用于利用p偏振辐射的平视显示器(HUD)的投影装置

    公开(公告)号:CN111433022A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN201980003505.4

    申请日:2019-10-25

    Abstract: 本发明涉及用于平视显示器(HUD)的投影装置,至少包括-复合玻璃板(10),其包括外玻璃板(1)和内玻璃板(2),它们通过热塑性中间层(3)彼此连接,所述复合玻璃板具有HUD区域(B);-导电涂层(20),其在外玻璃板(1)或内玻璃板(2)的朝向中间层(3)的表面(II,III)上或者在中间层(3)内,和-投影仪(4),其对准HUD区域(B);其中投影仪(4)的辐射是p偏振的,其中具有导电涂层(20)的复合玻璃板(10)在450 nm至650 nm的整个光谱范围内具有至少10%的对于p偏振辐射的反射率,和其中导电涂层(20)包括三个导电层(21),所述导电层各自布置在两个介电层或层序列之间,其中所有导电层(21)的厚度之和为最高30nm,并且其中导电层(21)具有5 nm至10 nm的厚度。

    具有可加热TCO涂层的玻璃板

    公开(公告)号:CN110506448A

    公开(公告)日:2019-11-26

    申请号:CN201880025626.4

    申请日:2018-03-19

    Abstract: 本发明涉及具有可加热涂层的玻璃板,其包括基底(1)和在基底(1)的暴露表面上的可加热涂层(2),所述可加热涂层至少包括-导电层(4),其含有透明导电氧化物(TCO)并具有1 nm至40 nm的厚度,和-在导电层(4)上方的用于调节氧扩散的介电阻隔层(5),所述介电阻隔层含有金属、氮化物或碳化物并具有1 nm至20 nm的厚度,其中所述玻璃板具有至少70%的在可见光谱范围内的透射率且所述涂层(2)具有50欧姆/方至200欧姆/方的面电阻。

    用于利用p偏振辐射的平视显示器(HUD)的投影装置

    公开(公告)号:CN111433022B

    公开(公告)日:2023-01-13

    申请号:CN201980003505.4

    申请日:2019-10-25

    Abstract: 本发明涉及用于平视显示器(HUD)的投影装置,至少包括复合玻璃板(10),其包括外玻璃板(1)和内玻璃板(2),它们通过热塑性中间层(3)彼此连接,所述复合玻璃板具有HUD区域(B);导电涂层(20),其在外玻璃板(1)或内玻璃板(2)的朝向中间层(3)的表面(II,III)上或者在中间层(3)内,和投影仪(4),其对准HUD区域(B);其中投影仪(4)的辐射是p偏振的,其中具有导电涂层(20)的复合玻璃板(10)在450 nm至650 nm的整个光谱范围内具有至少10%的对于p偏振辐射的反射率,和其中导电涂层(20)包括三个导电层(21),所述导电层各自布置在两个介电层或层序列之间,其中所有导电层(21)的厚度之和为最高30nm,并且其中导电层(21)具有5 nm至10 nm的厚度。

    借助PECVD磁控管法用类金刚石碳进行涂覆

    公开(公告)号:CN110914468A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201880049489.8

    申请日:2018-07-19

    Abstract: 本发明涉及在安置了带有靶(9)的磁控管(10)和基底(1)的真空室(3)中使用借助磁控靶生成等离子体的PECVD法(磁控管PECVD)用类金刚石碳(DLC)层涂覆基底(1)的方法,其中所述方法包括将至少一种反应物气体引入在真空室中由磁控靶(9)生成的等离子体中,因此形成反应物气体的片段,所述片段沉积在基底(1)上以形成DLC层。根据本发明的方法适于用DLC层大面积涂覆基底(1),例如玻璃板。所得DLC层在耐划伤性和光学性质方面具有出色质量。根据本发明的方法可用常规沉积装置实施。基底加热不是必要的。

    涂有低辐射多层的基底
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105026330B

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201480010838.7

    申请日:2014-02-25

    Abstract: 本发明涉及包含在其至少一个面的至少一部分上涂有薄膜多层的基底(1)的材料,所述薄膜多层包含至少两个基于透明导电氧化物的膜(2,3),所述膜通过至少一个电介质中间膜(4)分隔,所述电介质中间膜的物理厚度为最多50纳米,在所述基于透明导电氧化物的膜(2,3)之间没有沉积金属膜,所述多层进一步包含在距离基底(1)最远的基于透明导电氧化物的膜(2)之上的至少一个氧阻隔膜(6),各个基于透明导电氧化物的膜(2,3)具有20至80纳米的物理厚度。

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