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公开(公告)号：CN110497307A
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201910404342.2
申请日：2019-05-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/20 , B24B37/34 , B24B53/017 , B24B49/10
Abstract: 本发明提供一种不受时间经过的影响，而能够使用研磨头准确地对研磨垫的研磨面进行检测的方法以及研磨装置。该方法一边从研磨头(1)向研磨垫(3)施加推力，一边使研磨头(1)向与研磨垫(3)的研磨面(3a)垂直的方向移动，在研磨头(1)的移动过程中，利用应变传感器(55)对头臂(12)的挠曲进行检测，该头臂支承研磨头(1)，确定与来自应变传感器(55)的输出信号达到预先设定的阈值的时间点对应的研磨头(1)的位置。
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公开(公告)号：CN107199503A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201710154731.5
申请日：2017-03-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 镰田修一
IPC: B24B37/10 , B24B37/34 , B24B37/32 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/005 , B24B37/0053 , B24B37/107 , B24B37/20 , B24B37/30 , B24B37/345 , B24B49/08 , B24B37/105 , B24B37/32 , B24B37/34 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，能够使用户了解再次执行基板脱离动作的重试动作的频率、倾向。研磨装置具有：基板保持部(1)，该基板保持部(1)将基板(W)按压于研磨垫(20)；流体喷射系统(93)，为了使基板(W)从基板保持面(4b)脱离，该流体喷射系统(93)向基板(W)与弹性膜(4)之间的间隙喷射流体(95)；动作控制部(51)，在基板(W)的脱离失败的情况下，该动作控制部(51)使流体喷射系统(93)执行再次喷射流体(95)的重试动作；以及监视装置(52)，该监视装置(52)存储重试动作的历史信息。
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公开(公告)号：CN107199503B
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201710154731.5
申请日：2017-03-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 镰田修一
IPC: B24B37/10 , B24B37/34 , B24B37/32 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/005 , B24B37/0053 , B24B37/107 , B24B37/20 , B24B37/30 , B24B37/345 , B24B49/08
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，能够使用户了解再次执行基板脱离动作的重试动作的频率、倾向。研磨装置具有：基板保持部(1)，该基板保持部(1)将基板(W)按压于研磨垫(20)；流体喷射系统(93)，为了使基板(W)从基板保持面(4b)脱离，该流体喷射系统(93)向基板(W)与弹性膜(4)之间的间隙喷射流体(95)；动作控制部(51)，在基板(W)的脱离失败的情况下，该动作控制部(51)使流体喷射系统(93)执行再次喷射流体(95)的重试动作；以及监视装置(52)，该监视装置(52)存储重试动作的历史信息。
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公开(公告)号：CN107275261A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710221204.1
申请日：2017-04-06
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: B24B37/005 , B24B37/20 , B24B37/30 , H01L21/67126 , H01L21/67253
Abstract: 一种基板处理装置，能降低将基板从弹性膜上剥离所需的时间的偏差。该基板处理装置包括：基板保持部，该基板保持部对基板进行保持；压力调节器，该压力调节器对供给至弹性膜内的气体的压力进行调节；控制部，该控制部对压力调节器进行控制，并且为了将基板从弹性膜上剥离而改变供给至弹性膜内的气体的压力。
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