公开(公告)号：CN118866788A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202411080554.7

申请日：2024-08-07

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 汤宋波 ,  严大 ,  范方宇

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/673 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明公开一种分料方法及片材转移方法，其中，分料方法由分料装置执行，分料装置用于物料由拾取装置向第一载料装置的转移，第一载料装置的容纳数量为X，拾取装置的拾取数量为Y，其中，2Y>X>Y，（2Y‑X）/（X‑Y）=M，M为正整数，分料方法包括：步骤S110，将拾取装置拾取的Y片物料放入空载的第一载料装置中；步骤S120，将拾取装置再次拾取的Y片物料中的（2Y‑X）片进行缓存、剩余的（X‑Y）片放入第一载料装置中，并更换新的空载的第一载料装置；步骤S130，将缓存物料中的（X‑Y）片以及拾取装置再次拾取的Y片物料一同放入空载的第一载料装置，并更换新的空载的第一载料装置；步骤S140，判断步骤S130的执行次数是否小于M，若是，重复执行步骤S130。

公开(公告)号：CN118016550A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202410176312.1

申请日：2024-02-07

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 廖宝臣 ,  杨柳 ,  张鹏 ,  范方宇 ,  严大

IPC: H01L21/66 ,  H01L31/18

Abstract: 本公开涉及一种用于监控边缘钝化效果的装置与方法。在一实施例中，用于监控边缘钝化效果的装置包括：一或多个载具，其中所述一或多个载具的每一者经配置以容置一或多片切割小片并曝露所述一或多片切割小片的至少一侧切割后侧表面；以及一或多个监控片，其邻近所述一或多片切割小片的至少一侧切割后侧表面，其中所述一或多个监控片中的至少一者经配置以与所述一或多片切割小片的至少一侧切割后侧表面同时沉积钝化膜。

公开(公告)号：CN117755645A

公开(公告)日：2024-03-26

申请号：CN202311781574.2

申请日：2023-12-22

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 张鹏 ,  严大 ,  范方宇

IPC: B65D25/10 ,  H01L21/677 ,  B65D25/02 ,  B65D81/02 ,  B65D85/30

Abstract: 本发明公开一种载具及载具用齿杆，其中，载具用齿杆包括杆部和齿部，所述齿部的数量为多个，各所述齿部沿所述杆部的延伸方向间隔布置，各所述齿部均包括在所述延伸方向上相对设置的两个第一齿侧面，相邻的两所述齿部的相邻两所述第一齿侧面之间形成容纳槽，所述齿部包括齿尖端和齿根端，所述齿根端和所述杆部相连；在所述齿尖端指向所述齿根端的方向上，所述容纳槽渐缩设置，所述第一齿侧面包括多个面部，相邻的两所述面部之间平滑连接。上述载具用齿杆不易对硅片造成划伤脱晶，有利于保证硅片的质量。

公开(公告)号：CN116960044A

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202310847528.1

申请日：2023-07-11

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 熊福祥 ,  高世松 ,  严大 ,  范方宇 ,  汤宋波

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/68 ,  H01L31/18 ,  H01L21/677

Abstract: 本申请提供了一种基材抓取机构、基材移转装置以及基材移转方法，该机构包括至少一个吸附单元，每个吸附单元包括第一吸盘组件、第二吸盘组件以及精调组件。第一吸盘组件用于吸附第一基材；第二吸盘组件在第一方向与第一吸盘组件相对设置，用于吸附第二基材；精调组件设置于第一吸盘组件和/或第二吸盘组件，用于调节第一吸盘组件和第二吸盘组件在第二方向上的相对位置，第二方向与第一方向相交；其中，第一吸盘组件和第二吸盘组件可以在第一方向上相互靠近至第一基材和第二基材在第二方向上交替排列，或第一吸盘组件和第二吸盘组件可以在第一方向上相互远离。本申请的基材抓取机构提高工作效率的同时可防止基材划伤。

公开(公告)号：CN116516317B

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202310389574.1

申请日：2023-04-12

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 杨柳 ,  廖宝臣 ,  严大 ,  范方宇

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/40 ,  C23C16/52 ,  H01L21/673 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明提供的一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法，载体舟包括舟体和前置匀流板，所述舟体内部设有两端开口的放置腔，所述放置腔内适于放置若干间隔设置的待处理件，前置匀流板设于所述舟体内放置腔一端开口处，以填充所述舟体内放置腔开口端；其中，所述前置匀流板内设有若干间隔设置的第一阻隔件，且相邻所述第一阻隔件间的第一间隙与相邻所述待处理件间的第二间隙相连通，在外界由氮气携带的反应源从源瓶内通过前置匀流板时，由于前置匀流板为密集分布的多个前置阻隔件等间距组合而成，前置匀流板能够通过其上的前置阻隔

公开(公告)号：CN116487313A

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN202310486351.7

申请日：2023-04-28

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 范方宇 ,  严大 ,  周仁

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本申请公开了一种吸盘组件及上下料系统，该吸盘组件包括：吸盘片，吸盘片包括相背设置的第一表面和第二表面，第一表面设置有多个真空气槽口；至少一个密封件，设置于吸盘片的第一表面的一侧；密封件背离第一表面一侧齐平，密封件背离第一表面一侧凸出于第一表面；真空气槽口在第一表面上的正投影位于密封件在第一表面上的正投影的外轮廓内。通过上述方式，可以减少吸盘组件吸附待吸附件时所带来的吸盘印和划伤，减少待吸附件因吸盘组件导致的质量问题。

公开(公告)号：CN116426905A

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202310494251.9

申请日：2023-05-05

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 施述鹏 ,  严大 ,  范方宇

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/455

Abstract: 本申请涉及一种处理设备及处理设备，包括腔本体、载具和喷淋件，腔本体具有腔室。载具可操作地设置在腔室内，且被构造为能够沿第一方向引流，并用于承载被布置于载具的引流路径上的基片。喷淋件设置于腔室内，并盖合于载具在第一方向上的入口端，喷淋件用于向载具输送气体。本申请的技术方案，由于载具自身能够引流，在载具与腔本体之间无需设置其他气流结构，在腔本体体积不变的情况下，载具的体积可以做的更大，如此载具所承载的基片的数量更多，处理设备的空间利用率更大，处理设备的产量和效率更高。而且，能够兼顾各个基片的反应环境基本不变，基片镀膜质量较好。同时，无需扩大腔本体的体积，处理设备成本较低。

公开(公告)号：CN119040856A

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202411183116.3

申请日：2024-08-27

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 杨柳 ,  廖宝臣 ,  范方宇

IPC: C23C16/455 ,  H01L31/18

Abstract: 本申请公开了一种原子层沉积镀膜方法，该镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，镀膜循环工艺包括：向容置有基体的反应装置内通入第一工艺气体，其中，第一工艺气体包括第一反应气体和惰性气体，且第一工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使第一工艺气体扩散吸附至基体的待镀膜表面；对反应装置进行第一吹扫处理；向反应装置内通入第二工艺气体，其中，第二工艺气体包括第二反应气体和惰性气体，且第二工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使第二工艺气体扩散吸附至基体的待镀膜表面；对反应装置进行第二吹扫处理。通过上述方式，本申请能够保证沉积钝化膜的效果的同时降低绕镀问题。

公开(公告)号：CN115852335A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202211269722.8

申请日：2022-10-17

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 严大 ,  施述鹏 ,  范方宇

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/52 ,  C23C16/54

Abstract: 本申请提供了一种镀膜设备及镀膜方法。镀膜设备包括第一腔体、第二腔体和输送组件。第一腔体用于将产品加热至预定温度，第二腔体用于对产品进行镀膜。输送组件用于将第一腔体内加热完成的产品运送至第二腔体内。其中，第一腔体的开口与第二腔体的开口位于同一侧，输送组件通过开口对产品进行取放。本申请能够在第一腔体对产品进行预热，减少产品的加工时间，提高镀膜设备的生产效率。

公开(公告)号：CN118866787A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202411080548.1

申请日：2024-08-07

Applicant: 江苏微导纳米科技股份有限公司

Inventor： 汤宋波 ,  严大 ,  范方宇

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/673 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明公开一种分料装置及片材转移设备，该分料装置用于物料在拾取装置和第一载料装置之间的转移，包括分料单元，分料单元包括第一分料组件和第二分料组件，第一分料组件包括能够沿第一方向进行位移的第一托料部，第二分料组件包括能够沿第二方向进行位移的第二托料部，第一方向和第二方向呈夹角设置，第一托料部用于向第一载料装置放料，第一托料部用于将物料自第一载料装置取出；分料单元具有第一工作模式和第二工作模式；在第一工作模式下，第一托料部单独进行工作；在第二工作模式下，第一托料部和第二托料部均进行工作，第二托料部能够带走第一托料部的部分物料进行缓存，或者，第二托料部所缓存的物料能够至少部分地提供至第一托料部。