测量处理装置、测量处理方法、测量处理程序和用于制造该装置的方法

    公开(公告)号:CN107076683B

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN201480083003.4

    申请日:2014-09-02

    Abstract: 一种用于X射线检查装置的测量处理装置,所述X射线检查装置利用检测单元检测穿过试样的X射线,以基于所获取的透射图像顺序地检查多个试样,所述测量处理装置包括:设置单元,用于在所述试样的一部分上设置待检查区域;确定单元,用于通过使用穿过所述待检查区域的X射线的透射图像来确定所述待检查区域的非缺陷;校正单元,用于基于所述确定单元的确定结果对所述待检查区域执行校正;以及显示控制单元,用于显示由所述校正单元校正后的待检查的校正区域。

    缺陷检测装置和缺陷检测方法

    公开(公告)号:CN101490538A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200780026859.8

    申请日:2007-07-27

    CPC classification number: G01N21/956 G01N21/21 G03F7/70625

    Abstract: 一种缺陷检查装置检查具有形成在表面上的图案的样品的缺陷。该缺陷检查装置设有:平台(11),样品(10)放置在该平台上,并且该平台可线性移动和旋转;光源(1);照明光学系统,其选择来自光源的任意的波长带并通过偏振器(7)和物镜(9)来落射照明样品表面;检测光学系统,其通过使由照明光学系统所应用的来自样品的表面的反射光通过物镜(9)和检偏器(12)来得到光瞳像,所述检偏器(12)与所述偏振器满足正交尼科尔条件;以及检测单元,其通过将所得到的光瞳像与预先存储的光瞳像相比较来检测样品的缺陷。在短时间内能判断被检查衬底上的图案的一致性。

    测量处理装置、测量处理方法和测量处理程序

    公开(公告)号:CN107076684B

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN201480083007.2

    申请日:2014-09-02

    Abstract: 一种用于X射线检查装置的测量处理装置,所述X射线检查装置检测穿过放置在放置单元上的试样的预定区域的X射线,以对所述试样的预定区域的形状进行检查,所述测量处理装置包括:设置单元,用于在所述试样上设置待检测的三维区域;以及切片选择单元,用于在所述待检测区域上设置多个切片区域,当所述多个切片区域被视为所述预定区域时,对于所述多个切片区域中的每一个切片区域,计算检测所述待检测区域所需的所述预定区域的位移量,并且基于每个计算的位移量,从所述多个切片区域中选择用于检查的切片区域。

    缺陷检测装置和缺陷检测方法

    公开(公告)号:CN101490538B

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN200780026859.8

    申请日:2007-07-27

    CPC classification number: G01N21/956 G01N21/21 G03F7/70625

    Abstract: 一种缺陷检查装置检查具有形成在表面上的图案的样品的缺陷。该缺陷检查装置设有:平台(11),样品(10)放置在该平台上,并且该平台可线性移动和旋转;光源(1);照明光学系统,其选择来自光源的任意的波长带并通过偏振器(7)和物镜(9)来落射照明样品表面;检测光学系统,其通过使由照明光学系统所应用的来自样品的表面的反射光通过物镜(9)和检偏器(12)来得到光瞳像,所述检偏器(12)与所述偏振器满足正交尼科尔条件;以及检测单元,其通过将所得到的光瞳像与预先存储的光瞳像相比较来检测样品的缺陷。在短时间内能判断被检查衬底上的图案的一致性。

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