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公开(公告)号：CN109196390A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033030.4
申请日：2017-07-10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。
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公开(公告)号：CN115570910A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN114845860B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202080089572.5
申请日：2020-11-26
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种层叠体，其在保护板因冲击而破裂时不仅能够抑制大的碎片飞散而且还能够抑制粉状的微细的碎片飞散。一种层叠体，其是具有被粘体和邻接层而成的，所述被粘体具有：第一主面；所述第一主面的背面的第二主面；以及连接所述第一主面的端部与所述第二主面的端部的侧面，所述被粘体的至少所述第一主面和所述侧面被所述邻接层覆盖，所述邻接层从所述被粘体侧起依次至少具有塑料膜和包含固化性树脂组成物的固化物的硬涂层，所述塑料膜的软化点F1与所述硬涂层的软化点F2满足F1＜F2的关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109196390B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201780033030.4
申请日：2017-07-10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。
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公开(公告)号：CN115570910B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN113784850B
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN114845860A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080089572.5
申请日：2020-11-26
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种层叠体，其在保护板因冲击而破裂时不仅能够抑制大的碎片飞散而且还能够抑制粉状的微细的碎片飞散。一种层叠体，其是具有被粘体和邻接层而成的，所述被粘体具有：第一主面；所述第一主面的背面的第二主面；以及连接所述第一主面的端部与所述第二主面的端部的侧面，所述被粘体的至少所述第一主面和所述侧面被所述邻接层覆盖，所述邻接层从所述被粘体侧起依次至少具有塑料膜和包含固化性树脂组成物的固化物的硬涂层，所述塑料膜的软化点F1与所述硬涂层的软化点F2满足F1＜F2的关系。
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公开(公告)号：CN113784850A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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