淀积薄膜形成设备和用于其中的电极

    公开(公告)号:CN1131204A

    公开(公告)日:1996-09-18

    申请号:CN95119797.5

    申请日:1995-12-26

    Inventor: 青池达行

    Abstract: 发明的能够形成具有小数量结构缺陷的淀积薄膜和具有杰出图象特性的用于电子照相的光接收部件的淀积薄膜形成设备,包括用来供应源气体至能够降低压力且其中布置有基片的反应容器内的装置,和用来供应高频功率至其中布置有基片的反应容器的高频电源装置,源气体被高频功率分解以便能在基片上形成淀积薄膜,其中所述高频电源装置的供应部分由多个部件构成。

    淀积薄膜形成设备和用于其中的电极

    公开(公告)号:CN1079843C

    公开(公告)日:2002-02-27

    申请号:CN95119797.5

    申请日:1995-12-26

    Inventor: 青池达行

    Abstract: 本发明公开一种淀积薄膜形成设备,能够形成具有小量结构缺陷的淀积薄膜和具有杰出图象特性的用于电子照相的光接收部件,包括用来供应漏气体至能够降低压力且其中布置有基片的反应容器内的装置,和用来供应高频功率至其中布置有基片的反应容器的高频功率供应装置,被高频功率分解以便能在基片上形成淀积膜的源气体,其中所述高频功率供应装置的供应部分由多个部件构成。

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