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公开(公告)号：CN102041479B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201010522145.X
申请日：2010-10-22
Abstract: 本发明提供一种技术，其在使用Al-(Ni、Co)-(La、Nd)系合金或Al-(Ni、Co)-(La、Nd)-(Cu、Ge)系合金作为溅射靶时，能够降低飞溅、特别是初期飞溅的发生。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其含有从由Ni和Co构成的A组中选出的至少一种，和从由La和Nd构成的B组中选出的至少一种，测量在与所述溅射靶的轧制面垂直的截面中、与轧制方向平行的面中的轧制方向的晶粒直径时，平均晶粒直径为500μm以下，并且最大晶粒直径为1500μm以下。
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公开(公告)号：CN101469961A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN200810189875.5
申请日：2008-10-21
Applicant: 株式会社科倍可菱材料 , 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明提供一种断裂强度优异的热交换器用铜合金管，即使在二氧化碳及HFC系氟利昂等新制冷剂的高运转压力下被薄壁化，也可耐用，断裂强度优异。具有含有特定量的Sn、P的组成，平均晶粒直径为30μm以下，管的长度方向的抗拉强度为250MPa以上的高强度，其中，该铜合金管具有Goss方位的方位分布密度为4％以下的集合组织，从而使断裂强度提高。
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公开(公告)号：CN103348036A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201180066834.7
申请日：2011-12-20
IPC: C23C14/34 , C22C9/00 , C22C21/00 , H01L21/28 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/3407 , C22C1/02 , C22C9/00 , C22C21/00 , C23C14/3414
Abstract: 在将距Al基合金或Cu基合金溅射靶的最表面1mm以内的深度的溅射面法线方向的结晶方位 ±15°、 ±15°、 ±15°、 ±15°及 ±15°的合计面积率设为P值时，满足下述（1）及/或（2）的要件，由此可提高预溅射时以及接着进行的向基板等的溅射时的成膜速度，且能够抑制飞溅等溅射不良。其中，（1）相对于所述P值的 ±15°的面积率PA：40%以下，（2）相对于所述P值的 ±15°和 ±15°的合计面积率PB：20%以上。
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公开(公告)号：CN102102183A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010597854.4
申请日：2010-12-16
Abstract: 提供一种Al基合金溅射靶，其能够消除在溅射的初期阶段发生的问题(例如飞溅的个数的增加和所形成的薄膜的电阻的上升)，可以缩短预溅射时间。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其中，以JIS B0601(2001)所规定的方法测量溅射面的表面粗糙度时，算术平均粗糙度Ra为1.50μm以下，以及最大高度Rz为10μm以下，并且，将从粗糙度曲线的中心线至波峰或波谷的高度超过0.25×Rz的峰值高度分别设为P或Q，跨越基准长度100mm，依次计数P和Q时，P到紧邻其后出现的Q再到紧邻该Q后出现的P之间的间隔L的平均值为0.4mm以上。
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公开(公告)号：CN101960032A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980108047.7
申请日：2009-03-30
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 本发明的目的在于提供高温下的强度和延伸率优异，同时高温下的蠕变特性也优异的镁合金及其制造方法。本发明的镁合金通过在对分别含有特定量Y和Sm的镁合金铸造后实施固溶处理后进行热加工，进一步实施时效处理，从而减小组织的平均结晶粒径。而且，本发明通过获得Y和Sm在镁基体中固溶量与结晶粒内的特定大小的析出物个数的平衡，可获得高温下的强度和延伸率优异、同时高温下的蠕变特性优异的镁合金。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100557051C
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200580049707.0
申请日：2005-06-01
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C22C18/04 , B22D21/007 , B22D21/027 , C22C21/10 , C22C30/06 , C22F1/053 , C22F1/165
Abstract: 提供一种不仅静态变形能优异而且动态变形能也优异，还能够在大型结构物上应用的Zn-Al合金及其有效的制造方法。是含有Zn：30～99%(质量%的意思，下同)，余量由Al和不可避免的杂质构成的Zn-Al合金，是在平均晶粒径为5μm以下的α相或α’相中细密地分散有β相的组织，Al系夹杂物的最大径为50μm以下，并且不存在以圆当量直径计为0.5mm以上的孔隙，并且，Al的宏观偏析低于3.0%，Al的微观偏析低于2.0%。
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公开(公告)号：CN103154308A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180048311.X
申请日：2011-10-05
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F3/115 , B22F3/15 , B22F3/24 , C22C1/0416 , C22C21/00 , C22F1/04 , C23C16/45504 , C23C16/4585 , C23C16/4586
Abstract: 本发明提供使用了溅射钯时的成膜速度(溅射速率)被提高、理想的是能够防止飞溅的发生的Al基合金溅射钯。本发明的Al基合金溅射钯含有Ta。优选的是含有Al及Ta的Al-Ta系金属间化合物的平均粒子直径为0.005μm以上且1.0μm以下，且Al-Ta系金属间化合物的平均粒子间距离满足0.01μm以上且10.0μm以下。
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公开(公告)号：CN102770576A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201180010694.1
申请日：2011-02-25
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C21/00
Abstract: 本发明提供一种技术，其在使用Al基合金溅射靶时，即使进行高速成膜也能够抑制飞溅的发生。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其含有Ni和稀土元素，在利用背散射电子衍射像法对上述Al基合金溅射靶的表层部、1/4×t(t：Al基合金溅射靶的厚度)部、1/2×t部的各溅射面的法线方向的结晶方位 、 、 、 及 进行观察时，满足以下要件：(1)在将上述 ±15°、上述 ±15°及上述 ±15°的总面积率设为R(各处的R中，上述表层部为Ra，上述1/4×t部为Rb，上述1/2×t部为Rc)时，R为0.35以上且0.80以下，并且，(2)上述Ra、上述Rb及上述Rc在R平均值[Rave＝(Ra+Rb+Rc)/3]的±20％的范围内。
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公开(公告)号：CN102041479A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010522145.X
申请日：2010-10-22
Abstract: 本发明提供一种技术，其在使用Al-(Ni、Co)-(La、Nd)系合金或Al-(Ni、Co)-(La、Nd)-(Cu、Ge)系合金作为溅射靶时，能够降低飞溅、特别是初期飞溅的发生。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其含有从由Ni和Co构成的A组中选出的至少一种，和从由La和Nd构成的B组中选出的至少一种，测量在与所述溅射靶的轧制面垂直的截面中、与轧制方向平行的面中的轧制方向的晶粒直径时，平均晶粒直径为500μm以下，并且最大晶粒直径为1500μm以下。
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公开(公告)号：CN100453668C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200610144791.0
申请日：2006-11-14
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 提供一种具有优异延伸率的Zn-Al合金及其制备方法。Zn-Al合金包含68到88质量%范围内的Zn并且余量包括Al和不可避免杂质，且具有β相被细微分散于平均晶粒大小不超过5μm的各个α相或各个α’相内的组织，且在所述组织中的Al的宏观偏析值小于3%，其中片状组织在所述组织的中心部分内不高于30体积%，而且在所述组织的中心部分和表层区域之间的平均硬度之差不大于15%，因而所述Zn-Al合金在延伸率和均匀性上获得改善。
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