公开(公告)号：CN119530809A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411593991.9

申请日：2024-11-08

Applicant: 浙江奥首材料科技有限公司

Inventor： 侯军 ,  彭仁杰 ,  付宇 ,  滕越 ,  邓璐瑶

IPC: C23F1/26

Abstract: 本发明涉及一种用于不同厚度TiAlTi基板的蚀刻液及其制备方法与应用。所述的用于不同厚度TiAlTi基板的蚀刻液，按照重量份计算，包括如下组分：有机酸10‑20份；无机酸40‑50份；有机溶剂10‑20份；添加剂0.5‑1份；超纯水10‑25份。本发明采用1‑(3‑((4‑(2‑氟苯基)哌嗪‑1‑基)甲基)‑4‑甲氧基苯基)‑2,3,4,9‑四氢‑1H‑吡啶并[3,4‑B]吲哚‑3‑羧酸和另一种有机酸组合，1‑(3‑((4‑(2‑氟苯基)哌嗪‑1‑基)甲基)‑4‑甲氧基苯基)‑2,3,4,9‑四氢‑1H‑吡啶并[3,4‑B]吲哚‑3‑羧酸提供的F离子可以针对钛进行蚀刻，另一种有机酸与1‑(3‑((4‑(2‑氟苯基)哌嗪‑1‑基)甲基)‑4‑甲氧基苯基)‑2,3,4,9‑四氢‑1H‑吡啶并[3,4‑B]吲哚‑3‑羧酸中含有苯环可以吸附在金属表面均匀蚀刻金属层。

公开(公告)号：CN118755533A

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202410745702.6

申请日：2024-06-11

Applicant: 浙江奥首材料科技有限公司

Inventor： 侯军 ,  吕晶 ,  任浩楠 ,  付宇

IPC: C11D7/40 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/60 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种长寿命低腐蚀芯片光刻胶清洗液及其制备方法与应用。所述长寿命低腐蚀芯片光刻胶清洗液，按照重量份计算，包括如下组分：有机强碱5‑15份；有机溶剂50‑80份；保护剂0.5‑2份；醇胺10‑30份；超纯水30‑50份。本发明采用生物碱作为有机强碱，通过生物碱和醇胺的组合协同增效实现清洗效果增强，提高光刻胶的清洗效率。本发明通过采用烷基亚砜类有机溶剂和磺酰唑类保护剂的组合，对金属具有较小的腐蚀速率。采用本发明的清洗液清洗芯片，无需超声处理，仅经过浸泡或喷淋即可除去基材上的各种杂质，去污效果干净彻底，无污染物残留。

公开(公告)号：CN118272167A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202410469997.9

申请日：2024-04-18

Applicant: 浙江奥首材料科技有限公司

Inventor： 侯军 ,  吕晶 ,  任浩楠 ,  付宇

IPC: C11D1/78 ,  B08B3/08 ,  B08B3/02 ,  G03F7/42 ,  C11D3/22 ,  C11D3/30 ,  C11D3/382 ,  C11D3/20 ,  C11D3/60

Abstract: 本发明涉及一种高分散芯片光刻胶清洗剂，按照重量份数计算，包括如下组分：季铵碱化合物1‑15份；纤维素衍生物0.5‑2份；醇胺1‑8份；表面活性剂0.5‑2份；有机溶剂30‑50份；超纯水40‑60份。本发明的纤维素衍生物分子间氢键可与季铵碱化合物分子以氢键结合，且增加纤维素衍生物中氢键的活性，水分子进入后氢键即刻断裂，崩解迅速，纤维素链重新接合，使季铵碱化合物分子与光刻胶充分接触，提高清洗速度。纤维素衍生物崩解后与醇胺结合生成分子保护膜附着在金属表面，降低金属腐蚀速率；表面活性剂良好的分散性可以促进清洗剂分解剥离光刻胶；醇胺可以提高清洗剂寿命。本发明清洗剂环保、无污染、仅用纯水冲洗即可，对环境和人体无伤害。