分割半导体晶片的方法和半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN101036224A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200580033895.8

    申请日:2005-10-04

    CPC classification number: H01L21/78

    Abstract: 在包括由在半导体晶片上分别网格状排列的假想分割线以及作为半导体晶片外边界轮廓的圆周线划分的多个假想分割区域的半导体晶片中,放置掩模来使得与各个去除区域相对应的全部晶片表面露出,其中去除区域是由晶片的圆周线和假想分割线划分的近似三角形区域以及一些假想分割区域,然后在掩模放置侧表面执行等离子体蚀刻,由此半导体晶片沿分割线被分割成单独的半导体器件,同时晶片中对应于去除区域的部分被去除。

    分割半导体晶片的方法和半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN100589239C

    公开(公告)日:2010-02-10

    申请号:CN200580033895.8

    申请日:2005-10-04

    CPC classification number: H01L21/78

    Abstract: 在包括由在半导体晶片上分别网格状排列的假想分割线以及作为半导体晶片外边界轮廓的圆周线划分的多个假想分割区域的半导体晶片中,放置掩模来使得与各个去除区域相对应的全部晶片表面露出,其中去除区域是由晶片的圆周线和假想分割线划分的近似三角形区域以及一些假想分割区域,然后在掩模放置侧表面执行等离子体蚀刻,由此半导体晶片沿分割线被分割成单独的半导体器件,同时晶片中对应于去除区域的部分被去除。

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