公开(公告)号：CN108884559A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201680073063.7

申请日：2016-11-03

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刘振东 ,  侯文婷 ,  雷建新 ,  翁建业 ,  吕明谕

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/34 ,  C23C14/50

CPC classification number: C23C4/134 ,  C23C14/34 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/50 ,  C23C18/1646 ,  C23C18/1689 ,  C23C18/31 ,  C23C18/48 ,  C25D3/02 ,  C25D5/48 ,  C25D7/00 ,  C25D17/00 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32504 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3441 ,  H01J37/3476

Abstract: 本公开内容的实施方式涉及用于在处理腔室中使用的改良的屏蔽物。在一个实施方式中，所述屏蔽物包括具有圆柱形状的中空主体和形成在主体的内表面上的涂覆层，所述圆柱形状大致上关于所述主体的中心轴对称。涂覆层由与在所述处理腔室中使用的溅射靶相同的材料形成。屏蔽物通过减少屏蔽物与溅射靶之间的发弧而有利地减少使用RF‑PVD沉积的膜中的颗粒污染物。发弧因屏蔽物的内表面上存在涂覆层而减少。