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公开(公告)号：CN113527680B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202011486388.2
申请日：2020-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种聚合物，该聚合物能够用作可溶于碱性水溶液、可形成微细图案、可获得高分辨率，并且即使在低温下进行固化时机械特性仍良好的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物的基础树脂。此外，还提供使用了所述聚合物的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物。所述聚合物的特征在于，含有下述通式(1)和/或(2)表示的结构单元。式中，T1、T2任选彼此相同或不同，表示‑CO‑、‑SO2‑中的任意一种，X1为4价有机基团，l为0或1。式中，T1、T2、l与所述T1、T2、l相同，X2为2价有机基团。
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公开(公告)号：CN110016136A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201811477764.4
申请日：2018-12-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够导出聚酰亚胺的四羧酸二酐、使用该四羧酸二酐而得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法，所述聚酰亚胺可在不损害机械强度、密着性等优异的特征的情况下形成微细的图案并得到高分辨率，且可用作光敏树脂组合物的基础树脂。所述四羧酸二酐的特征在于，为下述通式(1)所示的四羧酸二酐。[化学式1]
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公开(公告)号：CN107544206A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710504684.2
申请日：2017-06-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07C25/18 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D327/08
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明的抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含有碘代苯甲酰氧基的氟代磺酸的锍盐或碘鎓盐，无论其为正型或负型，都提供高感光度和最小的LWR或改善的CDU。
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公开(公告)号：CN111830785B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202010291525.0
申请日：2020-04-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08G73/10 , C08G73/14
Abstract: 本发明涉及树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜及电子零件。本发明的课题目的为提供一种正型感光性树脂组成物，能形成微细的图案且可获得高分辨率，且即使在低温硬化时，机械特性仍良好。该课题的解决方法为一种正型感光性树脂组成物，其特征为含有：(A‑1)碱可溶性树脂，至少包含选自于聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的1种以上的结构；(A‑2)树脂，至少包含选自于不具碱可溶性基团而在分子末端具有至少具有1个以上的氮原子的杂环骨架的聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的1种以上的结构；(B)特定感光剂；及(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN113527101A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202011486319.1
申请日：2020-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种化合物、使用该化合物得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法，所述化合物能够衍生出聚酰亚胺，该聚酰亚胺能够用作不损害机械强度、溶解性等优异的特征，可形成微细的图案且能够获得高分辨率的光敏性树脂组合物的基础树脂。所述化合物的特征在于，由下述通式(1)表示。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110016136B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN201811477764.4
申请日：2018-12-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够导出聚酰亚胺的四羧酸二酐、使用该四羧酸二酐而得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法，所述聚酰亚胺可在不损害机械强度、密着性等优异的特征的情况下形成微细的图案并得到高分辨率，且可用作光敏树脂组合物的基础树脂。所述四羧酸二酐的特征在于，为下述通式(1)所示的四羧酸二酐。[化学式1]
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公开(公告)号：CN111830785A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010291525.0
申请日：2020-04-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08G73/10 , C08G73/14
Abstract: 本发明涉及树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜及电子零件。本发明的课题目的为提供一种正型感光性树脂组成物，能形成微细的图案且可获得高分辨率，且即使在低温硬化时，机械特性仍良好。该课题的解决方法为一种正型感光性树脂组成物，其特征为含有：(A-1)碱可溶性树脂，至少包含选自于聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的1种以上的结构；(A-2)树脂，至少包含选自于不具碱可溶性基团而在分子末端具有至少具有1个以上的氮原子的杂环骨架的聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的1种以上的结构；(B)特定感光剂；及(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN110790928A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201910708540.8
申请日：2019-08-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种聚合物，其易溶于广泛使用且安全的有机溶剂，可溶于碱性水溶液，且能够作为可形成精细图案并能够得到高分辨率的正型光敏树脂组合物的基础树脂而使用。所述聚合物具有聚酰胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰亚胺结构单元，其特征在于，所述聚合物选自聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体，所述聚合物包含二胺与下述通式(3)所表示的四羧酸二酐及下述通式(4)所表示的二羧酸或二羧酸卤化物中的任意一种以上的反应生成物，所述二胺含有下述通式(1)所表示的二胺及通式(2)所表示的二胺中的任意一种以上。[化学式1][化学式2][化学式3] [化学式4]。
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公开(公告)号：CN113527101B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202011486319.1
申请日：2020-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种化合物、使用该化合物得到的聚酰亚胺树脂及其制造方法，所述化合物能够衍生出聚酰亚胺，该聚酰亚胺能够用作不损害机械强度、溶解性等优异的特征，可形成微细的图案且能够获得高分辨率的光敏性树脂组合物的基础树脂。所述化合物的特征在于，由下述通式(1)表示。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN110963952B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN201910920497.1
申请日：2019-09-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C317/12 , C07C25/18 , C07C317/04 , C07C317/08 , C07C317/18 , C07C317/14 , C07C317/24 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D279/20 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07D335/12 , C07D333/08 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07C211/63 , C07C211/64 , C07D277/10 , C07C215/40 , C07D487/18 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供具有式(1)的新型鎓盐和包含该鎓盐作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当使用高能辐射通过光刻法加工抗蚀剂组合物时，形成抗蚀剂图案，其在LWR和CDU方面得到改善。在式(1)中，R1、R2和R3各自为含有除氟以外的杂原子的C1‑C20一价烃基，Z+为锍、碘鎓或铵阳离子。
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