-
公开(公告)号：CN102200657B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201110076949.6
申请日：2011-03-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/00 , G02B1/10 , B32B9/04 , B32B17/00
CPC classification number: G02B5/286 , C03C17/3435 , C03C2217/73 , Y10T428/1045 , Y10T428/1095
Abstract: 本发明提供一种带遮光膜的玻璃基板及液晶显示装置，所述带遮光膜的玻璃基板包含玻璃基板、及形成于所述玻璃基板上的多层构造的遮光膜，其中，所述多层构造的遮光膜具有从所述玻璃基板侧起依次层叠满足下式的第一氮氧化铬膜(CrOx1Ny1)及第二氮氧化铬膜(CrOx2Ny2)的构造，0.15＜x1＜0.50.1＜y1＜0.350.4＜x1+y1＜0.650.03＜x2＜0.150.09＜y2＜0.25。
-
公开(公告)号：CN101277564B
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN200810087962.X
申请日：2008-03-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 蛭间武彦
Abstract: 本发明为了有效地实施辅助布线形成用层压体和透明导电膜的布图，提供通过光蚀刻法在透明导电膜上实施布图时，抑制对透明导电膜用蚀刻剂的辅助布线的腐蚀，获得辅助布线以及透明带辅助布线的电极基体的制造方法。带辅助布线的电极基体的制造方法，它是对于基体上具有透明导电膜和图案化的辅助布线的基体，通过光刻蚀法在透明导电膜上以平面状实施布图的带辅助布线的电极基体的制造方法，其特征为所述辅助布线从基体侧依次包含以Al或A1合金为主要成分的导体层以及覆盖层，未由光致抗蚀剂被覆的所述辅助布线在宽度方向的露出为4μm以下，且用于所述透明导电膜的蚀刻的蚀刻剂为非氧化性的酸。
-
公开(公告)号：CN102026770A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200980117258.7
申请日：2009-05-08
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B23K26/36 , B23K26/40 , G02F1/1343 , H01J9/02
Abstract: 本发明涉及一种带有图案化的氧化物层的基体的制造方法，包括：在基体上依次形成显示透明导电性的氧化物层、金属层，从金属层的外表面侧向金属层照射脉冲激光，从而除去脉冲激光照射部位的金属层和氧化物层，所述脉冲激光的能量密度为0.3～10J/cm2、重复频率为1～100kHz、脉冲宽度为1ns～1μs，和通过腐蚀除去金属层。
-
公开(公告)号：CN101233434A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200680027724.9
申请日：2006-07-04
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明提供在整个可见光区域具有高反射率，耐湿性和耐盐水性等耐久性良好的层叠体。所述层叠体是在基板上依次层叠有银膜、密合改善膜、低折射率膜、高折射率膜的层叠体，其特征在于，前述低折射率膜中的至少密合改善膜侧的层通过使用氧化物靶材并采用含氮的溅射气体的高频溅射法形成，前述密合改善膜的消光系数在0.1以下且膜厚为0.5～4nm，前述低折射率膜的消光系数在0.01以下，前述高折射率膜的消光系数在0.01以下。
-
公开(公告)号：CN101277564A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810087962.X
申请日：2008-03-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 蛭间武彦
Abstract: 本发明为了有效地实施辅助布线形成用层压体和透明导电膜的布图，提供通过光蚀刻法在透明导电膜上实施布图时，抑制对透明导电膜用蚀刻剂的辅助布线的腐蚀，获得辅助布线以及透明带辅助布线的电极基体的制造方法。带辅助布线的电极基体的制造方法，它是对于基体上具有透明导电膜和图案化的辅助布线的基体，通过光刻蚀法在透明导电膜上以平面状实施布图的带辅助布线的电极基体的制造方法，其特征为所述辅助布线从基体侧依次包含以Al或Al合金为主要成分的导体层以及覆盖层，未由光致抗蚀剂被覆的所述辅助布线在宽度方向的露出为4μm以下，且用于所述透明导电膜的蚀刻的蚀刻剂为非氧化性的酸。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1678148A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510054538.1
申请日：2005-03-10
Applicant: 旭硝子株式会社
Inventor： 蛭间武彦
Abstract: 本发明提供了用于制备布线基片的层压体，这种层压体具有低电阻，没有小丘，表面粗糙度低，具有极佳的耐碱性和耐腐蚀性，特别是适用于有机EL显示器等平板显示器的层压体，还提供了蚀刻层压体制造布线基片的方法，以及由此制得的布线基片。用于制备布线基片的层压体，包括基材，位于基材上的含Al－Nd合金作为主要组分且Nd含量以全部组分为基准计的0.1到6原子％的导电层，以及位于导电层上的含Ni－Mo合金作为主要组分的覆盖层；通过溅射制备层压体的方法，以及布线基片，其中包括以平面形式布图的层压体。
-
公开(公告)号：CN1860510A
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN200480027970.5
申请日：2004-09-28
Applicant: 旭硝子株式会社 , 日本先锋公司 , 东北先锋公司 , 株式会社旭硝子发殷科技
CPC classification number: H01B1/02 , H01L27/3288 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供导电保护层和层积在其上的阴极之间的接触电阻极低的带配线的基体形成用层积体，它是将银类材料用于导电层，通过导电保护层对其被覆并保护的带配线的基体形成用层积体。带配线的基体形成用层积体，它是具有基体、在所述基体上形成的含有银或银合金的导体层、在所述导体层上形成的含有铟锌氧化物的被覆该导体层的导电保护层的带配线的基体形成用层积体，所述导电保护层为通过在溅射气体中的氧化性气体含量小于等于1.5体积％的气氛下的溅镀形成的导电保护层。
-
公开(公告)号：CN1685767A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200380100045.6
申请日：2003-10-10
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L27/3288 , H01L51/0017 , H01L51/0021 , H01L51/56 , Y10S428/917 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供了由基体上的以Al或Al合金为主成分的导体层1，和在该导体层1上的以Ni－Mo合金为主成分的顶层形成的带配线的基体形成用层压体，蚀刻该层压体除去不需要的金属而形成的带配线的基体及其制造方法。
-
公开(公告)号：CN102200657A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201110076949.6
申请日：2011-03-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/00 , G02B1/10 , B32B9/04 , B32B17/00
CPC classification number: G02B5/286 , C03C17/3435 , C03C2217/73 , Y10T428/1045 , Y10T428/1095
Abstract: 本发明提供一种带遮光膜的玻璃基板及液晶显示装置，所述带遮光膜的玻璃基板包含玻璃基板、及形成于所述玻璃基板上的多层构造的遮光膜，其中，所述多层构造的遮光膜具有从所述玻璃基板侧起依次层叠满足下式的第一氮氧化铬膜(CrOx1Ny1)及第二氮氧化铬膜(CrOx2Ny2)的构造，0.15＜x1＜0.5，0.1＜y1＜0.35，0.4＜x1+y1＜0.65，0.03＜x2＜0.15，0.09＜y2＜0.25。
-
公开(公告)号：CN100517797C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200380100045.6
申请日：2003-10-10
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L27/3288 , H01L51/0017 , H01L51/0021 , H01L51/56 , Y10S428/917 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供了由基体上的以Al或Al合金为主成分的导体层1，和在该导体层1上的以Ni-Mo合金为主成分的顶层形成的带配线的基体形成用层压体，蚀刻该层压体除去不需要的金属而形成的带配线的基体及其制造方法。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.025 seconds)
