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公开(公告)号：CN115510939A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210516517.0
申请日：2022-05-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06K9/62 , G06F16/50 , G06V10/764
Abstract: 本发明提供一种图像识别系统。在对图像中包含的形状进行识别的图像识别系统中，即使在图像内映现有多个形状的情况下，也能够针对这些形状的单独的预测结果判定其成功与否的技术。本发明所涉及的图像识别系统按照在图像内识别出的每个对象形状并且按照特征量的每个种类，计算特征量的重要度，按照每个所述对象形状对所述重要度和特征量的每个种类的统计量进行比较，由此判定识别结果是否正确。
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公开(公告)号：CN110352431A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201880014768.0
申请日：2018-03-15
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06K9/78
Abstract: 本发明的目的在于：兼顾对使用了识别器的图像识别所使用的对照图像进行学习的图像处理系统的数据量的抑制和识别器的识别性能提高。为了达到上述目的，提出一种具备使用对照图像来识别图像的识别器(9)的图像处理系统，该图像处理系统具备对图像识别所需要的对照图像数据进行机器学习的机器学习引擎(1)，该机器学习引擎使用识别失败了的图像(2)，搜索识别成功了的图像(3)，向通过该搜索得到的识别成功了的图像，附加根据通过上述输入装置选择出的上述识别失败了的图像的部分图像而得到的信息，生成修正对照图像数据(13)。
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公开(公告)号：CN105074896A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480009471.7
申请日：2014-02-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01L21/66 , G01N23/225
CPC classification number: G06T7/001 , G01N23/225 , G01N23/2251 , G01N2223/6113 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/221 , H01J2237/2817 , H01L22/12
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够求出用于适当地选择针对半导体器件的处理的评价结果的图案测定装置以及半导体测量系统。为了达到上述目的，本发明提出一种图案测定装置，其具备进行电子器件的电路图案和基准图案的比较的运算装置，该运算装置根据上述电路图案和基准图案之间的测量结果与至少2个阈值的比较，以电路图案的处理单位将该电路图案分类。
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公开(公告)号：CN118302790A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202180104385.4
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06T7/00
Abstract: 提供示教数据作成辅助装置，对于在图像内映有多个缺陷的图像，通过以还考虑其周边区域的形式确定每个缺陷的对应的特征量并映射到低维度空间，能进行有效率的学习图像的收集/选择。特征在于，具备：图像识别部，其基于学习结果来对输入图像提取特征量，根据所述特征量进行图像处理，输出识别结果；特征量确定部，其将所述图像识别部的1个以上的预测结果或指定区域作为输入，确定每个所述预测结果或所述指定区域的相应的所述特征量；检查结果特征量数据库，其保存每个所述预测结果或每个所述指定区域的所述特征量；和维度削减部，其对保存于所述检查结果特征量数据库的所述特征量进行维度削减并投影到低维度空间，所述特征量确定部具有：重要区域算出部，其按每个所述预测结果或每个所述指定区域来求取保持包含所述预测结果的检测区域或所述指定区域的周边的区域信息的重要区域；和特征量提取部，其通过对所述图像识别部所提取的所述特征量以所述重要区域进行加权，来提取每个所述预测结果或每个所述指定区域的相应的所述特征量。
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公开(公告)号：CN104718428B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201380052997.9
申请日：2013-10-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01B15/04 , G01N21/956 , G01N23/225 , G06T1/00 , H01L21/66
CPC classification number: G06T7/001 , G01B2210/56 , G06K9/4604 , G06K9/52 , G06T7/0002 , G06T7/13 , G06T2207/30168 , H01J37/244 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明提供一种图案的检查、测量装置，对检查或测量对象图案进行拍摄，使用从所得到的图像数据提取的边缘位置来进行检查或测量，能够降低噪声等的影响，提高检查或测量结果的可靠性。为此，图案的检查、测量装置的特征在于，对检查或测量对象图案进行拍摄，从所得到的图像数据利用边缘提取参数来提取边缘位置，利用该边缘位置来进行检查或测量对象图案的检查或测量，使用表示作为检查或测量的基准的形状的基准图案和所述图像数据来生成所述边缘提取参数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110352431B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN201880014768.0
申请日：2018-03-15
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06V10/98 , G06V10/772 , G06V10/774 , G06T7/00
Abstract: 本发明的目的在于：兼顾对使用了识别器的图像识别所使用的对照图像进行学习的图像处理系统的数据量的抑制和识别器的识别性能提高。为了达到上述目的，提出一种具备使用对照图像来识别图像的识别器(9)的图像处理系统，该图像处理系统具备对图像识别所需要的对照图像数据进行机器学习的机器学习引擎(1)，该机器学习引擎使用识别失败了的图像(2)，搜索识别成功了的图像(3)，向通过该搜索得到的识别成功了的图像，附加根据通过上述输入装置选择出的上述识别失败了的图像的部分图像而得到的信息，生成修正对照图像数据(13)。
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公开(公告)号：CN116157892A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202080105370.5
申请日：2020-09-29
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/22
Abstract: 提供一种在通过机器学习来进行低画质图像的画质改善的画质改善系统以及画质改善方法中，对于每次拍摄时图像容易变化的试样，也能够以适当的示教信息进行学习的高精度且高可靠性的画质改善系统以及画质改善方法。一种画质改善系统，其进行低画质图像的画质改善，其具备：画质改善部，其进行低画质图像的画质改善；变形预测部，其预测在所输入的低画质图像列中包含的第一低画质图像和与所述第一低画质图像不同的第二低画质图像之间产生的变形量；以及变形修正部，其基于由所述变形预测部预测出的所述变形量来修正对所述第一低画质图像应用所述画质改善部的处理而得到的第一预测图像、所述第二低画质图像、以及对所述第二低画质图像应用所述画质改善部的处理而得到的第二预测图像中的任意一个，进行学习使得所述变形修正部修正后的所述第一预测图像与所述第二低画质图像或所述第二预测图像的损失函数的评价变小，或者使得所述第一预测图像与所述变形修正部修正后的所述第二低画质图像或所述第二预测图像的损失函数的评价变小。
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公开(公告)号：CN114761990A
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202080082675.9
申请日：2020-01-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G06T1/40
Abstract: 本公开涉及以高效地进行特定部位的学习为目的的系统。为了实现该目的，提出一种系统，其构成为根据输入图像的输入来生成转换图像，其中，该系统包含以抑制与通过所述输入图像的输入而转换的第二图像之间的误差的方式调整了参数的学习模型，该学习模型至少在图像内的第一区域和与该第一区域不同的第二区域之间实施不同的学习。
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公开(公告)号：CN112449722A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201980005234.6
申请日：2019-07-04
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本公开涉及尺寸测量装置，缩短尺寸测量所需的时间和排除由操作员引起的误差。为此，使用在剖面图像整体范围内提取加工构造与背景之间的边界线及/或异种材料间的界面的边界线的第一图像识别模型、以及输出信息的第二图像识别模型，求出按照每个单位图案而预先定义的多个特征点的坐标，测量作为多个特征点中的规定的两点间的距离而定义的尺寸，该信息用于按照构成重复图案的每个单位图案来区分从第一图像识别模型得到的剖面图像整体的边界线。
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公开(公告)号：CN105074896B
公开(公告)日：2018-04-27
申请号：CN201480009471.7
申请日：2014-02-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01L21/66 , H01J37/28 , H01J37/22 , G01N23/225 , G06T7/00
CPC classification number: G06T7/001 , G01N23/225 , G01N23/2251 , G01N2223/6113 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/221 , H01J2237/2817 , H01L22/12
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够求出用于适当地选择针对半导体器件的处理的评价结果的图案测定装置以及半导体测量系统。为了达到上述目的，本发明提出一种图案测定装置，其具备进行电子器件的电路图案和基准图案的比较的运算装置，该运算装置根据上述电路图案和基准图案之间的测量结果与至少2个阈值的比较，以电路图案的处理单位将该电路图案分类。
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