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公开(公告)号：CN112585715A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980054228.X
申请日：2019-08-08
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 王雨后 , 龙茂林 , 吴垠 , 亚历山大·米勒·帕特森
Abstract: 一种用于将RF功率提供至衬底处理系统的部件的驱动电路包含在第一频率下运行的等离子体源。负载包含所述衬底处理系统的所述部件。阻抗网络将所述等离子体源连接至所述负载。电流传感器感测在所述等离子体源的输出处的电流。电压传感器感测在所述等离子体源的所述输出处的电压。控制器包含调谐频率计算器，所述调谐频率计算器被设置成：基于所述电压、所述电流以及所述阻抗网络的配置来计算用于所述等离子体源的调谐频率；以及基于所述调谐频率来调节所述第一频率。
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公开(公告)号：CN118431063A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202410557195.3
申请日：2020-07-30
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 韩慧玲 , 黄新伟 , 亚历山大·米勒·帕特森 , 萨拉瓦纳普里亚·西里拉曼 , 安·埃里克森 , 乔安娜·吴 , 施萨拉曼·拉马钱德兰 , 克里斯托弗·金博尔 , 阿里斯·佩雷斯
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种用于衬底处理系统的边缘环系统，包括顶部边缘环，所述顶部边缘环包括具有内径和外径的环形体。顶部边缘环的外径小于衬底处理系统的衬底端口的水平开口。第一边缘环设置在顶部边缘环的下方，所述顶部边缘环包括具有内径和外径的环形体。第一边缘环的外径大于衬底处理系统的衬底端口。第一边缘环的内径小于顶部边缘环的内径。
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公开(公告)号：CN112204695B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN201980036340.0
申请日：2019-05-23
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 王雨后 , 迈克尔·约翰·马丁 , 乔恩·麦克切斯尼 , 亚历山大·米勒·帕特森
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种系统包含图像处理模块，其被配置成：接收由成像装置所捕捉的图像，所述图像是在衬底的处理期间在衬底处理室内的等离子体环境的图像；以及提取所述图像的一或多个特征，其指示在所述衬底的处理期间在所述等离子体环境中形成的等离子体鞘。控制模块被配置成：基于从所述图像所提取的所述一或多个特征来确定所述等离子体鞘轮廓；以及基于所述等离子体鞘轮廓选择性调整与所述衬底的处理相关的至少一个处理参数。
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公开(公告)号：CN110945622A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880037634.0
申请日：2018-04-03
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 王雨后 , 亚瑟·H·萨托 , 吴垠 , 亚历山大·米勒·帕特森
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种射频(RF)匹配电路控制系统包括：包括多个可调谐部件的RF匹配电路。所述RF匹配电路被配置为从RF发生器接收输入信号，所述输入信号包括至少两种脉冲电平；根据所述输入信号向负载提供输出信号；以及使与所述输入信号相关联的阻抗与所述负载的阻抗匹配。控制器被配置为针对所述输入信号的所述至少两种脉冲电平确定所述负载的相应的阻抗；并且调节所述多个可调谐部件的操作参数，以针对所述至少两种脉冲电平使所述RF匹配电路的频率调谐范围与所述负载的所述相应的阻抗对准，从而使与所述输入信号相关联的所述阻抗与所述相应的阻抗匹配。
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公开(公告)号：CN119213527A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202380041223.X
申请日：2023-05-16
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 崔明烈 , 吴垠 , 迈克尔·约翰·马丁 , 亚历山大·米勒·帕特森
IPC: H01J37/32
Abstract: 偏压供应系统包括设置在衬底支撑表面下方的主偏压电极。主偏压电极系控制位于衬底支撑表面上的衬底的顶表面上的电压。偏压供应系统包括设置在围绕衬底支撑表面的边缘环内的边缘环电极。边缘环电极控制在边缘环的顶表面上的电压。偏压供应系统包括电压供应系统，其在偏压供应节点上产生作为时间的函数的指定的电压波形。第一分支电路电连接偏压供应节点与主偏压电极。第二分支电路电连接偏压供应节点与边缘环电极。第二分支电路包括串联电容器和并联电容器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117999631A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202280063090.1
申请日：2022-09-13
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 亚历山大·米勒·帕特森 , 丹尼尔·古斯曼 , 威廉·T·哈特 , 克里斯蒂安·赛拉迪 , 迈克尔·约翰·马丁 , 王雨后 , 迈克尔·德里蒙 , 约翰·德鲁厄里 , 罗伯特·格里菲思·奥尼尔 , 吕克·阿尔巴雷德 , 尼尔·西蒙·奥坎波
IPC: H01J37/32
Abstract: 用于直接驱动式射频功率供应源的射频校准系统包括参考盒，其包括用于将非参考输入阻抗转换成参考输出阻抗的参考电路。参考盒具有电连接至直接驱动式射频功率供应源的射频输出耦合的输入连接器。射频功率计具有电连接至参考盒的输出连接器的射频功率输入。射频功率计具有输入阻抗及基本上匹配参考盒的参考输出阻抗的输出阻抗。缆线具有电连接至射频功率计的射频功率输出的第一端及连接至测试负载的第二端，测试负载具有基本上匹配参考盒的参考输出阻抗的阻抗。控制器与射频功率计的数据接口数据通信连接。
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公开(公告)号：CN117957632A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202280062934.0
申请日：2022-09-14
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 约翰·德鲁厄里 , 亚历山大·米勒·帕特森
IPC: H01J37/32
Abstract: 线圈被设置在等离子体处理室旁。第一直接驱动式射频(RF)功率供应源具有输出端，经由输出端传输第一成形放大方波信号。第一电抗电路连接在第一直接驱动式RF功率供应源的输出端和线圈的第一端之间。第一电抗电路将第一成形放大方波信号转换为第一成形正弦信号，并传输至线圈的第一端。第二直接驱动式RF功率供应源具有输出端，经由输出端传输第二成形放大方波信号。第二电抗电路连接在第二直接驱动RF功率供应源的输出端和线圈的第二端之间。第二电抗电路将第二成形放大方波信号转换为第二成形正弦信号，并传输至线圈的第二端。
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公开(公告)号：CN109983569B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201780070286.2
申请日：2017-11-10
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/687 , H01L21/68 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 一种用于确定边缘环在衬底支撑件上的对准的系统包括：机械手控制模块，其被配置为控制机械手以将所述边缘环放置在所述衬底支撑件上以及从所述衬底支撑件取回所述边缘环。对准模块被配置为确定所述边缘环在被放置到所述衬底支撑件上之前在所述机械手上的多个第一位置，以及确定所述边缘环在从所述衬底支撑件取回之后在所述机械手上的多个第二位置。边缘环位置模块被配置为基于所述多个第一位置和所述多个第二位置之间的偏移来确定所述边缘环相对于所述衬底支撑件的居中位置。
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公开(公告)号：CN114041204A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202080048328.4
申请日：2020-04-24
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 龙茂林 , 王雨后 , 亚历山大·米勒·帕特森
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种用于向衬底处理系统提供RF功率的直驱系统包括直驱外壳，该直驱外壳包括：第一直驱电路，其位于所述直驱外壳中并以第一频率运行；和第一连接器，其连接所述第一直驱电路。接线盒布置成与所述直驱外壳相邻，并且包括：第一电容电路，其连接所述第一直驱电路；第二连接器，其位于所述接线盒的一侧，与所述第一电容电路的一端子连接，并与所述直驱外壳的所述第一连接器配合；第三和第四连接器，其连接所述第一电容电路的另一端子；以及靠近所述接线盒布置的线圈外壳，其包括第一线圈和第二线圈；以及第五和第六连接器，其与所述接线盒的所述第三和第四连接器配合。
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公开(公告)号：CN112204695A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201980036340.0
申请日：2019-05-23
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 王雨后 , 迈克尔·约翰·马丁 , 乔恩·麦克切斯尼 , 亚历山大·米勒·帕特森
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种系统包含图像处理模块，其被配置成：接收由成像装置所捕捉的图像，所述图像是在衬底的处理期间在衬底处理室内的等离子体环境的图像；以及提取所述图像的一或多个特征，其指示在所述衬底的处理期间在所述等离子体环境中形成的等离子体鞘。控制模块被配置成：基于从所述图像所提取的所述一或多个特征来确定所述等离子体鞘轮廓；以及基于所述等离子体鞘轮廓选择性调整与所述衬底的处理相关的至少一个处理参数。
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