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公开(公告)号：CN102251214A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110185137.5
申请日：2011-07-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 磷化硼耐磨耐蚀涂层的制备方法，它属于耐磨耐蚀涂层领域。本发明要解决现有磷化硼薄膜制备方法存在寿命短的技术问题。本发明方法：一、超声清洗；二、将步骤一处理后的不锈钢衬底置于磁控溅射真空仓内的加热台上，然后对真空仓进行抽真空至真空度达到1.0×10-7～9.9×10-7Pa，启动加热装置，加热至200～600℃后保温10～30分钟；步骤三、反溅清洗；步骤四、以高纯硼靶和PH3做反应物镀膜，制得磷化硼耐磨耐蚀涂层。本发明制备的磷化硼薄膜具有很高的硬度与模量，与基底良好的附着性以及很低的残余应力，在摩擦磨损过程中磨损率小，磨损寿命长。
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公开(公告)号：CN100554501C
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200710144777.5
申请日：2007-12-07
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法，它涉及碳化硅反射镜表面的涂膜方法。它解决了现有反射镜的两相具有相差悬殊的硬度值，使抛光的均匀性受到影响，加工难度高；反射镜的粗糙度较高、表面易损伤的问题。本发明的方法为：一、将碳化硅反射镜进行清洗；二、将碳化硅反射镜置于磁控溅射真空仓内的加热台上；三、将真空仓内抽真空，对碳化硅反射镜加热；四、通入Ar气，启动电离电源，对碳化硅反射镜表面进行电离清洗；五、向反射镜表面进行磁控溅射沉积镀膜。本发明方法制备的硅膜致密性好，覆盖了碳化硅表面的两相组织，易于抛光，光学精度高，硅膜与反射镜表面的结合性好。
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公开(公告)号：CN102251214B
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201110185137.5
申请日：2011-07-04
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 磷化硼耐磨耐蚀涂层的制备方法，它属于耐磨耐蚀涂层领域。本发明要解决现有磷化硼薄膜制备方法存在寿命短的技术问题。本发明方法：一、超声清洗；二、将步骤一处理后的不锈钢衬底置于磁控溅射真空仓内的加热台上，然后对真空仓进行抽真空至真空度达到1.0×10-7～9.9×10-7Pa，启动加热装置，加热至200～600℃后保温10～30分钟；步骤三、反溅清洗；步骤四、以高纯硼靶和PH3做反应物镀膜，制得磷化硼耐磨耐蚀涂层。本发明制备的磷化硼薄膜具有很高的硬度与模量，与基底良好的附着性以及很低的残余应力，在摩擦磨损过程中磨损率小，磨损寿命长。
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公开(公告)号：CN101177779A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200710144777.5
申请日：2007-12-07
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 采用磁控溅射在碳化硅反射镜表面涂覆硅膜的方法，它涉及碳化硅反射镜表面的涂膜方法。它解决了现有反射镜的两相具有相差悬殊的硬度值，使抛光的均匀性受到影响，加工难度高；反射镜的粗糙度较高、表面易损伤的问题。本发明的方法为：一、将碳化硅反射镜进行清洗；二、将碳化硅反射镜置于磁控溅射真空仓内的加热台上；三、将真空仓内抽真空，对碳化硅反射镜加热；四、通入Ar气，启动电离电源，对碳化硅反射镜表面进行电离清洗；五、向反射镜表面进行磁控溅射沉积镀膜。本发明方法制备的硅膜致密性好，覆盖了碳化硅表面的两相组织，易于抛光，光学精度高，硅膜与反射镜表面的结合性好。
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