公开(公告)号：CN100447290C

公开(公告)日：2008-12-31

申请号：CN200510059476.3

申请日：2005-03-25

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 井上惠介 ,  福井毅 ,  谷口繁 ,  植村典夫 ,  岩崎克典 ,  斋藤和也

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  C22C27/04 ,  B22F3/14

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F1/0003 ,  B22F1/0096 ,  B22F3/14

Abstract: 一种溅射靶材料，它是一种烧结材料，其中溅射靶材料由总计0.5～50原子%的选自Ti、Zr、V、Nb和Cr中的至少一种金属元素(M)、及余量的Mo和不可避免的杂质组成，及从与溅射表面垂直的横截面上观察此材料具有的微观结构，其微观结构中在金属元素(M)的各孤岛边界的附近存在氧化物颗粒，及其中孤岛的最大面积不大于1.0mm2，孤岛的面积是通过用直线连接氧化物颗粒形成的封闭区来定义的。

公开(公告)号：CN1676661A

公开(公告)日：2005-10-05

申请号：CN200510059476.3

申请日：2005-03-25

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 井上惠介 ,  福井毅 ,  谷口繁 ,  植村典夫 ,  岩崎克典 ,  斋藤和也

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/14 ,  C22C27/04 ,  B22F3/14

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/045 ,  B22F1/0003 ,  B22F1/0096 ,  B22F3/14

Abstract: 一种溅射靶材料，它是一种烧结材料，其中溅射靶材料由总计0.5～50原子％的选自Ti、Zr、V、Nb和Cr中的至少一种金属元素(M)、及余量的Mo和不可避免的杂质组成，及从与溅射表面垂直的横截面上观察此材料具有的微观结构，其微观结构中在金属元素(M)的各孤岛边界的附近存在氧化物颗粒，及其中孤岛的最大面积不大于1.0mm2，孤岛的面积是通过用直线连接氧化物颗粒形成的封闭区来定义的。