶的方法。本发明涉及的圆筒型靶的制造方法包括下述工序:将靶材料加工成圆筒形状的工序;在已被加工成圆筒形状的靶材料上设置用于安装至溅射装置的接合件的工序;和为了对具有接合件的靶材料的直线度是否在预先规定的范围内进行确认,而对具有接合件的靶材料的外观的长度方向上的直线度进行测定的工序。
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公开(公告)号:CN110709532B
公开(公告)日:2021-07-16
申请号:CN201880035775.9
申请日:2018-06-21
Abstract: 溅射靶材(2)由纯度为99.999质量%以上的铝和不可避免的杂质构成。在将板表面(21)的平均晶粒直径设为Ds[μm],将板厚的1/4的深度(22)处的平均晶粒直径设为Dq[μm],并将板厚的1/2的深度(23)处的平均晶粒直径设为Dc[μm]时,满足下述式,并且平均晶粒直径在板厚方向上连续地变化,Ds≤230Dq≤280Dc≤3001.2≤Dq/Ds1.3≤Dc/Ds。
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