等离子体喷涂沉积送粉装置、送粉方法以及沉积设备

    公开(公告)号:CN119710530A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411884801.9

    申请日:2024-12-19

    Abstract: 本发明提供了一种等离子体喷涂沉积送粉装置、送粉方法以及沉积设备。该等离子体喷涂沉积送粉装置,其包括注粉管道以及喷枪,喷枪用于喷射等离子体,注粉管道具有朝向喷枪的喷射路径上的出料口。注粉管道包括依次设置的第一弯折段和第二弯折段,第一弯折段具有第一弯折始端和第一弯折末端,第二弯折段具有第二弯折始端和第二弯折末端,第一弯折始端的管道轴向与第一弯折末端的管道轴向相交,第二弯折始端的管道轴向与第二弯折末端的管道轴向相交。较于传统技术中的直管设计,本发明的等离子体喷涂沉积送粉装置通过改造管道的构造,能够巧妙地提高其破碎粉体材料的能力。

    一种耐高温长寿命热阻涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116180019B

    公开(公告)日:2025-03-18

    申请号:CN202310023713.9

    申请日:2023-01-09

    Abstract: 本发明公开了一种低成本、耐高温、长寿命热阻涂层的制备方法及制备的涂层,包括在高温合金基底表面制备金属粘结层;采用电子束物理气相沉积工艺在得到的金属粘结层表面制备具有“Z”字型结构的陶瓷内层;采用EB‑PVD工艺在得到的陶瓷内层表面制备具有“Z”字型结构低红外发射率层。本发明方法制备的涂层克服上述现有技术所制备涂层发射率高、抗热循环性差、成本高等问题,在1000℃以上具有良好的稳定性,3‑5μm红外发射率低至0.3,1000℃热导率低至0.8w/(m*k),且热循环性能优异、成本低。

    利用PS-PVD在复杂型面表面制备均匀涂层的方法

    公开(公告)号:CN112063962A

    公开(公告)日:2020-12-11

    申请号:CN202010964264.4

    申请日:2020-09-15

    Abstract: 本发明公开了一种利用等离子物理气相沉积(PS‑PVD)在多个复杂型面工件表面一次制备均匀涂层的方法,通过本发明的技术方案,能够实现对待喷涂工件做到精确均匀预热,对于复杂型面各部位实现均匀加热,提高复杂型面工件表面涂层均一性;本发明能够在真空和惰性气体的保护作用下,工件基体在不发生变形和组织变化的情况下,允许较高的预热温度,既可以使涂层颗粒与基体的温差减小,减慢涂层的冷却速度,减少热应力产生,使涂层不易产生裂纹,又能使气相粒子喷射到基体表面时,充分扩散,形成排列整齐的柱状结构涂层;此外,还有利于增强涂层与基体间的结合力。

    复合垂直裂纹和准柱状梯度结构热障涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN113862603B

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202110913596.4

    申请日:2021-08-10

    Abstract: 本发明公开了复合垂直裂纹和准柱状梯度结构热障涂层及其制备方法,涉及材料加工领域,该制备方法在低真空条件下等离子喷涂系统中的低压舱内开展,该方法通过控制相关参数,获得了射流长度1000mm‑1800mm,径向扩张尺寸200mm‑400mm的等离子射流;利用该等离子射流喷涂陶瓷粉末,通过不同的喷涂距离、总气流量等的控制,获得了不同分布密度的准柱状结构陶瓷涂层;随着低压舱内的真空度、等离子体的工作电流、总气流量以及喷涂距离的调整,继续对准柱状结构陶瓷涂层进行预烧结,实现了直接在高温合金等金属热端部件表面沉积复合垂直裂纹和准柱状梯度结构热障涂层,该复合涂层的垂直裂纹间距可控,改善了涂层间的结合强度,提高了抗热冲击性能。

    一种雷达吸波兼容红外隐身的高温涂层制备方法及涂层

    公开(公告)号:CN118308681B

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202410734538.9

    申请日:2024-06-07

    Abstract: 本发明属于涂层制备技术领域,具体涉及一种雷达吸波兼容红外隐身的高温涂层制备方法及涂层;包括选择吸波相材料粉和透波相材料粉,并将吸波相材料粉与透波相材料粉以不同比例混合,得到吸波相材料粉含量不同的多组混合粉料;采用所述多组混合粉,在高温合金基体的金属粘结层表面通过喷涂或沉积的方式制备梯度吸波陶瓷层,在梯度吸波陶瓷层的厚度方向上形成线性变化的成分梯度,使吸波相材料的含量随着梯度吸波陶瓷层的厚度增加而均匀减少;在梯度吸波陶瓷层表面制备表面低发射率层,得到梯度吸波的隐身涂层;本发明得到的涂层吸波效果强,兼具低红外发射率,且耐高温,可在1200‑1600℃使用,制备工艺简单,涂层成本低。

    一种送粉机构、送粉器和喷涂设备

    公开(公告)号:CN114107946B

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202210068788.4

    申请日:2022-01-21

    Abstract: 本发明公开了一种送粉机构、送粉器和喷涂设备,所述送粉机构包括储粉腔体(1),储粉腔体(1)上方设有粉末入口(10)和加热气体入口(11),储粉腔体(1)内设有粉刷,粉刷包括旋转体(3)以及固定在旋转体(3)上的刷体(2);旋转体(3)在驱动机构(6)的驱动下沿旋转轴(4)自转;粉刷下方设有筛网(5),筛网(5)与储粉腔体(1)连接;粉刷表面凸起的刷体(2)接触到储粉腔体(1)内表面,对不同粒径的粉末采用不用的刷体材料搭配,本发明可精确控制送粉速率,实现微小量并均匀送粉,增大了送粉粒径范围,对粉末的流动性无要求,适用于各种粉末的输送。

    复合涂层及其制备方法、热障涂层

    公开(公告)号:CN114231908A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111575764.X

    申请日:2021-12-21

    Abstract: 本发明涉及热障涂层技术领域,具体而言,涉及一种复合涂层及其制备方法、热障涂层。复合涂层表面具有微纳复合结构,复合涂层的组成包括掺杂Al2O3的GYbZ,GYbZ为Yb改性的锆酸钆,Al2O3的掺杂量为5mol%~20mol%。Al2O3能够有效抑制GYbZ晶粒及涂层微纳结构中纳米颗粒的长大,从而提高了复合涂层的高温抗烧结性能和高温稳定性,保障热障涂层体系高温长时疏高温熔融CMAS的能力。

    一种提高PS-PVD沉积过程中气相比例的装置及方法

    公开(公告)号:CN114059020A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202210011953.2

    申请日:2022-01-07

    Abstract: 本发明公开了一种提高PS‑PVD沉积过程中气相比例的装置和方法,装置为同心环式遮挡装置,包括第一同心环和第二同心环,第一同心环包括第一外环和第一内环,第二同心环包括第二外环和第二内环;第一外环、第一内环、第二外环和第二内环,在垂直PS‑PVD射流方向表面上的投影相互连接,相互没有空隙,第一外环、第一内环和第二外环、第二内环在沿着方向PS‑PVD射流方向上错位交互排列,即第一外环与第二外环、第二外环与第一内环、第一内环与第二内环之间均留有间隙;第二内环的内部为中空,没有遮挡;各同心环从射流中心到边缘方向的排列逐渐稀疏,本发明能有效过滤掉射流边缘中的液相或未熔颗粒,保证沉积过程中为气相沉积,沉积工件表面涂层结构一致,厚度均匀。

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