公开(公告)号：CN119631020A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202380057426.8

申请日：2023-08-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 川上雄介 ,  山口和夫 ,  伊藤伦子

IPC: G03C1/72 ,  C07F7/18 ,  H05K1/03

Abstract: 一种感光性表面处理剂，其包含下述式(M1)所示的化合物。式(M1)中，R1为直链状、支链状或环状的碳原子数1～6的烷基，Y1为直链状或支链状的碳原子数1～4的亚烷基、或单键。R1的烷基的末端的碳原子可以与构成Y1的亚烷基的碳原子键合而使R1和Y1形成环。R2为氢原子或碳原子数1～6的烷基，R3和R4各自独立地为碳原子数1～3的烷基，n0为0以上的整数，X为卤原子或烷氧基。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119631019A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202380056457.1

申请日：2023-08-22

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 川上雄介 ,  山口和夫 ,  伊藤伦子

IPC: G03C1/72 ,  C07F7/18 ,  H01L21/288 ,  H10D30/67 ,  H10D30/01

Abstract: 一种感光性表面处理剂，其包含下述式(M1)所示的化合物。(式(M1)中，R1为氢原子或叔丁氧基羰基或酯系保护基团，R2为氢原子或碳原子数1～6的烷基，m为1以上的整数，X为卤原子或烷氧基)。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117813550A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280054650.7

申请日：2022-08-08

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 川上雄介 ,  山口和夫 ,  伊藤伦子

IPC: G03F7/004 ,  C07C323/16 ,  C07C329/06 ,  C08F20/38 ,  G03F7/38 ,  H01L21/288 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H10K71/20

Abstract: 一种感光性表面处理剂，包含下述式(1)所表示的化合物或由下述式(1)衍生的高分子化合物。[式(1)中，R1为氢原子或碳数1～5的烷基，R2及R3分别独立地为碳数1～3的烷基或碳数1～13的氟烷基，R4为氢原子或硝基，n1为0或1，Y为含聚合性基的基或碳数1～20的直链状或支链状的烷基]#imgabs0#

公开(公告)号：CN111183143B

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN201880065020.3

申请日：2018-10-03

Applicant: 株式会社尼康 ,  学校法人神奈川大学

Inventor： 川上雄介 ,  山口和夫 ,  伊藤伦子

IPC: C07F7/18 ,  C23C18/18 ,  C23C18/20 ,  C23C18/28 ,  C23C18/31 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H05K3/18

Abstract: 一种化合物，其由下述通式(1)所表示。[式中，X表示卤原子或烷氧基，R1是选自碳原子数为1～5的烷基、下述式(R2‑1)表示的基团、下述式(R2‑2)表示的基团中的任一种基团，R2是下述式(R2‑1)或(R2‑2)表示的基团，n0为0以上的整数，n1为0～5的整数，n2为1～5的自然数。]

公开(公告)号：CN110198946B

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN201880007674.0

申请日：2018-01-30

Applicant: 株式会社尼康 ,  学校法人神奈川大学

Inventor： 川上雄介 ,  山口和夫 ,  伊藤伦子

IPC: C07F7/18 ,  H01L21/28 ,  H01L21/288 ,  H01L21/336 ,  H01L29/417 ,  H01L29/423 ,  H01L29/49 ,  H01L29/786

Abstract: 一种化合物，其由下述通式(1)所表示。