公开(公告)号：CN110794656A

公开(公告)日：2020-02-14

申请号：CN201910656946.6

申请日：2019-07-19

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 山田将弘 ,  喜田哲也 ,  冈岛弘明

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/00 ,  G02F1/1335

Abstract: 使抗蚀膜适当地形成图案。一种抗蚀膜形成基板的制造方法具有：在基板(10MG)上涂布抗蚀膜(18、19)的涂布工序、选择性地曝光在涂布工序中涂布的抗蚀膜(18、19)的曝光工序、显影在曝光工序中选择性地曝光的抗蚀膜(18、19)的显影工序，所述显影工序基于进行涂布工序之后转移到该显影工序的转移时间调整显影所涉及的处理时间。

公开(公告)号：CN108352315A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680066422.6

申请日：2016-11-18

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 新崎庸平 ,  冈岛弘明 ,  荻野和基

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/308

CPC classification number: H01L21/306 ,  H01L21/308

Abstract: 本发明的湿蚀刻方法将层叠物加工为目标的既定图案，其中，所述层叠物由在支承基板上层叠多个金属膜者构成，并包含自然氧化的Ti膜作为最上层，所述湿蚀刻方法包括：抗蚀剂形成工序，其在所述层叠物上形成与所述既定图案对应的形状的抗蚀剂膜；最上层选择性蚀刻工序，其使选择性地蚀刻所述最上层的最上层选择性药液与所述层叠物接触而主要对从所述抗蚀剂膜露出的所述最上层进行蚀刻；以及最终加工蚀刻工序，其使蚀刻包括所述最上层的所有层的最终加工药液与所述层叠物接触，进行蚀刻直至所述层叠物成为目标形状。