一种钛酸钡钙纳米晶介质材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN114105190A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202111473109.3

    申请日:2021-12-02

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种钛酸钡钙纳米晶介质材料及其制备方法。所述钛酸钡钙粉体的制备方法包括如下步骤:按照式Ⅰ的化学计量比混合碳酸钡、二氧化钛和碳酸钙,加入水和分散剂得到浆料;将浆料进行砂磨得到粉体浆料;粉体浆料依次经烘干、过筛和煅烧得到钛酸钡钙粉体。本发明通过两步煅烧工艺,在低温下完成有机物分解和固相反应,在高温下使得晶格畸变,短暂保温抑制晶粒长大,获得了晶粒尺寸50~200nm,c/a≥1.008的纳米晶钛酸钡钙介质粉体,可作为基体材料用于大容量、小型化、高可靠的多层陶瓷电容器,具有重要的应用前景。(Ba1‑xCax)mTiO3 式Ⅰ。

    一种适用于超薄层贱金属内电极多层陶瓷电容器的X7R/X8R介质粉体及制备方法

    公开(公告)号:CN114188155A

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202111462056.5

    申请日:2021-12-02

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种适用于超薄层贱金属内电极多层陶瓷电容器的X7R/X8R介质粉体及制备方法。所述具有核‑壳结构的陶瓷粉体的核部为钛酸钡粉体或钛酸钡钙粉体,壳部为复合氧化物包覆层,复合氧化物包覆层采用的氧化物包括BaO、CaO、SiO2、Y2O3、MgO、MnO2、Al2O3和Re2O3中至少一种,Re表示镧系元素。本发明提供了晶粒尺寸30~120nm的掺杂改性介质粉体,并以此制备介质层厚度≤1μm的超薄层贱金属内电极多层陶瓷电容器。本发明提供的介质粉体性能优异,其室温介电常数(圆片样品)可达1500~3000,介电损耗

    一种适用于耐高压、高可靠性的X8R型BCZT基BME-MLCC介质材料及制备方法

    公开(公告)号:CN114057483A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202111461897.4

    申请日:2021-12-02

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种适用于耐高压、高可靠性的X8R型BCZT基BME‑MLCC介质材料及制备方法。所述BCZT基介质材料的分子式如式Ⅰ所示:式Ⅰ中,(Ba1‑xCax)(Ti1‑y‑zCayZrz)O3中,x表示A位中Ca的摩尔分数,0.01≤x≤0.05,y表示B位中Ca的摩尔分数,0.01≤y≤0.05,z表示Zr的摩尔分数,0.01≤z≤0.05。本发明采用的BCZT相比广泛使用的BaTiO3,其居里温度可以达到125~135℃,通过化学包覆改性,可以使介质材料室温介电常数达到1800~2800,并满足更高的使用温度要求,进而制备出满足X8R特性的MLCC抗还原性介质材料。本发明BCZT基耐高压、高可靠性的X8R型超薄层BME‑MLCC的介质材料研究具有重要的实际应用意义。(Ba1‑xCax)(Ti1‑y‑zCayZrz)O3‑MgO‑MnO2‑BaCO3‑SiO2‑R2O3式I。

    可重构三维微结构的力电耦合加载平台及其制备方法

    公开(公告)号:CN111333026A

    公开(公告)日:2020-06-26

    申请号:CN202010151099.0

    申请日:2020-03-06

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明提出一种可重构三维微结构的力电耦合加载平台及其制备方法,加载平台包括:力加载组件,力加载组件包括底盘、多个夹持件、移动机构和弹性基底,多个夹持件中的至少一个连接于移动机构,夹持件夹持弹性基底,弹性基底为膜状,移动机构能够驱动夹持件移动,通过夹持件移动能够使弹性基底产生形变;以及电加载组件,电加载组件包括导线,导线连接到弹性基底并用于向弹性基底通电,弹性基底的正反两面通过导线分别连接电源的正极和负极,弹性基底由电致活性聚合物制成。通过采用上述技术方案,将力加载组件和电加载组件结合可以相比于现有技术形成更丰富的可重构三维微结构构型,并且容易使三维微结构实现快速重构。

    转印装置及其制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110228283A

    公开(公告)日:2019-09-13

    申请号:CN201910648592.0

    申请日:2019-07-18

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本公开涉及一种转印装置及其制造方法。该装置包括:多个转印吸附部件,其正极电极和负极电极设置于绝缘填充层中、且被绝缘填充层中绝缘填充物分隔;可拉伸层,位于绝缘填充层上方,正极电极引线和负极电极引线位于绝缘填充层和可拉伸层中并延伸出可拉伸层;电介质层位于绝缘填充层的下方,覆盖绝缘填充层,用于与承载有待转印部件的施主基底接触,每个待转印部件所在位置与至少一个转印吸附部件相对应;多个转印吸附部件中的一个或多个通电后,转印吸附部件利用通电产生的静电吸附力与对应的待转印部件吸附在一起,以便于将其从施主基底上脱离,能够实现快速、高分辨率、可选择性、可编程性转印、成本低、可靠性高、适用范围广。

    基于静电吸附的快速、选择性转印装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN110228283B

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN201910648592.0

    申请日:2019-07-18

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本公开涉及一种转印装置及其制造方法。该装置包括:多个转印吸附部件,其正极电极和负极电极设置于绝缘填充层中、且被绝缘填充层中绝缘填充物分隔;可拉伸层,位于绝缘填充层上方,正极电极引线和负极电极引线位于绝缘填充层和可拉伸层中并延伸出可拉伸层;电介质层位于绝缘填充层的下方,覆盖绝缘填充层,用于与承载有待转印部件的施主基底接触,每个待转印部件所在位置与至少一个转印吸附部件相对应;多个转印吸附部件中的一个或多个通电后,转印吸附部件利用通电产生的静电吸附力与对应的待转印部件吸附在一起,以便于将其从施主基底上脱离,能够实现快速、高分辨率、可选择性、可编程性转印、成本低、可靠性高、适用范围广。

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