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公开(公告)号：CN101866113A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN201010140711.0
申请日：2005-10-25
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/38 , G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
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公开(公告)号：CN101385125A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005867.4
申请日：2007-05-22
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 中野胜志
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F9/7088 , G03F9/7096
Abstract: 经由投影光学系统PL及液体1用曝光用光EL使衬底P曝光的曝光方法，具有：第1步骤，在规定动作中、以光学方式观察与上述液体接触的液体接触部的至少一部分的被检测部的状态，将所得到的第1观察信息进行储存；第2步骤，在上述规定动作后，以光学方式观察上述被检测部的状态以获得第2观察信息；以及第3步骤，比较上述第1观察信息与上述第2观察信息，来判定上述被检测部有无异常。
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公开(公告)号：CN102298274A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110251781.8
申请日：2007-05-18
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 中野胜志
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明提供一种曝光方法及装置、维护方法、以及组件制造方法。曝光方法是在投影光学系统PL的像面侧移动的衬底载台PST上的衬底保持具PH上保持衬底P，使用从液体供给机构(10)供给的液体(1)，在投影光学系统PL的像面侧形成液浸区域AR2，而以曝光用光EL经由投影光学系统PL与液浸区域AR2来曝光衬底P。在不进行衬底P的曝光的期间，将液浸区域AR2与衬底载台PST相对移动，来洗净衬底保持具PH上部，并且将液浸区域AR2与计测载台MST相对移动，来洗净计测载台MST上部。可使用洗净液作为洗净时形成液浸区域AR2的液体。用液浸法进行曝光时，可抑制杂质混入液体中，并以高生产率执行高解像度的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN101385125B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200780005867.4
申请日：2007-05-22
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 中野胜志
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F9/7088 , G03F9/7096
Abstract: 经由投影光学系统PL及液体1用曝光用光EL使衬底P曝光的曝光方法，具有：第1步骤，在规定动作中、以光学方式观察与上述液体接触的液体接触部的至少一部分的被检测部的状态，将所得到的第1观察信息进行储存；第2步骤，在上述规定动作后，以光学方式观察上述被检测部的状态以获得第2观察信息；以及第3步骤，比较上述第1观察信息与上述第2观察信息，来判定上述被检测部有无异常。
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公开(公告)号：CN101866113B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201010140711.0
申请日：2005-10-25
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101044594B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200580035989.9
申请日：2005-10-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/38 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/38 , G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明提供一种衬底处理方法，该方法包括：在衬底上形成第一液体的浸液区域，并借助第一液体向衬底上照射曝光用光而将衬底曝光的曝光工序(S7)；在曝光工序之前将衬底浸渍于第二液体中的浸渍工序(S3)。根据本发明，可以抑制由伴随着浸液曝光产生的附着痕迹造成的不良状况的发生。
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公开(公告)号：CN101410948B
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN200780011033.4
申请日：2007-05-18
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 中野胜志
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明的曝光方法是在投影光学系统PL的像面侧移动的衬底载台PST上的衬底保持具PH上保持衬底P，使用从液体供给机构(10)供给的液体(1)，在投影光学系统PL的像面侧形成液浸区域AR2，而以曝光用光EL经由投影光学系统PL与液浸区域AR2来曝光衬底P。在不进行衬底P的曝光的期间，将液浸区域AR2与衬底载台PST相对移动，来洗净衬底保持具PH上部，并且将液浸区域AR2与计测载台MST相对移动，来洗净计测载台MST上部。可使用洗净液作为洗净时形成液浸区域AR2的液体。用液浸法进行曝光时，可抑制杂质混入液体中，并以高生产率执行高解像度的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN102109773A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN201110044127.X
申请日：2007-05-22
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 中野胜志
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F9/7088 , G03F9/7096
Abstract: 本发明提供一种曝光方法、曝光装置以及维修方法，经由投影光学系统PL及液体1用曝光用光EL使衬底P曝光的曝光方法，具有：第1步骤，在规定动作中、以光学方式观察与上述液体接触的液体接触部的至少一部分的被检测部的状态，将所得到的第1观察信息进行储存；第2步骤，在上述规定动作后，以光学方式观察上述被检测部的状态以获得第2观察信息；以及第3步骤，比较上述第1观察信息与上述第2观察信息，来判定上述被检测部有无异常。
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公开(公告)号：CN101410948A
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200780011033.4
申请日：2007-05-18
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 中野胜志
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70925
Abstract: 本发明的曝光方法是在投影光学系统PL的像面侧移动的衬底载台PST上的衬底保持具PH上保持衬底P，使用从液体供给机构(10)供给的液体(1)，在投影光学系统PL的像面侧形成液浸区域AR2，而以曝光用光EL经由投影光学系统PL与液浸区域AR2来曝光衬底P。在不进行衬底P的曝光的期间，将液浸区域AR2与衬底载台PST相对移动，来洗净衬底保持具PH上部，并且将液浸区域AR2与计测载台MST相对移动，来洗净计测载台MST上部。可使用洗净液作为洗净时形成液浸区域AR2的液体。用液浸法进行曝光时，可抑制杂质混入液体中，并以高生产率执行高解像度的液浸曝光。
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公开(公告)号：CN100580878C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200680014495.7
申请日：2006-06-29
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 曝光装置(EX)，具备用以检测形成于基板(P)上的薄膜(Rg，Tc)缺陷的检测装置(60)。当为经由液体(LQ)使基板(P)曝光的液浸曝光的情形，可预先检测薄膜(Rg，Tc)缺陷所导致的液体流出，抑制器件生产性的降低，防止曝光装置的障碍的产生。
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