公开(公告)号：CN103632916A

公开(公告)日：2014-03-12

申请号：CN201310380150.5

申请日：2013-08-27

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 陶玄浩 ,  洪俊杰 ,  保罗·赖卡特

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/32477 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32495 ,  H01J37/32504 ,  H01J37/32559 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32642 ,  H01J37/32651 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299 ,  H01J2237/022

Abstract: 本发明涉及调整等离子体处理系统的方位非均匀性的对称返回衬垫，公开了用于调整等离子体处理室中的方位非均匀性的方法和装置。装置包括具有等离子体处理室和室衬的等离子体处理系统。调整方位非均匀性包括提供成组的导电带以将室衬连接至接地环，其中该成组的导电带中的导电带数量大于8。替代地或另外地，镜像切口针对室衬中的配对的现有切口或端口而提供。替代地或另外地，室衬具有针对配对结构而提供的虚设结构，该配对结构阻碍室中的气流和RF返回电流中的至少一者。

公开(公告)号：CN103632916B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201310380150.5

申请日：2013-08-27

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 陶玄浩 ,  洪俊杰 ,  保罗·赖卡特

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01J37/32477 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32495 ,  H01J37/32504 ,  H01J37/32559 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32642 ,  H01J37/32651 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32669 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32935 ,  H01J37/3299 ,  H01J2237/022

Abstract: 本发明涉及调整等离子体处理系统的方位非均匀性的对称返回衬垫，公开了用于调整等离子体处理室中的方位非均匀性的方法和装置。装置包括具有等离子体处理室和室衬的等离子体处理系统。调整方位非均匀性包括提供成组的导电带以将室衬连接至接地环，其中该成组的导电带中的导电带数量大于8。替代地或另外地，镜像切口针对室衬中的配对的现有切口或端口而提供。替代地或另外地，室衬具有针对配对结构而提供的虚设结构，该配对结构阻碍室中的气流和RF返回电流中的至少一者。