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公开(公告)号：CN102200657B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201110076949.6
申请日：2011-03-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/00 , G02B1/10 , B32B9/04 , B32B17/00
CPC classification number: G02B5/286 , C03C17/3435 , C03C2217/73 , Y10T428/1045 , Y10T428/1095
Abstract: 本发明提供一种带遮光膜的玻璃基板及液晶显示装置，所述带遮光膜的玻璃基板包含玻璃基板、及形成于所述玻璃基板上的多层构造的遮光膜，其中，所述多层构造的遮光膜具有从所述玻璃基板侧起依次层叠满足下式的第一氮氧化铬膜(CrOx1Ny1)及第二氮氧化铬膜(CrOx2Ny2)的构造，0.15＜x1＜0.50.1＜y1＜0.350.4＜x1+y1＜0.650.03＜x2＜0.150.09＜y2＜0.25。
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公开(公告)号：CN104884669A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380067187.0
申请日：2013-12-19
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: C23C14/50 , C23C14/34 , H01L21/673
Abstract: 本发明提供一种使整面成膜基板的生产性良好的基板支架，以及使用该基板支架的整面成膜基板的制造方法。本发明涉及一种基板支架以及使用该基板支架的整面成膜基板的制作方法；所述基板支架是保持对第一主面进行整面成膜的基板的基板支架，具备支架单元和载体；所述支架单元由单元基体和密合层构成，该单元基体为具备面积小于上述基板主面的主面的板状构件，上述密合层固定在上述单元基体的第一主面上、具有对上述基板的第二主面进行附着的剥离性表面；所述载体具有面积大于上述单元基体的主面的单元固定面、上述单元固定面和上述单元基体的第二主面对面相向、多个上述支架单元固定在上述单元固定面上。
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公开(公告)号：CN1914695A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200580004070.3
申请日：2005-02-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C2217/231 , C03C2218/154 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , G02F1/13439 , H01J9/02 , H01J2217/04 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供由能够很容易地形成布线图案、且可以低成本实现低电阻的透明度良好的氧化锡膜形成的透明电极的制造方法。该透明电极的制造方法是在基板上形成了制作有布线图案的氧化锡膜的透明电极的制造方法，该方法的特征在于，包括在基板上形成具有吸光性的氧化锡膜的工序，用蚀刻液溶解具有吸光性的氧化锡膜的一部分以制作布线图案的工序，对形成了布线图案的具有吸光性的氧化锡膜进行加热处理以获得氧化锡膜的工序。
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公开(公告)号：CN1685767A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200380100045.6
申请日：2003-10-10
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L27/3288 , H01L51/0017 , H01L51/0021 , H01L51/56 , Y10S428/917 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供了由基体上的以Al或Al合金为主成分的导体层1，和在该导体层1上的以Ni－Mo合金为主成分的顶层形成的带配线的基体形成用层压体，蚀刻该层压体除去不需要的金属而形成的带配线的基体及其制造方法。
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公开(公告)号：CN104024175A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280064375.3
申请日：2012-12-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/30 , B05D1/62 , B05D5/083 , B05D2201/02 , B05D2203/35 , B05D2518/00 , C03C2217/70 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供一种通过具有拒水性和拒油性等而使得防污性优异、并且相对于反复擦拭操作等可抑制防污性下降的耐磨损性优异的、具有含氟有机硅化合物被膜的带防污膜的基体。带防污膜的基体(3)包括透明基体(1)和含氟有机硅化合物被膜(2)，其中所述透明基体(1)的被成膜面至少暴露在含水分的气氛中；所述含氟有机硅化合物被膜(2)是在所述透明基体(1)的所述被成膜面(1a)上通过干法而形成的。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102200657A
公开(公告)日：2011-09-28
申请号：CN201110076949.6
申请日：2011-03-23
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02F1/1335 , G02B5/00 , G02B1/10 , B32B9/04 , B32B17/00
CPC classification number: G02B5/286 , C03C17/3435 , C03C2217/73 , Y10T428/1045 , Y10T428/1095
Abstract: 本发明提供一种带遮光膜的玻璃基板及液晶显示装置，所述带遮光膜的玻璃基板包含玻璃基板、及形成于所述玻璃基板上的多层构造的遮光膜，其中，所述多层构造的遮光膜具有从所述玻璃基板侧起依次层叠满足下式的第一氮氧化铬膜(CrOx1Ny1)及第二氮氧化铬膜(CrOx2Ny2)的构造，0.15＜x1＜0.5，0.1＜y1＜0.35，0.4＜x1+y1＜0.65，0.03＜x2＜0.15，0.09＜y2＜0.25。
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公开(公告)号：CN101080785B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200580043593.9
申请日：2005-12-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C17/3417 , C03C23/0025 , C03C2217/215 , C03C2217/23 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , H01B1/08 , H01J17/04 , H01J29/02 , H01J2217/49207 , H01L51/0023 , H01L2251/308
Abstract: 本发明提供生产性高且适合于激光图案形成的带透明导电膜的基板。作为在玻璃基板上形成以氧化铟为主要成分的透明导电膜而成的带透明导电膜的基板、特征在于该透明导电膜表面的平均畴直径在150nm以下的带透明导电膜的基板，以及前述透明导电膜为非晶质的前述带透明导电膜的基板。前述透明导电膜通过溅射法以250℃以下的成膜时的基板温度形成的前述带透明导电膜的基板。
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公开(公告)号：CN1914695B
公开(公告)日：2010-05-05
申请号：CN200580004070.3
申请日：2005-02-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C2217/231 , C03C2218/154 , C03C2218/328 , C03C2218/33 , G02F1/13439 , H01J9/02 , H01J2217/04 , H01L31/1884 , Y02E10/50
Abstract: 本发明提供由能够很容易地形成布线图案、且可以低成本实现低电阻的透明度良好的氧化锡膜形成的透明电极的制造方法。该透明电极的制造方法是在基板上形成了制作有布线图案的氧化锡膜的透明电极的制造方法，该方法的特征在于，包括在基板上形成具有吸光性的氧化锡膜的工序，用蚀刻液溶解具有吸光性的氧化锡膜的一部分以制作布线图案的工序，对形成了布线图案的具有吸光性的氧化锡膜进行加热处理以获得氧化锡膜的工序。
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公开(公告)号：CN100517797C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200380100045.6
申请日：2003-10-10
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L27/3288 , H01L51/0017 , H01L51/0021 , H01L51/56 , Y10S428/917 , Y10T428/24917
Abstract: 本发明提供了由基体上的以Al或Al合金为主成分的导体层1，和在该导体层1上的以Ni-Mo合金为主成分的顶层形成的带配线的基体形成用层压体，蚀刻该层压体除去不需要的金属而形成的带配线的基体及其制造方法。
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公开(公告)号：CN101080785A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200580043593.9
申请日：2005-12-16
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/245 , C03C17/3417 , C03C23/0025 , C03C2217/215 , C03C2217/23 , C03C2218/154 , C03C2218/33 , H01B1/08 , H01J17/04 , H01J29/02 , H01J2217/49207 , H01L51/0023 , H01L2251/308
Abstract: 本发明提供生产性高且适合于激光图案形成的带透明导电膜的基板。作为在玻璃基板上形成以氧化铟为主要成分的透明导电膜而成的带透明导电膜的基板、特征在于该透明导电膜表面的平均畴直径在150nm以下的带透明导电膜的基板，以及前述透明导电膜为非晶质的前述带透明导电膜的基板。前述透明导电膜通过溅射法以200℃以下的成膜时的基板温度形成的前述带透明导电膜的基板。
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