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公开(公告)号：CN116719106A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310787660.8
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，F元素的比例为0.5原子％以下。
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公开(公告)号：CN113272136B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202080008353.X
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: B32B27/20 , H05B33/02 , H10K59/80 , H10K59/12 , H10K50/10 , H10K50/86 , G02B1/111 , G02B5/30 , G09F9/00 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。
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公开(公告)号：CN116057422A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180056486.9
申请日：2021-07-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/111
Abstract: 提供一种能够改善耐擦伤性的防反射构件。一种防反射构件，其在透光性基材上具有包含粘结剂树脂和中空颗粒的低折射率层，并满足下述条件1。 以上述透光性基材为基准在具有上述低折射率层的一侧的上述防反射构件的表面的5μm×5μm的区域中，实施标高的空间频率分析，由此计算出各波长的标高的功率谱强度。在计算出各波长的标高的功率谱强度的总和后，将上述总和标准化为1时，波长1.25μm下的标高的功率谱强度P1显示出0.015以上。
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公开(公告)号：CN115570910A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN115570910B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113784850B
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN114845860A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080089572.5
申请日：2020-11-26
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种层叠体，其在保护板因冲击而破裂时不仅能够抑制大的碎片飞散而且还能够抑制粉状的微细的碎片飞散。一种层叠体，其是具有被粘体和邻接层而成的，所述被粘体具有：第一主面；所述第一主面的背面的第二主面；以及连接所述第一主面的端部与所述第二主面的端部的侧面，所述被粘体的至少所述第一主面和所述侧面被所述邻接层覆盖，所述邻接层从所述被粘体侧起依次至少具有塑料膜和包含固化性树脂组成物的固化物的硬涂层，所述塑料膜的软化点F1与所述硬涂层的软化点F2满足F1＜F2的关系。
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公开(公告)号：CN113784850A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN114845860B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202080089572.5
申请日：2020-11-26
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种层叠体，其在保护板因冲击而破裂时不仅能够抑制大的碎片飞散而且还能够抑制粉状的微细的碎片飞散。一种层叠体，其是具有被粘体和邻接层而成的，所述被粘体具有：第一主面；所述第一主面的背面的第二主面；以及连接所述第一主面的端部与所述第二主面的端部的侧面，所述被粘体的至少所述第一主面和所述侧面被所述邻接层覆盖，所述邻接层从所述被粘体侧起依次至少具有塑料膜和包含固化性树脂组成物的固化物的硬涂层，所述塑料膜的软化点F1与所述硬涂层的软化点F2满足F1＜F2的关系。
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公开(公告)号：CN113272136A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202080008353.X
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: B32B27/20 , H05B33/02 , H01L51/50 , G02B1/111 , G02B5/30 , G09F9/00 , H01L27/32 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。
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