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公开(公告)号:CN102906804B
公开(公告)日:2014-03-12
申请号:CN201180024993.0
申请日:2011-02-14
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G09F9/30 , G02F1/1368 , H01L29/786
CPC classification number: H01L27/127 , G02F1/136213 , G02F1/136286 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L27/1262
Abstract: 各TFT(5a)包括:设置在基板(10)的栅极电极(11a);以覆盖栅极电极(11a)的方式设置的栅极绝缘膜(12);在栅极绝缘膜(12)上以与栅极电极(11a)重叠的方式设置有沟道区域(C)的、包括氧化物半导体的半导体层(13a);和在半导体层(13a)上以隔着沟道区域(C)相互分离的方式设置的源极电极(15aa)和漏极电极(15b),各辅助电容(6a)包括:与栅极电极(11a)在相同层利用相同材料设置的电容线(11b);以覆盖电容线(11b)的方式设置的栅极绝缘膜(12);以在栅极绝缘膜(12)上与电容线(11b)重叠的方式使用氧化物半导体设置的电容中间层(13c);和在电容中间层(13c)上设置的电容电极(15b),电容中间层(13c)具有导电性。
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公开(公告)号:CN102652330B
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:CN201080056072.8
申请日:2010-12-03
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G09F9/30 , G02F1/1368 , G09F9/00 , H01L21/336 , H01L29/786
CPC classification number: H01L27/1225 , G02F1/13458 , G02F1/136213 , H01L27/124 , H01L27/1244 , H01L27/1248
Abstract: 半导体装置具有:薄膜晶体管,该薄膜晶体管包括栅极配线(3a)、第一绝缘膜(5)、岛状的氧化物半导体层(7a)、第二绝缘膜(9)、源极配线(13as)、漏极电极(13ad)和保护膜;和端子部,该端子部包括由与栅极配线相同的导电膜形成的第一连接部(3c)、由与源极配线和漏极电极相同的导电膜形成的第二连接部(13c)和在第二连接部上形成的第三连接部(19c),第二连接部在设置于第一绝缘膜和第二绝缘膜的第一开口部(11c)内与第一连接部接触,第三连接部(19c)在设置于保护膜的第二开口部(17c)内与第二连接部接触,第二连接部(13c)覆盖第一开口部(11c)的第一绝缘膜和第二绝缘膜的端面,并且不覆盖第二开口部(17c)的保护膜(15)的端面。由此,能够高精度地控制端子部的接触孔的锥形形状。
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公开(公告)号:CN102893315B
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201180022972.5
申请日:2011-02-14
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1368 , G02F1/1345 , H01L27/12 , H01L21/28 , H01L29/786
CPC classification number: H01L27/124 , G02F1/13458 , G02F1/136286 , G02F2001/13629 , G02F2001/136295 , H01L27/1214 , H01L27/1225 , H01L27/1244
Abstract: 一种有源矩阵基板(20a),包括:呈矩阵状设置的多个像素电极(18a);和多个TFT(5),该多个TFT(5)与各像素电极(18a)分别连接且包括设置于绝缘基板(10a)的栅极电极(11a)、以覆盖栅极电极(11a)的方式设置的栅极绝缘膜(12a)、在栅极绝缘膜(12a)上以与栅极电极(11a)重叠的方式设置有沟道区域(C)的半导体层(16a)、和在栅极绝缘膜(12a)上以隔着半导体层(16a)的沟道区域(C)彼此分离的方式利用铜或铜合金设置的源极电极(15aa)和漏极电极(15b),半导体层(16a)利用氧化物半导体以覆盖源极电极(15aa)和漏极电极(15b)的方式设置。
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公开(公告)号:CN102906804A
公开(公告)日:2013-01-30
申请号:CN201180024993.0
申请日:2011-02-14
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G09F9/30 , G02F1/1368 , H01L29/786
CPC classification number: H01L27/127 , G02F1/136213 , G02F1/136286 , H01L27/1225 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L27/1262
Abstract: 各TFT(5a)包括:设置在基板(10)的栅极电极(11a);以覆盖栅极电极(11a)的方式设置的栅极绝缘膜(12);在栅极绝缘膜(12)上以与栅极电极(11a)重叠的方式设置有沟道区域(C)的、包括氧化物半导体的半导体层(13a);和在半导体层(13a)上以隔着沟道区域(C)相互分离的方式设置的源极电极(15aa)和漏极电极(15b),各辅助电容(6a)包括:与栅极电极(11a)在相同层利用相同材料设置的电容线(11b);以覆盖电容线(11b)的方式设置的栅极绝缘膜(12);以在栅极绝缘膜(12)上与电容线(11b)重叠的方式使用氧化物半导体设置的电容中间层(13c);和在电容中间层(13c)上设置的电容电极(15b),电容中间层(13c)具有导电性。
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公开(公告)号:CN102696112A
公开(公告)日:2012-09-26
申请号:CN201080058007.9
申请日:2010-08-23
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H01L29/786 , G02F1/1368 , G09F9/30 , H01L21/336
CPC classification number: H01L27/1225 , G02F1/136213 , G02F1/1368 , G02F2001/13606 , G02F2001/136231 , G02F2001/136236 , G02F2201/501 , H01L27/1248 , H01L27/1288
Abstract: 呈矩阵状设置的多个像素电极(P);和分别与各像素电极(P)连接的多个TFT(5),各TFT(5)具有:设置于绝缘基板的栅极电极(11a);以覆盖栅极电极(11a)的方式设置的栅极绝缘膜(12a);以在栅极绝缘膜(12a)上与栅极电极(11a)重叠的方式设置的氧化物半导体层(13a);和以互相对峙的方式设置、且分别与氧化物半导体层(13a)连接的源极电极(17a)和漏极电极(17b),在源极电极(17a)和漏极电极(17b)与氧化物半导体层(13a)之间,以覆盖氧化物半导体层(13a)的方式设置有保护绝缘膜(14a)。
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