阵列基板及其制备方法、显示面板

    公开(公告)号:CN119960239A

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202510316387.X

    申请日:2025-03-17

    Abstract: 本公开的实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板,涉及显示技术领域,用于提升阵列基板的制备良率。阵列基板包括:衬底,设于衬底上的多条第一信号线,设于多条第一信号线上的多条第二信号线,以及,设于多条第二信号线上的电极层。第一信号线沿第一方向延伸,第二信号线沿第二方向延伸,第二方向与第一方向相交叉。多条第一信号线和多条第二信号线相交叉,围成多个子像素区。电极层包括分别位于多个子像素区内的多个电极,及至少一条第一辅助信号线。其中,第一辅助信号线在衬底上的正投影,与目标信号线在衬底上的正投影有交叠,且第一辅助信号线与目标信号线之间通过至少一个第一连接通孔连接;目标信号线为第一信号线或第二信号线。

    显示面板、显示面板的制造方法与显示装置

    公开(公告)号:CN117850083A

    公开(公告)日:2024-04-09

    申请号:CN202410028816.9

    申请日:2024-01-08

    Abstract: 本公开提供了一种显示面板的制造方法、显示面板与显示装置,显示面板的制造方法包括:提供基板,所述基板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区;在所述基板的一侧形成导电层,所述导电层在所述基板上的正投影包括位于所述显示区上的第一部分和位于所述非显示区上的第二部分;在所述导电层背离所述基板的一侧形成光刻胶层;对所述光刻胶层进行图案化处理,以使所述光刻胶层覆盖所述导电层的所述第一部分并露出所述第二部分;对所述导电层的所述第二部分进行减薄处理,以使所述第二部分的厚度大于所述第一部分的厚度。本公开提供的显示面板的制造方法,实现了显示面板不同区域的膜厚需求。

    显示基板及其制备方法、显示装置

    公开(公告)号:CN118198139A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410288597.8

    申请日:2024-03-13

    Abstract: 本申请提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,显示基板包括基底;晶体管,位于基底一侧,包括第一有源层以及与第一有源层接触的第一极和第二极,第一有源层包括第一沟道部;第一电极层,绝缘设置在晶体管背离基底的一侧,并与第二极连接;第一绝缘层在基底上的正投影至少覆盖第一沟道部在基底上的正投影,如此使得第一绝缘层可以阻挡来自空气中的水蒸气进入到第一沟道部,确保第一沟道部不会因水蒸气的浸入而被损伤,提升晶体管的防水性能,同时,第一绝缘层在基底上的正投影与第一电极层在基底上的正投影无交叠,使得第一绝缘层的设置不会降低显示基板的光透过率,改善色偏。

    一种显示基板及其制备方法、显示面板

    公开(公告)号:CN117276281A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202210674626.5

    申请日:2022-06-14

    Abstract: 本公开实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示面板。显示基板,包括:衬底基板;金属导电层,位于衬底基板的一侧,金属导电层包括多个金属走线,金属走线包括远离衬底基板一侧的第一面;保护层,位于金属导电层的远离衬底基板的一侧,保护层位于金属走线所在的位置,保护层在衬底基板上的正投影至少包括金属走线的第一面在衬底基板上的正投影;第一绝缘层,位于保护层的远离衬底基板的一侧。本公开的技术方案,在形成第一绝缘层之前,采用包含有氧化性气体的前处理气体对显示基板进行前处理时,可以减少前处理气体对金属导电层表面的氧化,减少金属导电层表面的坑洞,减少刻蚀液、水汽的残留,减少对金属导电层的腐蚀。

    一种阵列基板及其制作方法、显示装置

    公开(公告)号:CN116864511A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202310907202.3

    申请日:2023-07-21

    Abstract: 本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,阵列基板包括:阵列排布的多个像素单元;各像素单元包括:第一孔区;第一孔区包括:依次层叠的衬底、栅极金属层、栅极绝缘层、源漏极、中间层和像素电极层;中间层在第一孔区设有第一过孔;源漏极设有第一凹槽,第一凹槽的开口连通第一过孔;像素电极层沿第一过孔和第一凹槽的内表面延伸,与源漏极电连接;其中,第一过孔靠近源漏极的一端开口在衬底上的正投影与第一凹槽的开口在衬底上的正投影交叠。本申请实施例利用第一过孔与投影交叠的第一凹槽在连通处形成台阶,有助于帮助液晶导向液的流动扩散,使液晶导向膜的厚度均匀,提高阵列基板的显示性能。

    一种阵列基板及其制备方法、显示装置

    公开(公告)号:CN115458533A

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202211137065.1

    申请日:2022-09-19

    Abstract: 本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域,包括:衬底;第一钝化层,设置在衬底的一侧,第一钝化层包括第一过孔;第二钝化层,设置在第一钝化层背离衬底的一侧,第二钝化层包括第二过孔,第二过孔包括重叠部分和位于重叠部分至少一侧的非重叠部分;其中,重叠部分在衬底上的正投影位于第一过孔在衬底上的正投影范围内;非重叠部分在衬底上的正投影与第一过孔在衬底上的正投影无交叠,以使第二过孔与第一过孔交错设置。通过本申请实施例提供的一种阵列基板及其制备方法、显示装置,可以减少出现有机材料无法流动至过孔内的情况。

    一种显示面板及其制备方法、显示装置

    公开(公告)号:CN117199082A

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN202311279181.1

    申请日:2023-09-28

    Abstract: 本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,属于显示技术领域,包括:衬底基板;第一金属层,设置在衬底基板的一侧,第一金属层包括图形化的扫描线和栅极;绝缘层,设置在第一金属层背离衬底基板的一侧,绝缘层上开设有贯穿绝缘层的第一通孔,第一通孔在衬底基板上的正投影位于扫描线在衬底基板上的正投影范围内;第二金属层,设置在绝缘层背离衬底基板的一侧,第二金属层覆盖绝缘层,且第二金属层通过第一通孔与扫描线接触。通过本申请实施例提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置,可以减小因金属层间接触过孔失效导致的不良,降低缺陷发生率,提高显示面板的品质。

    一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及电子设备

    公开(公告)号:CN116682786A

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202310735866.6

    申请日:2023-06-20

    Abstract: 本公开提供了一种阵列基板的制备方法、阵列基板以及电子设备,包括:在基板表面依次制备栅极和第一走线、栅极绝缘层、半导体有源层和光刻胶层;利用预设掩膜板对光刻胶层的第一区域进行遮光,对光刻胶层的第二区域进行完全曝光,对光刻胶层的第三区域进行部分曝光;对光刻胶层进行显影处理,使第一区域的光刻胶完全保留,第二区域的光刻胶被完全去除,第三区域的光刻胶被部分去除;对基板进行刻蚀处理,形成过孔,过孔贯穿栅极绝缘层以暴露至少部分第一走线;在基板上制备源漏电极和第二走线,源漏电极和第二走线利用相同材料和制备工艺制成,第二走线通过过孔与第一走线电连接。本公开有效缩短制备周期并降低制备成本,提升阵列基板信赖性。

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