公开(公告)号：CN106547166B

公开(公告)日：2020-12-01

申请号：CN201510859792.2

申请日：2015-11-30

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  秦圣基 ,  朱远志

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F1/48

Abstract: 本公开提供制造护膜组件的方法，此方法包含在载板上方形成脱模层，在脱模层上方制造膜层，将护膜框架附着至膜层，在护膜框架附着至膜层之后，对脱模层实施脱模处理工艺将载板从膜层分开，形成护膜组件，护膜组件包含护膜框架和附着至护膜框架的膜层。

公开(公告)号：CN106547166A

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201510859792.2

申请日：2015-11-30

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  秦圣基 ,  朱远志

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/62 ,  G03F1/48

Abstract: 本公开提供制造护膜组件的方法，此方法包含在载板上方形成脱模层，在脱模层上方制造膜层，将护膜框架附着至膜层，在护膜框架附着至膜层之后，对脱模层实施脱模处理工艺将载板从膜层分开，形成护膜组件，护膜组件包含护膜框架和附着至护膜框架的膜层。

公开(公告)号：CN103941313B

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201310141615.1

申请日：2013-04-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  郭英颢 ,  陈海清 ,  包天一

IPC: G02B6/136

CPC classification number: B05D5/06 ,  G02B3/00 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0043 ,  G02B6/136

Abstract: 本发明提供了一种光学元件结构和该光学元件结构的制造工艺。光学元件制造工艺包括提供其上形成有突出物的衬底；以及通过沉积方案在突出物和衬底上方形成上覆涂层以形成光学元件。

公开(公告)号：CN103257398B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201210238921.2

申请日：2012-07-10

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  李宛谕 ,  陈海清 ,  包天一

IPC: G02B6/13 ,  G03F7/00 ,  H01S5/20

CPC classification number: G02B6/12004 ,  G02B6/0083 ,  G02B6/132 ,  G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G02B6/4214 ,  G02B2006/12061 ,  G02B2006/12104 ,  G02B2006/12121 ,  G02B2006/12176

Abstract: 本发明公开了一种制造波导器件的方法。方法包括提供具有电互连区和波导区的衬底以及在电互连区内的衬底上方形成图案化介电层和图案化再分布层(RDL)。方法还包括通过接合叠层将图案化RDL接合至垂直腔面发射激光器(VCSEL)。在波导区内的衬底中形成反射镜沟槽，并在波导区内部的反射镜区上方形成反射层。方法进一步包括在波导区内部的波隧道区中形成并图案化底覆层以及在波导区中形成并图案化芯层和顶覆层。本发明还提供了制造聚合物波导的方法。

公开(公告)号：CN104216046B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201310346904.5

申请日：2013-08-09

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  郭英颢 ,  陈海清 ,  包天一

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/13 ,  G02B6/42

CPC classification number: G02B6/136 ,  G02B6/12004 ,  G02B6/43

Abstract: 本发明提供了形成波导结构的实施例。波导结构包括衬底，并且衬底具有互连区域和波导区域。波导结构还包括形成在衬底中的沟槽，并且沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部。波导结构还包括形成在衬底上的底部覆层，并且底部覆层自互连区域延伸至波导区域，底部覆层充当互连区域中的绝缘层。波导结构还包括形成在倾斜的侧壁表面上的底部覆层上的金属层。本发明还提供了该波导结构的制造方法。

公开(公告)号：CN103941313A

公开(公告)日：2014-07-23

申请号：CN201310141615.1

申请日：2013-04-22

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  郭英颢 ,  陈海清 ,  包天一

IPC: G02B3/00 ,  G02B6/122 ,  G02B6/13 ,  G02B1/10

CPC classification number: B05D5/06 ,  G02B3/00 ,  G02B3/0012 ,  G02B3/0043 ,  G02B6/136

Abstract: 本发明提供了一种光学元件结构和该光学元件结构的制造工艺。光学元件制造工艺包括提供其上形成有突出物的衬底；以及通过沉积方案在突出物和衬底上方形成上覆涂层以形成光学元件。

公开(公告)号：CN103257398A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201210238921.2

申请日：2012-07-10

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  李宛谕 ,  陈海清 ,  包天一

IPC: G02B6/13 ,  G03F7/00 ,  H01S5/20

CPC classification number: G02B6/12004 ,  G02B6/0083 ,  G02B6/132 ,  G02B6/136 ,  G02B6/138 ,  G02B6/4214 ,  G02B2006/12061 ,  G02B2006/12104 ,  G02B2006/12121 ,  G02B2006/12176

Abstract: 本发明公开了一种制造波导器件的方法。方法包括提供具有电互连区和波导区的衬底以及在电互连区内的衬底上方形成图案化介电层和图案化再分布层(RDL)。方法还包括通过接合叠层将图案化RDL接合至垂直腔面发射激光器(VCSEL)。在波导区内的衬底中形成反射镜沟槽，并在波导区内部的反射镜区上方形成反射层。方法进一步包括在波导区内部的波隧道区中形成并图案化底覆层以及在波导区中形成并图案化芯层和顶覆层。本发明还提供了制造聚合物波导的方法。

公开(公告)号：CN104216046A

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：CN201310346904.5

申请日：2013-08-09

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 曾俊豪 ,  郭英颢 ,  陈海清 ,  包天一

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/13 ,  G02B6/42

CPC classification number: G02B6/136 ,  G02B6/12004 ,  G02B6/43

Abstract: 本发明提供了形成波导结构的实施例。波导结构包括衬底，并且衬底具有互连区域和波导区域。波导结构还包括形成在衬底中的沟槽，并且沟槽具有倾斜的侧壁表面和基本平坦的底部。波导结构还包括形成在衬底上的底部覆层，并且底部覆层自互连区域延伸至波导区域，底部覆层充当互连区域中的绝缘层。波导结构还包括形成在倾斜的侧壁表面上的底部覆层上的金属层。本发明还提供了该波导结构的制造方法。