制造半导体器件的方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1946629A

    公开(公告)日:2007-04-11

    申请号:CN200580007234.8

    申请日:2005-03-15

    Abstract: 公开了一种制造半导体器件的方法。在该方法中,沿包括相对较大的厚度尺寸的半导体衬底的主基板(1)的厚度方向,在一个表面上形成凹入部分(7)。然后,沿主基板(1)的厚度方向,利用在另一个表面提供的氧化膜(6a)形成的开口作为掩模,通过反应离子蚀刻工艺形成通孔(4a、4b)。开口(8)在与凹入部分(7)相对应的区域中具有较窄的宽度,而在其余区域具有较宽的宽度。因此,较宽宽度的通孔(4a)穿透主基板(1)和较窄宽度的通孔(4b)到达凹入部分(7)的下表面的各自必要时间可以近似相等,从而近似同时地完成较宽宽度的通孔(4a)和较窄宽度的通孔(4b)的共同蚀刻工艺。

    制造半导体器件的方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1946629B

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:CN200580007234.8

    申请日:2005-03-15

    Abstract: 公开了一种制造半导体器件的方法。在该方法中,沿包括相对较大的厚度尺寸的半导体衬底的主基板(1)的厚度方向,在一个表面上形成凹入部分(7)。然后,沿主基板(1)的厚度方向,利用在另一个表面提供的氧化膜(6a)形成的开口作为掩模,通过反应离子蚀刻工艺形成通孔(4a、4b)。开口(8)在与凹入部分(7)相对应的区域中具有较窄的宽度,而在其余区域具有较宽的宽度。因此,较宽宽度的通孔(4a)穿透主基板(1)和较窄宽度的通孔(4b)到达凹入部分(7)的下表面的各自必要时间可以近似相等,从而近似同时地完成较宽宽度的通孔(4a)和较窄宽度的通孔(4b)的共同蚀刻工艺。

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