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公开(公告)号：CN87102632A
公开(公告)日：1988-01-20
申请号：CN87102632
申请日：1987-04-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/08
CPC classification number: G03G5/08235 , G03G5/0825 , G03G5/08278
Abstract: 提供一种改进的用铝材料作为基底的、用于电子摄影和其它各类装置中的光接收元件，其特征在于，在基底和光接收层之间设有一层缓冲层，以改善在铝基底和设在其上的光接收层之间的粘结力。改进的光接收元件满意地解决了常规的光接收元件中由于在铝基底和压在其上的光接收层之间粘结力不足，而产生的各种问题。
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公开(公告)号：CN1049530A
公开(公告)日：1991-02-27
申请号：CN90106810.1
申请日：1990-06-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J37/3222 , C23C16/50 , H01J37/32192 , H01J37/3277 , H01J2237/3325 , H01L31/202 , H01L31/206 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 介绍一种用微波等离子体CVD工艺连续形成大面积实用沉积膜的方法，该法包括：沿长度连续移动含导电部件的带状部件的步骤，此间通过将移动式带状部件构成成膜空间侧壁，于其内建立起基本上可保持真空的柱状成膜空间；再通过送气装置向成膜空间充入用于成膜的原始气体；同时通过微波天线在所有垂直于微波运动的方向上辐射微波，由此向成膜空间提供微波功率，使在空间内激发起等离子体，从而将薄膜沉积在暴露于等离子体侧壁的连续移动的带状部件表面上。本文也介绍了实现该方法的装置。
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公开(公告)号：CN1049870A
公开(公告)日：1991-03-13
申请号：CN90106809.8
申请日：1990-06-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L31/076 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/3277 , H01J2237/3325 , H01L31/206 , Y02E10/548 , Y02P70/521
Abstract: 一种采用微波等离子CVD工艺连续形成大面积功能性淀积薄膜的方法，所述方法包括：按纵向连续移动的基片带；在基片移动过程中通过弯曲和凸起所述移动基片带以形成所述成膜室圆周壁的圆筒形部分从而建立具有成膜空间的基本封闭的成膜室；通过气体输送装置将成膜原材料气体导入所述成膜空间；同时，通过采用微波施加装置将微波能辐射或传播到所述成膜空间，其中微波施加装置能够以垂直于微波能传播方向具有方向性地辐射或传播所述微波能以便在所述成膜空间产生微波等离子区，由此在暴露于所述微波等离子区的所述连续移动圆周壁的内表面上连续形成功能性淀积薄膜。一种适用于实际所述方法的装置。
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公开(公告)号：CN1048568A
公开(公告)日：1991-01-16
申请号：CN90103311.1
申请日：1990-06-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L31/076 , C23C16/511 , C23C16/545 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/3277 , H01L21/02425 , H01L21/0245 , H01L21/02505 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L29/872 , H01L31/202 , H01L31/204 , H01L31/206 , Y02E10/548 , Y02P70/521
Abstract: 微波等离子CVD方法用以连续地形成大面积的长的功能性淀积膜，包括：使一衬底腹板从释放机构到卷收机构在纵向连续地运动；在运动中将衬底腹板弯曲和突出形成一圆柱形部分作为膜生成腔的圆周墙；将原料气体由供气装置引入到上述膜生成腔内；同时利用微波施加器装置将微波能量辐射到上述膜生成腔内，以在上述的膜生成腔内产生微波等离子，借此在暴露在上述微波等离子中的上述连续运动的圆周墙的内墙表面上形成淀积膜。
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公开(公告)号：CN1032021C
公开(公告)日：1996-06-12
申请号：CN90106810.1
申请日：1990-06-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J37/3222 , C23C16/50 , H01J37/32192 , H01J37/3277 , H01J2237/3325 , H01L31/202 , H01L31/206 , Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 介绍一种用微波等离子体CVD工艺连续形成大面积实用沉积膜的方法，该法包括：沿长度连续移动含导电部件的带状部件的步骤，此间通过将移动式带状部件构成成膜空间侧壁，于其内建立起基本上可保持真空的柱状成膜空间；再通过送气装置向成膜空间充入用于成膜的原始气体；同时通过微波天线在所有垂直于微波运动的方向上辐射微波，由此向成膜空间提供微波功率，使在空间内激发起等离子体，从而将薄膜沉积在暴露于等离子体侧壁的连续移动的带状部件表面上。本文也介绍了实现该方法的装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1030722C
公开(公告)日：1996-01-17
申请号：CN90103311.1
申请日：1990-06-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L31/076 , C23C16/511 , C23C16/545 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/3277 , H01L21/02425 , H01L21/0245 , H01L21/02505 , H01L21/02532 , H01L21/0262 , H01L29/872 , H01L31/202 , H01L31/204 , H01L31/206 , Y02E10/548 , Y02P70/521
Abstract: 微波等离子CVD方法用以连续地形成大面积的长的功能性淀积膜，包括：使一衬底腹板从释放机构到卷收机构在纵向连续地运动；在运动中将衬底腹板弯曲和突出形成一圆柱形部分作为膜生成腔的圆周墙；将原料气体由供气装置引入到上述膜生成腔内；同时利用微波施加器装置将微波能量辐射到上述膜生成腔内，以在上述的膜生成腔内产生微波等离子，借此在暴露在上述微波等离子中的上述连续运动的圆周墙的内墙表面上形成淀积膜。
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公开(公告)号：CN1029993C
公开(公告)日：1995-10-11
申请号：CN90106809.8
申请日：1990-06-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01L31/076 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/3277 , H01J2237/3325 , H01L31/206 , Y02E10/548 , Y02P70/521
Abstract: 一种采用微波等离子CVD工艺连续形成大面积功能性淀积薄膜的方法，所述方法包括：按纵向连续移动的基片带；在基片移动过程中通过弯曲和凸起所述移动基片带以形成所述成膜室圆周壁的圆筒形部分从而建立具有成膜空间的基本封闭的成膜室；通过气体输送装置将成膜原材料气体导入所述成膜空间；同时，通过采用微波施加装置将微波能辐射或传播到所述成膜空间，其中微波施加装置能够以垂直于微波能传播方向具有方向性地辐射或传播所述微波能以便在所述成膜空间产生微波等离子区，由此在暴露于所述微波等离子区的所述连续移动圆周壁的内表面上连续形成功能性淀积薄膜。一种适用于实际所述方法的装置。
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公开(公告)号：CN1012851B
公开(公告)日：1991-06-12
申请号：CN87102632
申请日：1987-04-08
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/08235 , G03G5/0825 , G03G5/08278
Abstract: 提供一种改进的用铝材料作为基底的、用于电子摄影和其它各类装置中的光接收元件，其特征在于，在基底和光接收层之间设有一层缓冲层，以改善在铝基底和设在其上的光接收层之间的粘结力。改进的光接收元件满意地解决了常规的光接收元件中由于在铝基底和压在其上的光接收层之间粘结力不足，而产生的各种问题。
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公开(公告)号：CN1011626B
公开(公告)日：1991-02-13
申请号：CN87102801
申请日：1987-04-17
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/08242 , G03G5/08228 , Y10S430/146
Abstract: 电子摄影用的改进的光接收元件至少具有由A-Si(H，X)系列材料构成的光电导层和由A-Si(C，O，N)(H，X)构成的表面层。其特征在于，在表面层中所含原子(C，O，N)的浓度，从表面层与光电导层之间的界面位置起向着表面层的自由表面逐渐增大，同时在该界面处留下与表面层的折射系数和光电导层的折射系数之间的折射系数差(Δn)[Δn≤0.62]相对应的部分，而这在成像过程中可以忽略不计。
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公开(公告)号：CN87102801A
公开(公告)日：1988-01-20
申请号：CN87102801
申请日：1987-04-17
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/08242 , G03G5/08228 , Y10S430/146
Abstract: 电子摄影用的改进的光接收元件至少具有由A—Si(H，X)系列材料构成的光电导层和由A—Si(C，O，N)(H，X)构成的表面层。其特征在于，在表面层中所含原子(C，O，N)的浓度，从表面层与光电导层之间的界面位置起向着表面层的自由表面逐渐增大，同时在该界面处留下与表面层的折射系数和光电导层的折射系数之间的折射系数差(n)[Δn≦0.62]相对应的部分，而这在成像过程中可以忽略不计。
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