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公开(公告)号：CN116719106A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310787660.8
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，F元素的比例为0.5原子％以下。
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公开(公告)号：CN113272136B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202080008353.X
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: B32B27/20 , H05B33/02 , H10K59/80 , H10K59/12 , H10K50/10 , H10K50/86 , G02B1/111 , G02B5/30 , G09F9/00 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115570910A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN113272136A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202080008353.X
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: B32B27/20 , H05B33/02 , H01L51/50 , G02B1/111 , G02B5/30 , G09F9/00 , H01L27/32 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。
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公开(公告)号：CN115570910B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202211367048.7
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN113784850B
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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公开(公告)号：CN113784850A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080031143.2
申请日：2020-03-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供转印片的制造方法，其能够对被粘物赋予充分的功能。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
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