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公开(公告)号：CN116888538B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202280016524.2
申请日：2022-01-07
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种产品，其包含半导体衬底，具有至少第一及第二薄膜层，所述薄膜层安置于所述衬底上，且被图案化以界定由切割道分隔且含有由所述切割道外切的有源区域的裸片的矩阵。多个叠加目标形成于所述有源区域中的每一者内的所述第一及第二薄膜层中，每一叠加目标在平行于所述衬底的平面中具有不大于10μm×10μm的尺寸。所述多个叠加目标包含形成于所述第一薄膜层中且具有第一光栅向量的第一线性光栅，及形成于所述第二薄膜层中、靠近所述第一线性光栅且具有平行于所述第一光栅向量的第二光栅向量的第二线性光栅。
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公开(公告)号：CN119301421A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202380042930.0
申请日：2023-07-21
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 公开用于产生体积数据的系统及方法。此类系统及方法能够包含在沿样本的深度方向定位的多个焦平面处扫描所述样本。此类系统及方法能够包含经由度量衡子系统的检测器在所述多个焦平面处产生所述样本的体积视场的多个图像。此类系统及方法能够包含聚集所述多个图像以产生所述样本的所述体积视场的体积数据。所述度量衡子系统能够包含林尼克干涉仪。
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公开(公告)号：CN113739694B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202111036968.6
申请日：2017-09-14
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , 安迪(安德鲁)·希尔
IPC: G01B9/02015 , G03F7/20
Abstract: 本申请实施例涉及用于优化以成像为基础的覆盖度量的聚焦的系统及方法。本发明揭示用于凭借具有光学相干断层摄影术OCT聚焦系统的干涉仪装置通过分别引导经重叠测量波前及参考波前朝向聚焦传感器及朝向成像传感器进行聚焦且测量的方法及系统；其中引导所述经重叠波前的预定义聚焦照明光谱朝向所述聚焦传感器，且其中引导所述经重叠波前的预定义测量照明光谱朝向所述成像传感器。本发明揭示用于在样品的载物台移动期间，维持具有OCT聚焦系统的干涉仪装置的聚焦的方法及系统。
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公开(公告)号：CN112859540B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202110100880.X
申请日：2016-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本申请实施例涉及成像计量目标及方法。本发明提供计量工具及方法，其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应，及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中，可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件(减小光谱宽度及照明NA)、使用偏光目标及/或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。
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公开(公告)号：CN118311056A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410419802.X
申请日：2021-06-29
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： A·玛纳森 , A·V·希尔 , Y·瓦克宁 , Y·西蒙 , D·内格里 , V·莱温斯基 , Y·帕斯卡维尔 , A·戈洛塔斯万 , N·罗斯曼 , N·K·雷迪 , N·本大卫 , A·阿布拉莫夫 , D·雅科夫 , Y·于齐耶尔 , N·古特曼
IPC: G01N21/956 , H01L21/66 , G01N21/88 , G01N21/95 , G03F7/00
Abstract: 本申请涉及增强重叠计量的性能。一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118302845A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202380014653.2
申请日：2023-05-19
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种计量系统可将分布于一或多个样本上的多个场中的多个计量目标的计量测量布置成信号向量，其中在所述信号向量内对与所述多个场中的每一者中的所述计量目标相关联的所述计量测量进行分组。所述系统可进一步将所述信号向量分解成与所述信号向量的不同光谱分量相关联的重建向量。所述系统可进一步将所述重建向量的子集分类为计量模型的分量，其中所述分量的总和对应于描述对所述一或多个样本的所述计量测量的计量模型。所述系统可进一步基于所述计量模型产生用于控制一或多个处理工具的控制信号。
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公开(公告)号：CN112698551B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN117480377A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202280038375.X
申请日：2022-08-19
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/47
Abstract: 一种叠加计量工具可包含照明源，其用于产生具有第一线性偏振的第一照明光束分布及具有正交于所述第一线性偏振的第二线性偏振的第二照明光束分布；照明子系统，其用于依序照明具有正交定向的光栅叠置结构的样本上的叠加目标的两个或更多个单元对；集光子系统，其具有用于捕获来自经照明单元对的经收集光的两个集光通道；及滤波光学器件，其用于将来自经照明单元对中的不同单元的光引导到不同集光通道以供检测。所述工具可进一步包含用于产生所述两个或更多个单元对中的正交定向的光栅叠置结构的分开的叠加测量的控制器。
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公开(公告)号：CN111433559B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN201880078008.6
申请日：2018-09-24
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01B11/27 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F7/20 , H01L23/544
Abstract: 本发明提供减少噪声且增强测量准确度的计量目标设计、设计方法及测量方法。所揭示的目标包括与测量方向正交的额外周期性结构，给定目标结构沿所述测量方向具周期性。例如，除成像或散射测量目标中的沿每一测量方向的两个或更多个周期性结构之外，还可引入第三正交周期性结构，此提供正交方向上的额外信息，并且可用于减少噪声、增强准确度且启用机器学习算法的应用以进一步增强准确度。可关于正交周期性结构逐切片分析信号，所述正交周期性结构可以过程兼容方式集成于成像及散射测量目标两者中。
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